BR—PVA—Ag膜热稳定性的Raman光谱研究

本文研究了BR－PVA－Ag膜的Raman光谱随温度的变化，结果表明：这种组装膜在80℃以下是非常稳定的，温度在80－95℃范围内它仍部分具有功能特性，温度超过100℃，BR已经变性。     

GaAs衬底上Ga In1—xP膜的电子探针X射线波谱分析

本文用波长色散型电子探针对ＧａＡｓ衬底上ＧａｘＩｎ１－ｘＰ混晶膜的元素组分进行了分析，为用ＳＥＭ－ＷＤＳ测定该类混晶膜材料作了一次试验。     

光谱法研究入—4—（十六烷氧基）双酞菁镧的LB膜

测定了八－４－（十六烷氧基）双酞菁镧氯仿溶液在亚相水面上的π￣Ａ曲线，同时制备了它的ＬＢ膜。应用红外光谱及紫外－可见光谱法对其进行了研究。     

利用P—偏振光双面反射法测量多层膜的光学参数

利用Ｐ－偏振光双面反射法测量了浸泡提拉法制备了“有机硅树脂－二氧化硅－有机硅树脂”三层膜样品两面Ｐ－偏振光反射强比γ与入射角θ关系曲线，经过数据拟合，确定了这三层薄膜的光学参数，同时研究了薄膜间的相互作用层的光学参数，测量结果表明此方法可能成为研究薄膜和膜层之间的相互作用的一种新手段。     

分离压和表面黏度的协同作用对液膜排液过程的影响

针对含不溶性活性剂的垂直液膜排液过程,在考虑分离压作用的前提下,引入随活性剂浓度变化的表面黏度模型,应用润滑理论建立了液膜厚度、活性剂浓度和液膜表面速度的演化方程组,通过数值计算分析了常表面黏度和变表面黏度情形下的液膜演化特征.结果表明:表面黏度是影响液膜排液过程的重要因素,当不考虑表面黏度时,液膜表面呈"流动"模式,反之呈"刚性"模式,且随表面黏度增加,液膜排液速率明显减缓.分离压对"黑膜"的形成至关重要,分离压单独作用时,其形成的"黑膜"长度较短,而只考虑表面黏度时,则不能形成稳定的"黑膜".而在二者协同作用下,液膜中部形成了向下扩展、厚度很薄但非常稳定的"黑膜",且"黑膜"厚度、出现时间均随表面黏度的增大而增加.当考虑活性剂浓度对表面黏度的影响时,表面速度受此影响显著;在形成"黑膜"长度及出现时间方面与相应常表面黏度的情形基本类似,但其"黑膜"厚度小于相应常表面黏度,故在液膜排液过程中更容易发生失稳.     

4-甲基-5-羟乙基-噻唑-十八酸酯的合成、表征及成膜性能研究

合成了一种新型两亲分子4－甲基－5－羟乙基－噻唑－十八酸酯（以下简写为HISE），利用FTIR，^1H NMR,MS等手段对其进行了表征，并研究了在不同pH值的亚相溶液中HISE单分子膜的形成，通过表面压－分子面积等温线（π－A）的测定，发现随着亚相pH值的增加，单分子膜的崩溃压升高，HISE的成膜性能逐渐增强，单分子膜从膨胀型向压缩型转变。通过对微分曲线dπ／dA-A的分析，研究了不同pH值的亚相中HISE单分子膜的不可压缩性和相变过程。结果表明，碱性介质中HISE单分子膜具有良好的稳定性和不可压缩性。     

微干涉测量技术研究液膜的楔压和液膜厚度的关系

报道了直接测定楔压等温线的方法,研究了阳离子表面活性剂ＴＴＡＢ在浓度大于ＣＭＣ时,液膜的平衡厚度与楔压的关系,以及膜表面张力与溶液表面张力之间的差别。结果显示,在低楔压时,膜厚随楔压增加而变薄,在高楔压时,随着楔压的增加,膜厚变化很小。由楔压等温线得出的膜表面张力的结果说明了一般黑膜的表面张力数值与溶液的表面张力并没有明显的差别。     

