双酚A型聚碳酸酯自然老化的XPS研究

利用Ｘ－射线光电子能谱研究了双酚Ａ型聚碳酸酯经自然化老后的表面化学组成与结构变化。结果表明，表面光降解反应可以分成两个主要阶段：在老化前期，主要是碳酸酯基的分解；之后主要是偕二甲基基团和芳环的氧化。而前期碳酸酯基的分解对其力，学性能的影响最为显著。     

交联壳聚糖对钒(Ⅴ)吸附机理的XPS研究

本文用X射线光电子能谱(XPS)研究了交联壳聚糖对钒(Ⅴ)的吸附机理,在对比交联壳聚糖(CCTS)吸附钒(Ⅴ)前后的XPS谱中,可观察到CCTS的N1s和钒(Ⅴ)的Ⅴ2p3/2峰都有较大的化学位移,说明钒(Ⅴ)与交联壳聚糖的-NH。基团发生了配位反应,交联壳聚糖对钒(Ⅴ)的吸附主要是化学吸附。     

纳米钛薄膜的XPS研究

用 XPS分析了三种纳米钛薄膜表面和经 Ar 溅射后内部碳、氧、氮、钛等的含量和化学态。发现三种薄膜表面碳、氧含量完全一致 ,碳为石墨态 ,氧为吸附态的水。薄膜内部碳、氧、氮的化学态主要为 Ti C、Ti O2 、Ti N。随着分析深度的增加 ,薄膜内金属钛的原子百分比浓度不断增加并逐渐趋于恒定。镀膜时真空度的提高有利于减少碳、氧、氮的污染。Ar 溅射所镀的膜与电子枪所镀的膜相比 ,晶粒尺寸小 ,在表面至浅表层内氧的含量有明显差异。     

玻璃表面特性的XPS研究

本文用XPS表征了玻璃表面铜、铅和锡离子的价态,并测定在浮法玻璃底表面锡离子价态的深度分布。对沾锡现象与锡离子价态之间的关系进行了讨论。     

X射线光电子能谱技术在高分子材料摩擦化学研究中的应用

X射线光电子能谱技术(XPS)是材料表面分析的重要手段,其近年的快速发展促进了表面化学领域研究的深入.高分子及其复合材料在摩擦学性能方面具有普遍的优势,通过XPS对高分子及其复合材料摩擦表面的分析,可以确定摩擦过程的化学变化,并对改进材料的摩擦学性能起到理论的指导作用.作者主要介绍XPS技术的基本原理,及其在高分子与复合材料摩擦学性能研究中的应用.     

照相明胶中硫存在形态的XPS研究

本文采用X射线光电子能谱技术,研究了国内外典型的两种照相明胶的空白样品、掺杂铁(Ⅲ)的样品中硫元素的存在形态。硫在明胶中主要以三种化学形态存在:蛋氨酸砜中的 基团,蛋氨酸亚砜中的 基团,蛋氨酸中的-S-基团。三种化学形态间的相对含量基本上反应出蛋氨酸及其两种氧化产物之间的相对比例。在我们的实验条件下,外来三价铁,引发部分蛋氨酸砜被还原为蛋氨酸亚砜,与此同时,明胶中的-CH₂-基团部分氧化为 基团。     

稀土富勒烯电子结构的XPS研究

采用Ｘ射线光电子能谱（ＸＰＳ）对富含稀土富勒烯Ｐｒ、Ｇｄ、Ｔｂ、Ｄｙ、Ｅｒ＠Ｃ２ｎ的吡啶提取液的固态沉积膜进行了研究，检测到明确的稀土元素的ＸＰＳ谱峰，表明富勒烯笼内嵌入的稀土元素具有特征的ＸＰＳ谱峰。通过对谱峰的分析，发现稀土富勒烯具有较为稳定的结构。嵌入的Ｐｒ、Ｇｄ、Ｔｂ、Ｄｙ、Ｅｒ等稀土元素与富勒烯球笼间存在电子的迁移。     

噻吩在猝冷骨架Ni上吸附脱硫的XPS研究

采用X射线光电子能谱(XPS)研究了室温下噻吩在猝冷骨架Ni吸附剂上的吸附及受热分解行为. 研究结果表明, 298 K时噻吩首先在吸附剂表面发生C—S键断裂, 生成原子硫及含金属的有机环状化合物. 当吸附剂表面完全被解离物种覆盖后, 发生噻吩的多层物理吸附. 加热至373 K, 大部分物理吸附的噻吩直接脱附, 其余部分在碳物种脱附后暴露的Ni表面上发生解离. 473 K时表面的碳物种消失, 而残留在样品上的硫均转化为硫化镍.      

