北京同步辐射装置3B3光束线传输效率及输出特性的计算

从北京正负电子对撞机储存环弯转磁铁光源的辐射特性入手, 分析了BSRF-3B3光源及其光束线光学系统的输出特性, 分别给出各光学元件的传输效率和采用不同单色器晶体在样品处的计算结果. 为光束线设计、调试及诊断提供了理论依据. 同时也为弯转磁铁光源光束线的输出特性的计算, 提供了一个模式.     

透射光栅在同上辐射光束线输出特性诊断中的应用

介绍了透射光栅在北京同步辐射装置３Ｗ１Ｂ光束线光源输出特性诊断中的应用。借助透射光栅进行了能量标定及分辨率的测量,并定性地给出了束线的高次谐波情况。     

北京同步辐射装置3B1B光束线和生物光谱实验站

３Ｂ１Ｂ光束线是北京同步辐射装置（ＢＳＲＦ）３Ｂ１光刻束线的一条分支束线，其光路和布局如图１所示．从北京正负电子对撞（ＢＥＰＣ）储存环３Ｂ１弯转磁铁处引出的同步辐射水平线偏振光，光源水平方向发散角为±３．７５ｍｒａｄ，竖直方向发散角为±０．２ｍｒａｄ，在距源１３．５ｍ处由一块柱面准直扫描镜Ｍ１反射后，水平方向的汇聚角为±１．２５ｍｒａｄ，竖直方向发散角不变．在距源２４ｍ处，有一块可升降的旋转抛物面反射镜Ｍ２．它降下时，光通过供其他实验站使用；升起时，将光反射聚焦于上方０．６ｍ处生物光学实验站光栅…     

同步辐射光电子能谱光束线控制系统

同步辐射光电子能谱光束线控制系统是根据设计和使用要求对构成该光束线主要部件进行可靠控制。该控制系统除了满足在线光路部件、机械部件和真空部件等安全精密工作的要求外 ,还要求能使光束线能够以良好的性能为实验站服务。由于系统工作的电磁环境比较恶劣 ,在调试过程中经常发现电子器件、接口电路及电子设备等时常由于强电磁干扰及辐射干扰而损坏。经过多次现场分析和模拟实验之后 ,采用辐射屏蔽和不同形式的抗强电磁干扰措施 ,最终使系统和设备能长期可靠的工作     

中国首次拥有可用的同步辐射光束线

 北京正负电子对撞机的同步辐射实验室所有的三个前端区的安装及调试工作在三月底已全部完成,静态真空达到3×10^-10乇,所有气动及遥控部件及连锁系统工作正常平稳.1989年4月3日晚9时29分,超高真空阀门打开,可动挡光器提开,束流开关打开,在所有三个窗口上均观察到由同步辐射可见光部分形成的明亮光斑.前端区由一系列光机元件组成,包括治动挡光器、狭缝、分束器、安全光闸等,是一个具有遥控、真空及安全连锁保护的超高真空系统.     

透射光栅在同步辐射光束线输出特性诊断中的应用

介绍了透射光栅在北京同步辐射装置3W1B光束线光源输出特性诊断中的应用.借助透射光栅进行了能量标定及分辨率的测量,并定性地给出了束线的高次谐波情况.     

第四代同步辐射光源的光束线站及其应用

随着第四代同步辐射光源的兴起,得益于X射线亮度和相干性的大幅度提升,同步辐射实验技术在谱学、散射和成像等方面取得了显著进步。这些技术能够探测复杂非均匀体系和动态变化过程中的物质结构、成分、化学价态、电子态和磁性等关键信息,在基础科学领域和应用基础研究中发挥关键作用。文章旨在介绍第四代同步辐射光源的线站技术优势,并结合具体例子探讨其在若干物理研究中的应用,同时也讨论了当前存在的工程技术挑战。希望人们能够了解第四代同步辐射光源的光束线站的特点和应用潜力,以促进其在各个科研领域的推广。     

北京同步辐射装置改进项目

2003年11月8日，来自9个单位的16名专家对位于中国科学院高能物理研究所的北京正负电子对撞机改进与未来发展专项-北京同步辐射装置（BSRF）改进项目进行了验收。     

北京同步辐射装置十年回顾与十年展望(上)

 北京同步辐射实验室过去的10年里从无到有,从纸面设计到装置建成,从抽象概念到具体实践,经历了近10个春秋,在参加者的共同努力下,目前已取得了可喜的成果.北京正负电子对撞机(BEPC)在同步辐射专用模式下已正常运行了～600小时.截止到1991年6月申请同步辐射机时的用户已经超过60,他们中的大部分人已经在北京同步辐射装置(BSRF)上做了实验并且取得了满意的结果.过去的10年是值得纪念的10年.     

北京同步辐射装置3W1B软X射线光束线偏振特性测量

应用自行研制的Mo/Si周期多层膜作为起偏器和检偏器的光学元件, 测量了北京同步辐射装置3W1B束线的偏振状态. 通过数据分析, 得到了3W1B软X射线的有关偏振参数, 在86—89eV能区经过起偏器后的偏振度超过98%, 圆偏振分量介于1%—3%之间.     

