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为解决玻璃幕墙人工清洗工作量大,危险性高的问题,设计了这一玻璃幕墙清洗机器人。系统以STC12C5A60S2单片机为主控制器,通过控制42HS4817A4型号步进电机带动微型直线滑台,实现机器人玻璃面上下机械运动,最大运行速度约60mm/s,采用12V减速直流电机,5V马达,20ml量程注射器,PJYS40-15-N型号真空吸盘的组合,实现机器人脚吸附和脱离玻璃面,多次试验,稳定吸附结果高达95%以上。采用PT2262和PT2272无线发射接收器,实现无线遥控操作。试验结果表明,该系统制作成本低, 轻量化设计灵活性好,具有一定的实用价值。 相似文献
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信息及计算机应用的进步和更新使得技术应用型软件更加深入技术设计领域,SolidWorks软件就是其中的典型之一.它主要应用于机械零件的设计、装配体以及工程图三个大的方面,该软件的问世及运用对机械零件结构设计有着非同一般的影响力.文章对SolidWorks软件进行了简要介绍,重点针对其在机械零件结构设计方面的应用进行深入探讨和分析研究. 相似文献
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目前很多中小型关风机制造企业,仍然停留在二维CAD的设计与制造模式。这导致产品的修改更新困难,制造周期长,对非标准机型的响应速度慢,相关技术文件的管理混乱。文中运用SolidWorks"系列零件设计表"和"配置零部件"功能,实现了关风机TGFZ系列的三维造型,大大提高了设计的速度与效率,减少了设计错误,保证了设备的制造质量。 相似文献
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利用SolidWorks Simulation有限元分析软件对邦定机压头结构进行热应变分析,得出压头工作面热变形规律,为压头结构设计和改进提供了重要依据。 相似文献
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本文主要介绍了TAW-3硅片自动清洗装置的设计,着重介绍该设备在机械设计与制造过程中的主要技术难点和解决方法,以及该设备投入使用后所取得的经济效益和社会效益。 相似文献
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尹呈刚 《信息技术与信息化》2011,(6):65-67
为了解决梗丝加香滚筒排潮风机内部污垢难以清除的难题,在原有梗丝加香滚筒排潮系统的基础上通过增加清洗水管路、电控装置,编写相应的PLC控制程序,实现加香滚筒排潮风机的自动清洗功能。 相似文献
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CFC──113和1.1.1─—三氯乙烷对大气臭氧层有破坏作用,联合国禁止使用。电子生产厂家不得不选择新的替代方式。而免清洗技术是替代方式之一,免清洗焊剂喷涂装置又是此技术的关键部件之一。本文简要论述了此装置的特点。 相似文献
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针对船舱内各种复杂空间的作业环境需求,利用激光清洗技术对船用钢材EH36表面的漆层、锈蚀、油污开展工艺试验研究。首先研究激光功率、重复频率、脉冲宽度工艺参数组合对表面形貌的影响,揭示不同参数对表面剥离程度与粗糙度的影响,同时需要避免产生表面裂纹。其次,设计单因素试验获得漆、锈、油污的最佳清洗工艺窗口,漆、油污可以通过一次激光扫描除去,锈蚀需要清洗两次。通过对比清洗前后的基材表面元素含量分布以及微观形貌变化,结果表明,激光清洗后表面污染物有关的元素C、N、O均大幅降低,锈蚀、油污能够被完全去除,而漆层存在少量细小片状残留。最后对清洗后的基材进行了力学性能测试,发现表层硬度有所提升,除锈样提升约20 HV,除油样提升约3 HV,除漆样提升约13 HV;激光清洗对基材的抗拉、弯曲性能没有明显影响。因此,船用钢的激光清洗过程是可靠且无损的。 相似文献
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现如今采用的刹车装置存在许多不足,比如刹车过程复杂,刹车时间长、可掌控性差等,因此会增加事故的发生率.文章从装置优势、装置原理、可行性分析等多个方面介绍新型自行车手刹装置,最后得出新型手刹装置不仅切实可行,而且实用性、外观都比当下刹车装置优越许多. 相似文献
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论述了工业设备与装置的化学清洗,包括化学清洗的目的和意义、清洗剂的品种及其选择、缓蚀剂的品种及其选择、化学清洗工艺、化学清洗时机的确定以及化学清洗的发展趋势等. 相似文献
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翟德宏 《信息技术与信息化》2014,(2):63-65
以常规的石油储罐建模和展示为例,以SolidWorks 和VRML为平台实现石油储罐的三维建模和展示模拟,通过虚拟现实建模语言(VRML)实现虚拟现实精确建模的方法。为“数字石化”的发展提供理论基础。 相似文献
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文章基于Solid Works、Pro/E两款软件,分别研究了船用螺旋桨建模方法,推导出了螺旋桨叶切面型值点从
局部坐标系到全局坐标系的坐标转换公式,并对该公式进行了优化。实践证明文章提出的螺旋桨三维实体建
模方法是切实可行的,可极大地缩短螺旋桨设计与加工周期。 相似文献
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《电子技术与软件工程》2016,(9)
为向城市道路交通流预测提供科学的数据支撑,本文提出了基于Python对交通流数据进行清洗。清洗的数据主要包括异常、缺失、冗余数据。清洗方法按照本文提出的清洗规则并结合交通机理知识和城市道路交通流时段特征,实现交通流数据的合理清洗。 相似文献
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半导体产业是支撑经济社会发展和保障国家安全的基础性、战略性和先导性产业,单晶硅由于具有独特的物理及化学性质,在半导体产业中占有重要的地位,多晶硅作为制备单晶硅的前驱体,对纯度的要求尤为严苛,因此本文研究了一种采用低成本混酸清洗多晶硅块,进而制备高纯多晶硅的新型方法。在室温环境中,采用纯度为电子级(EL)、超纯(UP)、超纯MOS(UP-S)级的由氢氟酸和硝酸组成的混酸溶液清洗多晶硅块,所得多晶硅表面金属含量均在2 ppbw以下,即符合半导体级多晶硅对表面金属含量的要求;并研究了多晶硅表面金属含量与清洗过程所消耗EL级混酸之间的关系,发现使用300ml VHF:VHNO3=1:10的由氢氟酸和硝酸组成的EL级混酸溶液可以清洗出3.33kg半导体级多晶硅,说明低成本EL级混酸也可以广泛用于半导体级多晶硅的工业生产中。 相似文献