K-Pb-Tl-O复合氧化物的合成和电子结构的XPS研究

用熔盐阳极电沉积法合成了导电的复合氧化物K-Pb-Tl-O晶体.这些晶体具有纳米尺寸层状结构.用XPS对其进行了表征,并与相关的化合物进行了比较.实验表明,氧化物中的Pb和Tl都以高价态的单一价态存在,但电子结合能比相应的非导电低价化合物的低.该文用原子外弛豫效应解释了复合氧化物中的Pb和Tl的结合能的反常现象.讨论了它们的价电子结构与导电性的关系.     

明胶与Ag+相互作用的XPS研究

X射线光电子能谱(XPS)技术是一种高灵敏、高分辨的元素定性定量和结构分析技术.本文用该技术研究了照相明胶中S原子与Ag⁺相互作用的本质.研究结果表明,照相明胶中的蛋氨酸、蛋氨酸亚砜残基均能通过S原子与Ag⁺作用,而且在所研究的明胶中蛋氨酸亚砜残基的含量远高于蛋氨酸残基的含量,这意味着在与Ag⁺键合过程中前者占有更重要的地位.此外,本文还比较了不同原料制成的明胶与Ag⁺的作用情况.     

XPS分析固体粉末时的样品制备法研究

用XPS分析固体粉末样品时通常将粉末直接撒在双面胶带上进行测试.这种方法粉末容易脱落,并导致仪器污染或损坏.本文介绍一种将粉末样品铺在胶带上压成薄层进行测试的制样方法.后一种方法不需模具,简单快捷,实验表明它不仅有利于保护仪器,而且有利于提高XPS分析的灵敏度和分辨率.     

照相明胶与化学增感剂相互作用的XPS研究

本文采用X射线光电子能谱技术研究了两种照相明胶与化学增感剂相互作用的机理.当两种照相明胶样品在HAuCl₄溶液中反应5min后,明胶中的蛋氨酸、蛋氨酸亚砜均被氧化为蛋氨酸砜.与此同时,明胶吸附的大部分Au³⁺被还原为Au⁺,并且Au⁺以络合形态存在于明胶之中.根据与AuCl₃反应之后明胶中Au³⁺与Au⁺的比例,法国明胶的还原性略高于包头明胶.添加到明胶中的Na₂S₂O₃能将明胶大分子所含的蛋氨酸亚砜全部还原为蛋氨酸.S₂O₃^2-、蛋氨酸和蛋氨酸砜可以稳定共存于明胶体系之中,外加的S₂O₃^2-的还原性高于明胶中蛋氨酸、蛋氨酸亚砜的还原性.添加Na₂S₂O₃后的两种照相明胶均可以将其溶胀吸附的Au³⁺全部还原为胶态金.此时,参与氧化还原反应的主要基团是S₂O₃^2-而非明胶中的蛋氨酸残基.由于Na₂S₂O₃的添加,照相明胶对AuCl₃的还原能力增强.     

氩离子刻蚀还原氧化铜的XPS研究

利用X射线光电子能谱(XPS)及氩离子刻蚀技术,通过改变氩离子枪的刻蚀模式,原位研究氩离子刻蚀对氧化铜的还原情况。结果发现在极其微弱的氩离子束流轰击下,CuO即被还原,刻蚀初期变化较大,之后达到稳恒状态。对Cu2p峰拟合,同时结合俄歇CuLMM峰变化,判定纯CuO经氩离子刻蚀后最终转变为氧化铜、氧化亚铜及少量单质铜的共存状态。研究结果将对氧化铜深度剖析中化学状态的判断具有重要参考价值。     

氯化2,3,5-三苯基-2H-四唑及2,4,6-三(2-吡啶基)-s-三嗪在1mol/L HCl中对Q235碳钢的缓蚀作用及机理的研究(Ⅱ)

通过x射线光电子能谱(XPS)、椭圆偏振原位测试考察了氯化2,3,5-三苯基-2H-四唑(TTC),2,4,6-三(2-吡啶基)-s-三嗪(TPT)分子在1 mol/L HCI中对碳钢表面的缓蚀作用,并从微观上对二者的缓蚀机理进行探讨.XPS测试结果显示,由C,N元素的1s特征峰产生的化学位移及其积分峰面积表明TTC,TPT分子在金属表面产生了有效抑制腐蚀的保护层;由椭圆偏振原位测试并结合动电位极化曲线测试,考察了TTC,TPT分子对金属表面腐蚀反应的抑制程度,并得到了相位差等参量,结果表明二者在金属表面形成了具有缓蚀作用的覆盖层.     