辐射探测芯片吸收膜理论设计及镍磷黑膜制备

对新型条形辐射探测芯片的吸收膜层进行了理论分析,并且在金刚石材质的探测芯片上采用电镀方法制备了镍磷黑吸收膜.辐射探测芯片的膜层吸收分析表明,芯片吸收膜层的吸收率正比于表面粗糙度.通过对辐射吸收膜层设计与制作工艺的研究,制备出一种用于条形辐射探测芯片的镍磷黑吸收膜,通过测量其表面形貌结构,表明该膜层具有50nm—1.5μm范围的微结构;红外吸收测试表明其吸收率在1.4—8μm波段为0.989以上,从而提高了辐射探测芯片的性能.     

用LB膜技术组装α—Fe2O3超微粒的研究

用超声分散的方法将α－Ｆｅ２Ｏ３超微粒分子用于硬脂酸／正己烷／氯仿溶液中，用ＬＢ膜进行有序组装。结果显示：α－Ｆｅ２Ｏ３超微粒能均匀地分散在有机溶剂中，α－Ｆｅ２Ｏ３超微粒／硬脂酸单分子膜的成膜性能良好，复合膜中的α－Ｆｅ２Ｏ３超微粒有一定的有序性，α－Ｆｅ２Ｏ３超微粒硬脂酸复合ＬＢ膜具有层状结构。     

1—苄基—9—氢富勒烯—60LB多层膜的制备及其光学非线性性质

利用π－Ａ等温线，小角Ｘ射线衍射和光学测量方法研究了一种取代富勒烯ＬＢ膜的结构特性。纯Ｃ６０－Ｂｅ分子以体相的形式存在于气－液界面上。氮冠分子作为隔层材料，与Ｃ６０－Ｂｅ分子相混合可以制备性能优良的ＬＢ膜。     

Einstein-Maxwell-Dilaton黑膜的狄拉克粒子辐射

分析讨论了Einstein-Maxwell-Dilaton黑膜解的视界附近的狄拉克方程.证明了在乌龟坐标变换下，该黑膜视界附近确有狄拉克粒子辐射.     

电化学制备薄黑硅抗反射膜

采用计算机控制电流密度按指数规律衰减对单晶硅进行电化学腐蚀，得到了折射率随薄膜厚度连续均匀变化的抗反射膜，即黑硅样品. 这种在制取上快速、经济和工艺非常简单的样品，不仅在较宽波段范围内反射率小于5%，且整个薄膜厚度不足1μm. 利用传输矩阵方法对黑硅样品的反射谱进行模拟，得到了理论与实验符合较好的结果.     

用椭偏法分析单波段及双波段兼容a－C：H增透膜

讨论了在单晶锗上为获得单波段（３～５μｍ）及双波段（３～５μｍ、８～１２μｍ）兼容ａ－Ｃ：Ｈ增透膜所必需的膜系设计，及用椭偏法对该膜进行的增透结果分析。结果表明，ａ－Ｃ：Ｈ膜是理想的红外增透膜。椭偏法对分析所制备的膜是否符合膜系设计要求及沉积工艺参数的确定具有重要意义。     

电化学制备薄黑硅抗反射膜

采用计算机控制电流密度按指数规律衰减对单晶硅进行电化学腐蚀,得到了折射率随薄膜厚度连续均匀变化的抗反射膜,即黑硅样品. 这种在制取上快速、经济和工艺非常简单的样品,不仅在较宽波段范围内反射率小于5%,且整个薄膜厚度不足1μm. 利用传输矩阵方法对黑硅样品的反射谱进行模拟,得到了理论与实验符合较好的结果. 关键词： 多孔硅 折射率 抗反射膜 黑硅     

