非磁性材料磁性研磨加工的研究

分析了磁性研磨的机理，并通过实验得出磁极形状，磁感强度，工件转速、振动频率、振幅、加工间隙，磁性磨粒的平均直径等加工可影响非磁性材料的研磨特性。     

磁性研磨加工工艺及其开发应用

综述了磁性研磨加工工艺的基本原理及特点,以及国内外最新研究动向,同时对影响磁性研磨厍中的主要参数进行了研究,对从事机械加工研究的相关人员有一定的参考价值。     

磁性研磨的加工特性

磁性研磨是一种利用磁场中的磁性磨料对具有相对运动的工件表面进行光整加工的新技术，具有表面质量好、适应性能广泛的优点。     

用强永磁磁极实现磁性研磨的研究

根据磁性研磨加工原理，分析了三种永磁磁极头对铜合金板、铝合金板和45号钢板磁性研磨的加工效果，验证了强永磁材料磁极头进行光整加工的可行性和可靠性。此项技术的开发及研究为三维自由曲面的磁性研磨加工奠定了理论基础，开创了一个新的技术途径。     

二氧化锆陶瓷插芯内孔研磨实验研究

陶瓷插芯是光纤连接器的关键部件，其市场需求正随着波分复用技术（WDM）的广泛应用而不断扩大，为了获得高质量的陶瓷烧结体，采用部分稳定氧化锆（PSZ）（Partially Stabilked Zirconia）作为插针材料。为了保证插芯对准时的可靠性以及获得低的插入损耗，对插针的精度和稳定性有很高的要求。主要介绍了一种对插针的坯体进行加工的加工方法（研磨抛光），研究不同的工艺参数对内孔加工质量（主要是粗糙度）的影响。     

磁性液体研磨加工小型零件

介绍了几种磁性液体研磨的装置及工作原理,指出磁性液体的研磨是利用磁性液体的流动性和磁性来保持磨料与工件之间产生相对运动,从而达到研磨光整工件的精加工方法.     

不锈钢电解研磨复合加工

对１Ｃｒ１８Ｎｉ９Ｔｉ进行了电解抛光和不织布复合加工实验，并利用正交设计方法中的极差分析法，对实验数据进行了分析，获得了最佳工艺参数，实验表明，这种加工方法可使不锈钢加工表面达到理想的粗糙度或镜面。     

工艺参数对Ni81Fe19薄膜磁性及微结构影响

在不同本底真空和工作气压下制备了不同厚的Ni81Fe19／Ta薄膜,并进行了磁性测量和原子力显微镜分析,结果表明,较厚的薄膜,较高的本底真空和较低的工作气压下制备的薄膜有较大的各向异性磁电阻,其原因是高本底真空和低工作气压导致大晶粒度和低粗糙度,进而降低电子的散射,减小电阻R,增大ΔR/R,而较厚薄膜中,大晶粒度的作用将抵消高粗糙度的负作用,使ΔR/R值增大。     

磁性磨粒的溶胶-凝胶法制备工艺及性能分析

为了解决传统磁性磨粒制备过程中磁性磨粒破碎难的问题,提出一种无需破碎的溶胶-凝胶法制备磁性磨粒的工艺。通过X射线衍射仪、扫描电镜、特斯拉仪以及激光粒度分布仪对磁性磨粒进行了表征及性能分析,对6061铝合金板进行磁性研磨加工试验,结果表明工件的表面粗糙度Ra值和Rz值分别从0.528μm和4.99μm降低到0.194μm和1.65μm;可见溶胶-凝胶法制备的磁性磨粒无需破碎、分散均匀,具备良好的加工性能。加工后,工件的表面质量明显提高。     

磁力研磨的试验研究

本文介绍一种机械加工新工艺.利用永久磁铁及磁性磨料,对难加工材料不锈钢工件内表面进行研磨.用正交试验法试验了磨料粒度、工件转速、磁极间隙等参数对磁力研磨效果的影响.     

