XPS和AES研究锡表面的防变色膜

通过比较多种防锡变色剂的防变色效果,发现乙二胺四甲叉膦酸(EDTMP)是一种优良的防锡变色剂。用XPS、AES及Raman光谱探讨了EDTMP的防变色机理,结果表明EDTMP在锡表面形成了一种耐蚀性保护膜。在深度剖析曲线的元素组成近似恒定区测得膜的相对原子浓度(A.C.％)为:O 48.0％;Sn 10.7％;N 7.7％;C 23.1％;P 10.5％。     

碳钢表面稀土转化膜的XPS和AES研究

用浸渍法在Ａ３钢表面上获得了稀土转化膜，此膜呈均匀的金黄色，有良好的装饰效果。硫酸铜点滴、盐水浸泡、硫化氢气体等加速腐蚀试验以及膜层的电化学测试均证实此膜具有一定的耐蚀性能。膜层的ＸＰＳ９Ｘ射线光电子光谱）分析结果表明，膜层由铁、铈、氧等元素组成；在膜层的表面，铁以Ｆｅ＾３＋，铈以Ｃｅ＾４＋状态存在，在膜层的内部，铁以Ｆｅ＾３＋及Ｆｅ＾３＋，铈以Ｃｅ＾３＋和Ｃｅ＾４＋状态存在；从ＡＥＳ（俄歇Ｆｅ＾     

XPS和AES研究不锈钢上金色钼酸盐转化膜

用阴极电沉积法从钼酸盐溶液中取获得了金黄色的不锈钢转化膜，该膜具有良好的热稳定性和耐蚀性，ＸＰＳ和ＡＥＳ分析表明，膜厚约为６６３Ａ。膜的表面钼以Ｍｏ（Ⅵ）与Ｍｏ（Ⅳ）共存。从ＡＥＳ深度剥蚀曲线的组成恒定区求得膜的组成为：Ｏ５１．６％，Ｍｏ２８．５％，Ｐ１３．７％和Ｆｅ６．２％。循环伏安的氧化峰也证明膜内存在Ｍｏ（Ⅳ）。     

铭酸溶液中金属铬电沉积的机理

从铬酸溶液中电沉积金属铬的机理曾经有过不少探索.许多研究者认为,阴极表面形成难溶的膜层金属铬的电沉积起着关键性的作用.本文应用交流阻抗谱研究金属铬电沉积过程中阴极表面膜的形成,利用X光电子能谱(XPS)和俄歇电子能谱(AES)分析了表面膜的组成,并且对SO_4~(2-)的作用进行了初步的探讨。     

Ni-P-CeO2化学复合镀层的XPS和AES分析

运用 SEM、AES和 XPS分析了 Ni- P- Ce O2 的镀层表面形貌及镀层组成。研究显示 ,Ni-P- Ce O2 镀层表面光滑、均匀、光洁度好 ,其相对原子摩尔分数分别为 Ni75.51 %、P1 3.37%、Ce2 .71 %、O6.81 %和 Fe1 .38%。镀层厚度为 6.0 μm,耐 1 0 0 g·L- 1 Na Cl溶液和 1 % (体积分数 ) H2 S气体的腐蚀能力较强。     

用XPS和XAES分析电化学沉积的DLC膜

采用电化学沉积方法，以甲醇溶剂作碳源，直流电压作用下在单晶硅表面沉积得到碳薄膜。通过研究石墨、金刚石和样品薄膜的XPS和XAES谱图特征，证明了此方法沉积得到的是DLC薄膜;利用曲线拟合技术在C_1s电子能谱图中拟合出sp³峰与sp²峰，并计算出样品薄膜中sp³碳的相对含量为55%;研究石墨、金刚石和样品薄膜的一阶微分XAES谱图，用线性插入法估算出样品薄膜中sp³碳的相对含量为60%。     

添加剂作用下钯电沉积行为研究

在含有4 g•L－1 Pd(NH3)2Cl2和104 g•L－1 NH4H2PO4的闪镀钯基础电解液中,采用极化曲线、循环伏安法和计时安培法研究添加剂作用下钯在玻璃碳电极上的电沉积和电结晶行为.结果表明,添加剂阻化钯的电沉积;钯在玻碳电极上的交换电流密度很低;钯电沉积过程经历了晶核形成过程,其电结晶机理在不含添加剂时接近于三维连续成核,含添加剂时接近于三维瞬时成核.     

Mo—La2O3模拟阴极的高温XPS／AES研究：Ⅱ.激活过程中La的变化？…

选用片状样品考察Ｍｏ－Ｌａ２Ｏ３阴极激活过程，侧重分析Ｌａ的存在状态和变化对热发射的影响。对高温ＸＰＳ实验结果的分析证实，激活过程Ｌａ的化学价态发生了改变，伴随大量晶格氧的分离，Ｌａ２Ｏ３变成了缺氧化合物ＬａＯｘ，即形成了超额的Ｌａ；修正的Ａｇｅｒ参数等变化趋势与上述相符。ＬａＯｘ具有较低的逸出功是由于氧缺位的存在，氧缺位对电子发射起到积极影响。激活过程促使Ｌａ，Ｏ离子的价电子态密度增加，配位不饱     

硫脲对镍电沉积的作用

应用循环伏安和阻抗＿电位法研究了硫脲(TU)对玻碳电极和镀镍玻碳电极上镍沉积过程的影响.结果表明,在玻碳电极上镍的电沉积呈现明显的电化学成核机理,而在镀镍玻碳电极上则无此特征.TU的存在虽阻碍了Ni晶核的形成,但却能加速晶粒的生长.     

