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1.
用导纳谱技术研究了两类Si基量子阱样品基态子能级的性质.基于量子阱中载流子的热激发模型,从导纳谱中得到的激发能值被认为是阱中重空穴基态位置到阱顶的距离.对于SiGe合金和Si形成的组分量子阱,主要研究了退火对重空穴基态子能级的影响.发现样品的退火温度为800℃时,随退火时间延长,激发能增加.对此现象的解释是,由于Si,Ge互扩散,导致界面展宽,量子限制效应降低,重空穴基态位置下降,从而激发能增加.900℃下退火,由于扩散系数增大和应变弛豫加强,激发能值单调下降,量子限制效应引起的变化被掩盖.对于B高浓度超
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采用建立在经验赝势理论基础上的推广k·p方法及电流密度算符技术,计算了生长在Ge0.3Si0.7(001)衬底上的量子阱Ge0.3Si0.7/Si/Ge0.3Si0.7的导带电子束缚能级.详细地研究了因能谷间相互作用而引起的能级分裂情况,同时也讨论了电子束缚能级在阱平面方向上的色散关系
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采用包络函数方法对生长在Ge0.3Si0.7(001)衬底上势垒区δ掺杂量子阱Ge0.3Si0.7/Si/Ge0.3Si0.7的电子能带结构及子带间光吸收特性进行了自洽的计算.对光吸收系数与量子阱的阱宽、δ掺杂位置及δ掺杂密度间的变化关系进行了讨论.最后对由高浓度的二维电子气的退极化效应所引起的频率位移进行了研究
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用深能级瞬态谱和光致发光研究了无背接触层的CdS/CdTe薄膜太阳电池的杂质分布和深能级中心.得到了净掺杂浓度在器件中的分布.确定了两个能级位置分别在EV+0365 eV和EV+0282 eV的深中心,它们的浓度分别为167×1012 cm-3和386×1011 cm-2,俘获截面分别为143×10-14cm2和153×10-16cm2.它们来源于以化学杂质形式存在的Au和(或)TeCd-复合体,或与氩氧气氛下沉积CdTe时的氧原子相关.
关键词:
深能级瞬态谱
光致发光
CdS/CdTe太阳电池 相似文献
6.
将DLTS用于对InAs/GaAsQD结构样品的测量,测定了QD能级发射载流子的热激活能;获得了QD能级俘获电子过程伴随有多声子发射(MPE)、QD能级存在一定程度的展宽、以及在某些特定的生长条件下,存在亚稳生长构形的实验证据.结果表明:DLTS在QD体系的研究中有其特有的功能 相似文献
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通过测量GeSi多量子阱的红外谱,同时观察到了相应于量子阱内重空穴基态HH1到重空穴激发态HH1、轻空穴激发态LH1和自旋分裂带SO及连续态间的跃迁吸收.测量了GeSi多量子阱探测器的正入射光电流谱,看到了明显的光响应峰.理论计算中计及了轻、重和自旋分裂带间的耦合及能带的非抛物性,并自洽考虑了哈特里势和交换相关势.与实验结果比较,认为带之间的耦合,使子带间的跃迁情况变得复杂,是正入射吸收产生的原因
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分别采用二种不同方法测量分子束外延(MBE)生长GaAs/In0.2Ga0.8As单量子阱结构的导带不连续量ΔEc:1) 考虑样品界面电荷修正的电容-电压(C-V)分布;2) 量子阱载流子热发射产生的电容瞬态(DLTS).C-V测得的ΔEc=0.227eV,大约相当于89% ΔEg.DLTS测得的ΔEc=0.229eV,大约相当于89.9% ΔEg.结果
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提出了用单频导纳谱法测量储硅单量子阶的能带偏移,与常规的多频导纳谱相比,它只需测一个频率的导纳谱就能得到更精确的实验结果。用该方法对Si/Ge0.33Si0.67/Si单量子阱进行测试,得到激活能为Ea=0.20eV。为了计算出能带偏移值,必须能准确确定具有单量子阱结构样品中的费密能级位置,由于在单量子阱结构中费密能级的位置与阱材料、垒材料的掺杂浓度、阱的高度(即能带偏移)及温度等几个因素均有关。为此,本文通过解泊松方程,计算出结合本文样品
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The electroluminescence of GexSi1-x/Si single quantum well was measured at temper-atures above room temperature along the growth direction and the direction normal to it. TO and NP peaks were resolved. 相似文献
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木文在文献[5,6]所发展的在位缺陷势格林函数方法基础上,进一步讨论Si中短程缺陷势引入的T2对称深能级波函数性质。第一次给出了Si禁带中部很宽能量范围之内T_2对称波函数的完整数据。波函数在缺陷最近邻四个格点的占据几率P1有一高达50%以上峰值。该部分相当于四个最近邻格点指向缺陷的杂化轨道准悬键的T2组合。第0,1,2三个格点壳层波函数占据几率之和约为70%。波函数其余部分较平缓地分布在一相当大空间。波函数的以上特征与禁带中部能量位置关系不灵敏。但在靠近导带Ec和满带E_v的浅能量区,以上P1峰趋于消失,整个波函数在空间的分布趋于平坦。Si空位在禁带引入一个T2对称深能级,位于Ev以上0.51eV处。
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用深能级瞬态谱(DLTS)技术系统研究了Si/SiO2界面附近的深能级和界面态。结果表明,在热氧化形成的Si/SiO2界面及其附近经常存在一个浓度很高的深能级,它具有若干有趣的特殊性质,例如它的DLTS峰高度强烈地依赖于温度,以及当栅偏压使费密能级与界面处硅价带顶的距离明显小于深能级与价带顶的距离时,仍然可以观测到一个很强的DLTS峰。另外,用最新方法测量的Si/SiO2界面连续态的空穴俘获截面与温度有关,而与能量位置无明显关系,DLTS测
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