4B9B束线低能分支的性能改进

分析了北京同步辐射实验室4B9B原束线低能分支的构造及弊病,在不影响束线高能分支性能及总体机械结构的基础上提出了改进方案.详细介绍了该设计方案和光束线调试工作及出光后束线的性能测试工作,该测试结果完全符合束线的设计.该束线在同步辐射专用光实验中充分发挥了改进后的优势,取得了令人满意的结果     

Upgrading design of the 3B1A beamline for x-ray nanometre lithography of microelectronic devices at BSRF

Beijing Synchrotron Radiation Facility is a partly dedicated synchrotron radiation source operated in either parasitic or dedicated mode. The 3B1A beamline, extracted from a bending magnet, was originally designed as a soft x-ray beamline for submicro x-ray lithography with critical lateral size just below 1μm in 1988 and no change has been made since it was built. But later the required resolution of x-ray lithography has changed from sub-micrometre to the nanometre in the critical lateral size. This beamline can longer more meet the requirement for x-ray nano lithography and has to be modified to fit the purpose. To upgrade the design of the 3B1A beamline for x-ray nano lithography, a mirror is used to reflect and scan the x-ray beam for the nano lithography station, but the mirror's grazing angle is changed to 27.9mrad in the vertical direction, and the convex curve needs to be modified to fit the change; the tiny change of mirror scanning angle is firstly considered to improve the uniformity of the x-ray spot on the wafer by controlling the convex curve.     

SSRF前端区锯齿墙束流孔洞中子屏蔽的蒙特卡罗估算

主要关于上海同步辐射装置(SSRF)储存环电子引发产生的韧致辐射和中子辐射的研究. 中子和光子经多种组合材 料(厚度在5cm～115cm之间)屏蔽后的剂量特征由蒙特卡罗代码MCNP和EGSnrc估算得到; 蒙特卡罗计算表明, 单一的材料如铅, 铁和聚乙烯对高能中子是无效的生物屏蔽材料, 而组合材料如铅或者铁加聚乙烯和铅或者铁加混凝土被认为是屏蔽高能中子很好的组合材料. 铅铁等高Z材料加点包含有氢的低Z材料如聚乙烯是同时屏蔽高能中子和韧致辐射的一种比较好的组合材料选择.     

SSRF前端区锯齿墙束流孔洞中子屏蔽的蒙特卡罗估算

主要关于上海同步辐射装置(SSRF)储存环电子引发产生的韧致辐射和中子辐射的研究.中子和光子经多种组合材料(厚度在5cm-115cm之间)屏蔽后的剂量特征由蒙特卡罗代码McNP和EGSnrc估算得到;蒙特卡罗计算表明,单一的材料如铅,铁和聚乙烯对高能中子是无效的生物屏蔽材料,而组合材料如铅或者铁加聚乙烯和铅或者铁加混凝土被认为是屏蔽高能中子很好的组合材料.铅铁等高Z材料加点包含有氢的低Z材料如聚乙烯是同时屏蔽高能中子和韧致辐射的一种比较好的组合材料选择.     

理想波导短程透镜的研究

报道无曲率奇点，无像差光波导短程透镜的研究。在透镜面型设计上，应用前文提出的过渡区母线函数形式，有效地消除了透镜卷边两端的曲率奇点，具体设计和研制了理想光波导短程透镜。     

Calculation of Transmitted Efficiency and Output Characteristics for Beijing Synchrotron Radiation Facility (BSRF) 3B3 Beamline

Based on the radiation characteristics of the bend magnet source, the output characteristics of the BSRF-3B3 beamline was analyzed and discussed. The result is the foundation of adjustment and diagnosis of the beamline. A calculation model is provided to analyze characteristics of beamlines attached to bend magnet sources.     

Alignment of the photoelectron spectroscopy beamline at NSRL

Tile photoelectron spectroscopy beamline at National Synchrotron Radiation Laboratory （NSRL） is equipped with a spherical grating monochromator with the included angle of 174. Three gratings with line density of 200, 700 and 1200 lines/mm are used to cover the energy region from 60 eV to 1000 eV. After several years＇ operation, the spectral resolution and flux throughput were deteriorated, and realignment was necessary to improve the performance. First, the wavelength scanning mechanism, the optical components position and the exit slit guide direction are aligned according to tile design value. Second, the gratings are checked by Atomic Force Microscopy （AFM） and then the gas absorption spectrum is measured to optimize the focusing condition of the monoehromator. The spectral resolving power E/AE is recovered to the designed value of 1000@244 eV. The flux at the end station for the 200 lines/ram grating is about 1010 photons/sec/200 mA, which is in accordance with the design. The photon flux for the 700 lines/mm grating is about 5 108 photons/sec/200mA, which is lower than expected. This poor flux throughput may be caused by carbon contamination on the optical components. The 1200 lines/ram grating has roughness much higher than expected so the diffraction efficiency is too low to detect any signal. A new grating would be ordered. After the alignment, the beamline has significant performance improvements in both the resolving power aim the flux throughput for 200 and 700 lines/ram gratings and is provided to users.