膜溶解富集分光光度法测定微量锰的方法研究

本文以５－Ｂｒ－ＰＡＤＡＰ为显色剂，用ＷＸ型纤维素滤膜为富集分离膜测定微量锰。使用乙醇溶解捕集物，Ｍｎ－５Ｂｒ－ＰＡＤＡＰ在乙醇溶液中最大吸收波长为５６３ｎｍ，表观摩尔吸光系数为９．３２×１０＾４Ｌ．ｍｏｌ＾－１．ｃｍ＾－１。锰浓度在０．１－５．０μｇ／５ｍＬ范围内符合比耳定律，该法灵敏度高，操作简便，方法应用于食品，水样中锰的测定结果满意。     

TlBaCaCuO外延膜的光响应

在波长γ＝６３２．８ｎｍ，入射功率约０．８ｍ的Ｈｅ－Ｎｅ激光照射下，对ＴｌＢａ２Ｃａ２ＣｕＯ２（Ｔｌ－２２１２）外延膜的光响应行为进行了实验研究。结果显示：在样品转变温度（Ｔｃ＝１０５．５Ｋ）附近，ＴｌＢａ－ＣａＣｕＯ外延膜的光响应行为表现为辐射热与非辐射热效应共存现象。光响应信号电平与样品温度、偏置电流、及入射光束的调制频率等诸因素有密切关系的关系。实验结果还表明，辐射热与非辐射热效应的响应行为     

卟啉和卟啉铜分子的成膜特性和UV—Vis光谱表征

合成了５，１０，１５，２０－四（对－异戊酯苯基）卟啉及其铜配合物，研究了它们在气液界面的成膜性质，制备了上述化合物的ＬＢ膜，利用ＵＶ－Ｖｉｓ光谱对化合物在ＬＢ膜结构中的取向进行了表征，研究结果表明，两种化合物在界面上的成膜性质和分子环面在ＬＢ膜结构中的取向均受到铜离子配位的影响。     

聚酰亚胺LB膜的研究：Ⅰ聚酰胺酸N,N—二甲基十八胺前聚物的LB膜

聚酰胺酸Ｎ，Ｎ－二甲基十八胺是制备本身不具备两亲性的聚酰亚胺ＬＢ膜的前聚物。合成制备了均苯四酸二酐－４，４’－二胺基二苯酸Ｎ，Ｎ－二甲基十八胺，研究了它单分子膜的各异性，比较了伯胺和叔胺膜的不同，并用低角Ｘ射线衍射研究这前聚物ＬＢ膜分子的详细排列。     

酞菁铜衍生物在酞菁酮—氧化铁纳米粒子交替LB膜中的分子取向

通过Langmuir-Blodett技术制备了酞菁酮－氧化铁纳米粒子交替LB膜,利用偏振紫外－可见光谱对酞菁铜衍生物在不同制膜条件下所制得的交替膜中的分子取向进行了研究。结果表明,在同一氧化铁溶胶亚相中,随着表面压的增大,或在相同的表面压下,随着亚相中氧化铁浓度的减小,酞菁铜分子在其复合LB膜中倾斜程度变大。     

制备条件对Langmuir－Blodgett膜中分子聚集态的影响

通过对不同制膜条件下样品的π－Ａ曲线及紫外－可见吸收光谱的测量，研究ＬＢ单分子层膜中半花菁衍生物（ｈｅｍｉｃｙａｎｉｎｅｄｅｒｉｖａｔｉｖｅ简称ＨＤ）分子的聚集状态及其形成机制。纯半花菁衍生物单分子层膜中分子以Ｈ聚集体的形式存在导致吸收峰的兰移及有效分子二阶非线性极化率β（基频波长λ＝１．０６４μｍ）的减小。实验表明聚集体的形成主要发生在压膜过程。提高压膜速度或降低压膜终极压力（拉膜压力）可显著减小分子的聚集程度，从而提高单分子层膜的光学非线性极化率。