锆合金初始氧化行为的原位近常压XPS研究

锆基合金由于具有低的热中子吸收截面、良好的耐腐蚀性能和力学性能等优点,通常被用于水冷核反应堆中的核燃料包壳和其他结构材料。通过在合金中添加适量的Nb元素可以有效地降低锆合金的氧化速率和吸氢分数,从而改善锆合金的耐腐蚀性能。尽管对锆合金的耐腐蚀性能得到了广泛的认识,但关于其在接近真实氧化腐蚀条件下的原位研究一直是具有挑战性的课题。本工作中利用近常压X射线光电子能谱(NAP-XPS)原位研究了1.3 × 10^-8 - 1.3 × 10^-1 mbar (1 mbar = 100 Pa)连续分压下室温到623 K温度时两种锆基合金表面在水,氧中的初始氧化腐蚀行为。结果表明,未添加Nb和添加1%Nb的锆合金表面在初始氧化过程中锆元素都会由金属态向多种氧化态过渡。水蒸气环境下两种合金的氧化速率都要低于氧气环境。室温下无论水蒸气还是氧气环境两种合金的氧化速率都要比623 K高温情况下的慢。在623 K的氧气气氛下,未添加Nb的锆合金相较于添加1%Nb的锆合金更容易被氧化,Nb的添加一定程度上会降低氧物种的吸附能力。在室温下和623 K低水蒸气压力下,1%Nb锆合金氧化速率更快,Nb促进OH^-在表面生成。而在623 K高水蒸气压力下,未添加Nb的锆合金有更易于被氧化的倾向,Nb在高温下向表面扩散并抑制OH^-键的断裂,但两种样品表面短时间内都无法被完全氧化。     

样品高度对XPS测试的影响

采用Al靶微聚焦单色器光电子能谱仪进行XPS测试时,如果样品高度选择不好,会导致测得的光电子峰强度降低. 而对于一些电子结合能较高的元素,其光电子峰会变宽,有时出现双峰. 分析了该现象的原因是X射线光斑、电子中和枪中和区域以及光电子能量接收区域没有聚焦于同一点.     

螯合树脂研究(ⅩⅢ)——以聚硫醚为主链的氨基吡啶树脂的合成及吸附性能

聚环硫氯丙烷与各种氨基吡啶在二乙烯三胺存在下反应,合成了3种主链为聚硫醚、侧链带有吡啶基氨基的新型螯合树脂。它们对贵金属具有优良的吸附性能和高的吸附选择性。并通过X射线光电子能谱初步探讨了树脂对金属离子的螯合作用。     

单色化X射线对薄膜表面高分子降解行为的影响

采用聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)和苯乙烯-丙烯腈无规共聚物(SAN)薄膜体系, 在不同的实验温度下, 研究了单色化的X射线对其中一个组分(PMMA)降解行为的影响.     

XPS分析绝缘样品中磁透镜对中和效果的影响研究

以绝缘样品聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)为X射线光电子能谱(XPS)分析测试对象,探讨了使用不同的X射线源作为激发源时,磁透镜对荷电中和系统中和效果的影响.试验结果表明,当使用单色化Al Kα为激发源时,磁透镜对荷电中和器的中和效果没有显著影响.而使用非单色化双阳极Mg Kα为激发源,磁透镜开启时才能得到良好的荷电中和效果,磁透镜关闭时所测谱峰会因荷电效应而发生峰形畸变.     

以硫醚为主链的螯合树脂研究——Ⅲ.含硫氰酸根树脂的合成及吸附性能

环硫氯丙烷的均聚物或环硫氯丙烷与环氧氯丙烷的共聚物,在少量二乙烯三胺存在下制得预交联聚合物,将后者与硫氰化钾反应,制得两种侧链带有硫氰酸根的新型螯合树脂。它们对贵金属具有优良的吸附性能和高的吸附选择性。通过X射线光电予能谱初步探讨了树脂对金属离子的螯合作用