光学薄膜的驻波设计方法

有许多解析设计的方法,如矢量法、有效界面法、等效膜层法以及势透射率概念设计等均已成功地用来设计不同类型的光学薄膜。这里介绍的驻波场设计方法,对减小薄膜的损耗有特殊的作用。近年来,光学薄膜研究的一个最重要的课题就是所谓薄膜的缺陷和稳定性。驻波设计在一定程度上为这一课题的研究提供了方便。所谓驻波设计,实际上就是计算出薄膜中的驻波电场分布,然后根据驻波场分布来     

光学薄膜系统的现代计算方法

引言本文叙述加拿大国家研究委员会(NRCC)对于具有复杂光谱特性的特种光学多层滤光片发展数值设计程序和制造技术方面过去和现在的成就。这里不讨论对于具有或多或少有规则的光谱特性的滤光片和膜层的一般设计方法,但在参考资料[1-4]中可以找到这方面的最近的评论。     

光学薄膜淀积监控方法研究

薄膜的光学特性决定于其各膜层的厚度和折射率,监控各膜层的淀积厚度是淀积过程中最重要的工艺.本文分析比较了直透监控法、分离控制法、高级次监控法以及变波长监控和晶体振荡监控等光学薄膜淀积监控的几种方法.直透监控法的各层膜膜厚监控误差大,但监控光带宽的减小和膜层厚度误差的补偿作用,使得薄膜峰值波长定位精度很高;它对监控系统的精度要求非常之高,一般要求不低于40 dB.相对而言,分离控制法可以保证较大的变化幅度,在5‰的监控精度下(23 dB)就可以保证膜层的合理蒸镀,得到膜厚监控误差较小的成膜;但监控片的更换割裂了整个膜系的各层膜之间有机补偿作用,成膜的中心波长会向长波方向漂移.高级次监控方法可以提高极值法对膜层的监控精度,但膜料在不同波长处色散影响膜系的结构.变波长监控法在镀制非规整膜系时可取得较高的监控精度.晶体振荡法是监控多腔窄带滤光片匹配层的有效方法.结合光纤通信用窄带滤光片要求,提出了窄带滤光片应采用直透法过正监控和晶体振荡法相结合的监控方法.(PH8)     

光学薄膜任意厚度控制方法的研究

对于特定要求光谱特性的光学薄膜,需要用电子计算机进行设计。薄膜可供调整的参数是薄膜材料的折射率和几何厚度。在实际工作中,由于可供选用的镀膜材料有限,通常把各层膜的厚度作为校正参数。因而自动合成设计的膜系所得到的光学厚度值一般不是λ/4或λ/2厚度的整数倍,通常为非等厚的多层膜组成。这种薄膜与经典的λ/4膜系相比,具有层数少,厚度薄,膜层吸收少,易牢固,能给出宽广的光谱特性。但由于膜层是非λ/4膜系,给薄膜制备时厚度的     

光学薄膜任意厚度的监控方法评述

随着薄膜技术的发展,光学薄膜在各个领域中得到了广泛而重要的实际应用。经典的薄膜系统,例如减反射膜、分光镜、介质反射膜、截止滤光片及带通滤光片等,不管采用几种介质材料,也不管有多少层数,它们的厚度是整齐的,都是四分之一波长或其     

单色仪测试光学薄膜透过率的方法讨论

光学薄膜的应用不仅涉及光学元件领域,也是各类显示器如LCD、OLED中实现发光的重要组成部分。从单色仪的测试原理出发,阐述测试光学薄膜透过率参数的方法,从分光效果、光强和单色性三个方面出发分析测试过程中存在的问题,提出解决意见,对光学薄膜的应用有一定的指导意义。     

光学薄膜膜厚监控方法及其进展

针对目前膜厚监控技术的广泛使用和其方法的日益多样性 ,力图对光学薄膜膜厚监控方法作一个全面、细致的描述。包括膜厚监控方法的分类、进展和展望 ,重点介绍了几种膜厚的光学监控方法     

光学薄膜的特性

本文讨论介质薄膜的各种特性,计有折射率、吸收率、光的散射、结构、微观结构、密度、气体吸收、化学组分、均匀性、附着性、硬度、机械应力及环境影响。     

光学薄膜技术

我们研制了全介质宽带高反射硬膜,反射区大于360～780nm,平均反射率≥97％。已用于可调谐染料激光器的调谐反光镜。 全介质宽带高反硬膜吸收小,反射率高,硬膜可保证牢固耐久。它是由几个介质高反堆     