TC4钛合金孔的磁粒研磨试验

采用内置磁极吸附磁性磨粒的方法,研究了工艺参数对高效去除TC4钛合金孔毛刺和切痕,降低表面粗糙度R_a,以及改善微观表面形貌的影响.首先,开展磁极与孔同轴研磨正交试验,通过极差和方差分析,获得磁极转速、磨料直径和磨料填充量对孔表面粗糙度R_a和微观形貌的影响程度,确定了较优的工艺参数组合;其次,开展磁极与孔偏心研磨试验,进行了三维力检测和数据分析.结果表明:对于10mm的TC4钛合金孔,使用6mm的径向磁极,偏心距1mm研磨30min后,孔的毛刺和切痕得以去除,表面形貌均匀平整,与同轴方案比较,表面粗糙度R_a下降13.7%,研磨效率提升25.0%.     

非磁性金属材料的研磨特性和加工机理

由不锈钢、铜及铝平板的研磨实验中可以看到：混入的铁粒子的粒径及其混合比例对加工效率影响很大；工件与磨料间的硬度差也影响着铁粒子与磁性磨料的最佳混合比例；在研磨加工中，研磨压力存在最佳值。     

磁粒光整加工技术的应用与发展

光整加工作为模具加工的最后一道工序 ,其加工质量一般影响着产品的最终质量和使用性能 .尽管模具加工的大部分工序实现了自动化 ,但模具光整加工的自动化却一直无法实现 ,其加工工作量要占整个工作量的 30 %～ 40 % ,严重制约着生产的发展 .磁粒光整加工技术的出现 ,为模具光整加工自动化的实现带来了希望     

基于Taguchi-GA协同的磁性磨料抛光性能预测及制备工艺参数寻优

通过改变黏结法磁性磨料的制备工艺参数来设计正交试验,制备不同系列规格的磁性磨料,并对其进行形貌和成分检测.以3D打印AlSi10Mg板为加工对象,通过平面磁力研磨试验,揭示磁性磨料制备工艺参数对磁力研磨质量的影响规律.基于回归分析,建立参数与响应之间的回归模型,通过遗传算法实现参数优化. 结果表明,在SiC粒径为18~25 μm,Fe与SiC的质量比为4.7,环氧树脂与聚酰胺的质量比为2,固化温度为100 ℃的条件下,材料去除率为1.7 mg/min,表面粗糙度由原始的3.90 μm降低至0.27 μm,降低率为93.1%.     

磁力研磨机理研究

磁力研磨是1种利用磁性磨料和磁场作用进行研磨加工的工艺方法.阐述了磁力研磨的特点,分析了研磨过程中材料的去除机理,研究了磁性磨料、磨粒的受力状况和磁力研磨的磨削原理.     

粘结磁性磨料的研究

介绍了用粘结法制备磁性磨料的新工艺,研究了粘结磁性磨料的成分、技术特征和要求,并对粘结磁性磨料的性能进行了初步的测试。结果表明,粘结磁性磨料的综合性能优良,制备方法简单,可以取代进口磁性磨料,填补了国内磁性磨料制备技术的空白,解决磁性研磨技术进一步推广应用的主要难题。     

基于环形磁场励磁的两面磁力抛光试验研究

磁力抛光多数以单面抛光为主,较少有双面同时有效抛光方式.本文提出了基于环形磁场励磁的磁力抛光新工艺,该方法可以同时有效抛光两个表面.通过设计能励磁环形磁场的电磁铁,并进行三维有限元仿真分析,搭建了环形磁场双面抛光装置.利用该平台进行不锈钢两面抛光工艺试验研究,探讨了电流强度、磁极与工件间间隙、主轴转速和抛光时间工艺等参数对表面粗糙度R_a的影响.得出表面粗糙度R_a随着抛光时间、工作间隙、工件转速的增大而减小.设计正交实验方案得出合理的两面磁力抛光工艺参数,并最终取得了具有良好表面粗糙度R_a的两面工件样品.试验证明,该方法可以同时对工件的两个表面进行抛光,两个表面的表面粗糙度R_a由最初0.2μm下降到R_a(S)=0.094μm和R_a(N)=0.068μm.