电沉积法制备铂纳米粒子过程中卤素阴离子对粒子形貌及电催化性质的影响

在电化学沉积铂纳米粒子的过程中, 通过添加卤素阴离子, 可以显著地改变纳米粒子的形貌. 通过添加氯离子、溴离子和碘离子, 可以在导电基底上分别获得球形、片状及立方结构的铂纳米粒子. 对卤素阴离子影响电沉积铂纳米粒子形貌的原因进行了探讨. 研究了铂纳米粒子的电催化活性, 发现通过添加卤素阴离子制备得到的铂纳米粒子对于甲醇的电化学催化氧化表现出较低的电化学催化活性. 通过电化学氧化法全部或部分除去铂表面吸附的卤素阴离子后, 纳米粒子对甲醇的电化学催化氧化活性显著提高.     

电子能谱法研究锡铅合金镀层的表面状态及其与可焊性的关系

本文用X射线光电子能谱(XPS)和俄歇电子能谱(AES)研究了Sn-Pb合金镀层的表面氧化物膜状态并用润湿称量法测定了可焊性。结果表明,Sn-Pb合金镀层表面生成的氧化物膜主要由四价锡的氧化物(SnO_2·XH_2O和SnO_2)组成,铅的氧化物只占很少部分。这说明Sn-Pb合金镀层中锡组分较铅容易氧化。 Sn-Pb合金镀层经155℃加热16小时后,表面氧化物膜的厚度增长很大,同时可焊性明显下降。当Sn-Pb合金镀层经过热熔后,表面变得致密光亮;经155℃加热16小时后生成氧化物膜的厚度较未经热熔的在相同条件下要薄。同时可焊性也较未热熔的好。这说明Sn-Pb合金表面生成氧化物膜的厚度是影响可焊性的重要因素,热熔使Sn-Pb镀层均匀的再结晶改变了镀层结构,使之成为致密的细晶结构,增加了镀层表面的抗氧化能力。故经热熔处理的Sn-Pb合金镀层具有较长的贮存期仍能保持良好的可焊性。     

薄膜CdSe及CdSexTe1-x电极的光电子能谱研究

用X射线光电子能谱(XPS)研究了不同含氧气氛中烧结的薄膜CdSe及Cdse_xTe_1-x电极表面,以及薄膜与Ti底基之间的界面。研究中发现,二种薄膜电极的表面形成了CdO,SeO₂及TeO₂氧化物,与薄膜接触的Ti底基表面上形成了TiO₂。用俄歇电子能谱(AES)对在电极表面及Ti表面所生成的氧化层分别进行了深度分析。结果表明,各种氧化物形成的程度有很大的不同,氧化层厚度也存在差异。对影响薄膜电极的光电性能的因素进行了讨论。     

Cr的沉积速度对Cr-MIS太阳电池性能的影响

实验证明快速沉积Cr的功函数比缓慢沉积Cr的功函数低,平均值为3.99eV,这样低的功函数可以控制开路电压在0.51—0.56V,用快速沉积方法可降低Cr的方块电阻,因此省去为了降低Cr的方块电阻的Cu层,以及为了防止Cu层氧化的Cr层,简化了工艺。快速沉积Cr的制备的无Cu层Cr-MIS太阳电池在AM_1.5(100mW/cm₂)下转换效率达到12%(按有效面积计)。     

用FTIR和XPS研究ACF的表面结构

采用红外光谱（FTIR）及X光电子能谱（XPS），系统分析了纤维碳化各阶段的结构、不同程度活化的ACF的结构以及低温氧化后和热处理后ACF的结构，提出了ACF表面结构模型。     

pH对丙烯酸-丁烯醛共聚合反应的影响

具有功能基的聚合物因其所具备的特殊性能而获得越来越多的应用[1] .带醛基的聚合物可在室温下很容易与酶、抗体、抗原、蛋白质、细胞等含氨基的生物高分子反应 ,生成Ｓｃｈｉｆｆ碱 ,将这些生物高分子共价偶联到聚合物上 ,并能保持它们绝大部分的生物活性 ,因而在免疫分析、生物化学、生物医学等领域有着广泛的应用前景[2～ 4 ] .然而 ,到目前为止 ,带醛基的聚合物的合成研究主要集中在丙烯醛的均聚及共聚反应[5～ 8] ,而对其它不饱和醛的聚合研究报道很少 .但是由于丙烯醛聚合物分子链上相邻的醛基极易形成缩醛或半缩醛而使自由醛基的数量…