光折变晶体中高速调制光放大特性的研究

本文对光折变晶体中高速调制光的放大特性进行了理论分析,给出了在Ce:SBN晶体中进行的实验结果,并从物理概念上进行了讨论,指出光折变晶体中的双光束耦合可以用于时域编码通讯。     

大口径,高精度光学透镜的光胶工艺技术

介绍大口径，高精度光学透镜光胶我对光学元件的技术要求，光胶环境要求，光胶的偏心调整原理及工艺技术方法，并给出实验结果。     

提高PbWO4晶体光学性能的研究

钨酸铅（ＰｂＷＯ４）晶体在生长过程中由于缺氧产生了氧空位缺陷和Ｆｅ＾２＋杂质缺陷，使晶体着色，光学性能下降，在晶体生长过程中掺进Ｓｂ２Ｏ３，能消除氧空位，将Ｆｅ＾２＋氧化为无色的Ｆｅ＾３＋，较大幅度地提高ＰｂＷＯ４晶体的光学性能和闪烁性能。     

光折变晶体中的稳态光扇

指出在高增益的光折变晶体内光束自身的多波混合是光扇形成的一个可能起因．通过光束自身的多波耦合作用，光能从低空间频率成分转移至高频成分上，从而形成宽角分布的扇形轮廓，所以放大噪声和放大光束中高频成分在光扇效应中都起重要的作用． 关键词：     

增厚-光胶法控制超薄、变形平面零件的加工工艺研究

以一直径为27mm,N=2,ΔN=0.5,B≤Ⅱ和θ≤2′的K9平面零件加工为例,详细介绍了增厚-光胶法控制超薄、变形平面的加工工艺流程及采取的关键工艺措施,并对加工过程中的参数进行了分析和总结,最后确定了保证该零件各项指标的量化参数。实践证明：该方法能够保证零件高精度面形及平行差要求,解决了超薄、变形零件在长期加工中出现的合格率低、返工率高现象。该方法在保证零件精度的同时,大大提高了生产效率,降低了成本,适用于批量加工。     

在局域非线性响应的光折变晶体中的对称光扇

在具有非局域非线性响应的所有光折变晶体中几乎都能观察到光折变光扇效应．最近我们在具有局域非线性响应的光折变晶体（LiNbO₃∶Fe）观察到对称光扇．基于前向简并三波作用，从理论上研究了这种对称光扇的形成 关键词：     

光折变晶体作为相衬滤波器的研究

报道了利用各种不同的光折变晶体作为位相滤波器，实现位相型物体的可见和振幅型物体的对比度周期性反转等结果，并给出了统一的理论分析。     

YAP晶体光纤弹光效应的研究

利用受扰光纤理论理论和光纤弹光效应理论对ＹＡＰ晶体光纤弹光效应进行了理论分析和实验研究。结果表明，这种晶纤可以弹光调制、压力和加速度传感等方面得到应力，并为该类传感器的设计提供理论根据。     

光学面形的轮带光学抛光方法研究

鉴于光学零件高陡度凹曲面的抛光是光学加工的一个难题,轮带光学确定性抛光方法是解决此类零件抛光的有效方法之一;提出轮带光学抛光技术的原理和方法。研究了轮带光学抛光方法修形的可行性,采用五轴精密数控机床系统对一块直径Ф80 mm的K9玻璃平面样镜进行了修形试验,经过3次迭代修形使其面形精度均方根误差（RMS）由初始的0.109 提高到0.028 ,平均每次收敛率达到1.3。实验结果表明,应用轮带光学抛光技术进行光学镜面修形,面形收敛速度较快,加工精度较高。本实验验证了轮带光学抛光技术的修形能力,为高陡度光学零件的抛光提供了研究基础。     

光学面形的轮带光学抛光方法研究

鉴于光学零件高陡度凹曲面的抛光是光学加工的一个难题,轮带光学确定性抛光方法是解决此类零件抛光的有效方法之一;提出轮带光学抛光技术的原理和方法。研究了轮带光学抛光方法修形的可行性,采用五轴精密数控机床系统对一块直径Ф80 mm的K9玻璃平面样镜进行了修形试验,经过3次迭代修形使其面形精度均方根误差(RMS)由初始的0109 λ提高到0028 λ,平均每次收敛率达到13。实验结果表明,应用轮带光学抛光技术进行光学镜面修形,面形收敛速度较快,加工精度较高。本实验验证了轮带光学抛光技术的修形能力,为高陡度光学零件的抛光提供了研究基础。     

一种锗晶体光码盘的分划制作工艺研究

为了在锗晶体光坯上制作出满足要求的码盘图案,分别采用正性光刻胶和负性光刻胶,先镀膜后照相和先照相后镀膜的工艺路线进行工艺实验,并对实验结果进行分析,得出结论:用负性光刻胶按先照相后镀膜的工艺路线为锗晶体光码盘分划制作工艺的最佳方案。实验结果表明:加工出的图案明暗对比度大、边缘不均匀性小于0.008 mm,可实际应用于锗晶体上分划图案的制作。     

Ultrafast photonic crystal optical switching

Photonic crystal, a novel and artificial photonic material with periodic dielectric distribution, possesses photonic bandgap and can control the propagation states of photons. Photonic crystal has been considered to be a promising candidate for the future integrated photonic devices. The properties and the fabrication method of photonic crystal are expounded. The progresses of the study of ultrafast photonic crystal optical switching are discussed in detail.     