光学薄膜的监控

在淀积薄膜过程中,为了镀制出合乎要求的膜层,要对光学薄膜参数加以测量和控制。监控技术通常都是把薄膜的厚度当做最重要的参数。本文简要评述目前流行的各种监控原理并对比了它们的优缺点。结果表明:这些方法很少能够对付折射率的误差,它不象对付厚度误差那样简单,要想严格地控制膜层材料参数,必须充分利用目前监控方法中的最新成就。     

光学薄膜的损耗

对光学薄膜的表面散射、体散射和吸收这三个损耗因素进行系统的分析和计算,并在它们都存在的条件下,计算了光学薄膜的反射率、透过率和损耗率.由于计算程序考虑了各种因素对光学薄膜的影响,所以计算模型和计算方法比一般的方法有更多的普遍性.文中给出11层ZnS/MgF_2反射膜和21层TiO_2/SiO_2反射膜的计算结果.     

光学薄膜进展

本文就消偏振截止滤光片在多通道光纤通讯中的应用、远紫外及软x-射线反射镜的突破、离子束辅助的蒸发技术的兴起以及薄膜微结构的研究等方面综述了光学薄膜技术近十年来所取得的主要进展。高能激光对光学薄膜提出了苛刻的要求,连续式磁控溅射大批量制造建筑物窗口玻璃上的阳光薄膜有着巨大的市场,记录介质薄膜仍然是开发光学信息存贮的关键,所有这些都是对光学薄膜技术的挑战。     

光学薄膜设计

在过去的几年里,光学薄膜设计已由过去那种传统、发展缓慢的课题发展到伸向科研前沿领域。为此专门召开了各种重要的研讨会议,并且在提供膜层设计与分析的软件包方面存在着激烈的竞争。本文回顾了设计的背景,对此课题目前的状态分析了原因,并对其将来可能的发展方向进行了评价。     

高反射率光学薄膜的一种新设计方法

设计极高反射率光学薄膜必须考虑薄膜内电场强度分布对光损耗的影响。本文提出一种新设计方法用于既改善膜层内电场分布以减少薄膜的光损耗,同时又兼顾薄膜的反射率要求。该方法用薄膜的特征和矩阵直接计算场强和反射率,建立综合评价函数来兼顾场强分布和光学反射率的要求,利用计算机进行优化设计。而且该方法能灵活有效地按任意场强和反射率要求优化设计各种膜系。     

光学薄膜的各向异性折射率

本文从光学薄膜的实际结构出发,根据电磁场理论,给出了光学薄膜折射率与光线传播方向的关系。文中计算了不同填充密度下的高低折射率薄膜的各向异性折射率,对结果进行了分析和讨论     

光学薄膜研究的评述

现在,薄膜状光学材料性能一般都比块状材料要差,光学薄膜的主要问题就在这里。本文将概述使薄膜不同于通常块状材料的一些基本特性。我们仅限于讨论真空蒸发的薄膜和包括对这种基本工艺过程的改进的一些评论。     

光学薄膜的微观结构

光学薄膜的微观结构是具有很大内表面积和空隙体积的明显的柱状体结构。这种结构对膜层的光学和机械性能有很大影响,并导致光学涂层在制备过程及其以后的特性难以控制。本文评述了微观结构及其对膜层性质的影响,对微观结构起因提出了新的见解。     

光学薄膜的各向异性折射率

本文从光学薄膜的实际结构出发,根据电磁场理论,给出了光学薄膜折射率与光线传播方向的关系。     

光学薄膜的吸水现象

引言和理论蒸镀膜的光学特性受吸水影响很大,吸水量的多少影响到薄膜动态性能。有关测量真空室进气前后光学特性变化的报告很多,其中都用填充密度作为说明这种动态影响的一个参数。研究表明,如MgF_2和ZnS及Na_3AIF_6这些材料的单层膜,具有柱状和气孔(由底层到上表面)组成的结构。但是,特别是在光学多层膜的情况下,如对ZnS和MgF_2或Na_3AIF_6制的窄带滤光片来说,填充密度并不能完全说明其特性。在此主要就内表面面积和气孔大小的分布,