Optoelectronic multiplexer for digital data processing based on lipid crystal pixels and optical fiber elements

In this work, we present an optoelectronic digital multiplexer 4:1 based on a multipixel nematic liquid crystal cell. This device uses two optical control signals to select one among four possible optical data inputs. These data signals are generated by four red LEDs, which are guided through plastic optical fiber towards liquid crystal pixels. For our purpose, only four pixels of the cell will be used to modulate the optical signal across them. Each pixel will be addressed by a square waveform coming from the conditioning circuit managed by a microcontroller system. The electronic control allows the multiplexer to work as as simple two input logical gates such as AND, NAND, OR, NOR, XOR and XNOR. The operation time of the device is limited by the response time of LC cell that is in the millisecond range.     

掺碲硒化镓晶体的光学性能

采用水平区熔法生长了碲（Te）掺杂浓度（质量百分比）分别为0.05%,0.1%,0.5%,1%,2%的硒化镓（GaSe）晶体,并分别对掺杂浓度为0.01%,0.07%,0.38%,0.67%,2.07%的GaSe∶Te晶体的光学性能进行了表征。首次研究了GaSe∶Te晶体中刚性层声子模式的转换。吸收光谱测试结果表明：当Te掺杂浓度小于0.38%时,振动中心位于0.59 THz附近的E＇（2）刚性模式吸收峰强度可达最大值,这一过程与GaSe∶Te晶体光学性能的提高密切相关。但Te掺杂浓度的进一步提高会导致E＇（2）刚性模式吸收峰强度逐渐减弱,当Te掺杂浓度为1%时,E＇（2）刚性模式吸收峰基本消失。这两个过程与GaSe∶Te晶体光学质量的下降密切相关。因此,E＇（2）刚性模式吸收强度达到最高时对应的掺杂浓度即是GaSe∶Te晶体中Te的最佳掺杂浓度,光整流产生太赫兹过程证实了此结论的正确性。     

Fast Face-Recognition Optical Parallel Correlator Using High Accuracy Correlation Filter

We designed and fabricated a fully automatic fast face recognition optical parallel correlator [E. Watanabe and K. Kodate: Appl. Opt. 44 (2005) 5666] based on the VanderLugt principle. The implementation of an as-yet unattained ultra high-speed system was aided by reconfiguring the system to make it suitable for easier parallel processing, as well as by composing a higher accuracy correlation filter and high-speed ferroelectric liquid crystal-spatial light modulator (FLC-SLM). In running trial experiments using this system (dubbed FARCO), we succeeded in acquiring remarkably low error rates of 1.3% for false match rate (FMR) and 2.6% for false non-match rate (FNMR). Given the results of our experiments, the aim of this paper is to examine methods of designing correlation filters and arranging database image arrays for even faster parallel correlation, underlining the issues of calculation technique, quantization bit rate, pixel size and shift from optical axis. The correlation filter has proved its excellent performance and higher precision than classical correlation and joint transform correlator (JTC). Moreover, arrangement of multi-object reference images leads to 10-channel correlation signals, as sharply marked as those of a single channel. This experiment result demonstrates great potential for achieving the process speed of 10000 face/s.     

一维反铁磁光子晶体光学双稳态效应研究

基于传递矩阵方法和光局域化原理, 本文研究了一维反铁磁光子晶体共振频率附近光学双稳态效应随电磁波入射角、 外磁场强度及电介质层数的变化.研究发现, 当外磁场为1.0 kG(1 G=10^-4 T)、电磁波小角度入射时, 反铁磁材料高低共振频率附近均可探测到光学双稳态效应; 当电磁波大角度入射时, 仅在高共振频率附近探测到光学双稳态效应. 然而, 当外磁场强度增加到2.0 kG时, 由于反铁磁材料的高低共振频率向两侧移动, 低共振频率附近缺失的光学双稳态频率窗口又被有效激发. 此外, 电磁波小角度入射时, 电介质层数在低共振频率附近对双稳态效应影响较明显.     

杂质对KDP晶体光学质量的影响

研究了几类可能出现在KDP晶体的生长溶液中的有机物杂质和无机阴离子杂质基团对KDP晶体散射、透过率、光损伤阈值等光学质量的影响,结果表明,不同种类的杂质的影响并不相同,造成这一结果的根本原因在于杂质离子的结构及其与晶体表面原子成键能力的不同。     

测量大口径光学元件反射率用精密扫描系统误差分析

为测量高能激光传输系统中大口径高反射率光学元件的反射率,设计了一种大口径光学元件二维扫描的精密测量系统。介绍了该系统的结构及其工作原理,分析了影响系统测量精度的因素,从理论上分析了扫描系统的系统误差对测量精度的影响,结果表明在垂直于光束传播方向上,水平偏差在0.29 mm时,测量误差在10-6量级;腔长的变化量较小时,可通过对衰荡腔腔镜的调节,实现对旋转轴偏差的补偿及对系统的精细调节。通过拟合处理光强与时间的数据得到对应的一次指数函数拟合曲线,并通过计算得到衰荡时间和反射率,经过对比分析可知,该误差分析方法能比较有效地测量腔镜的反射率,并能减小实验数据本身带来的误差。