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我们在80-300K温区测量了电阻随温度变化行为十分不同的Y1-xPrxBa2Cu3O7-δ膜的I/f噪声,发现Pr含量对样品噪声水平没有明显的影响。我们还将实验结果与Dutta-Horn热激活模型进行了比较。 相似文献
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磁场穿透深度λ是超导体的一个基本参数,目前,一般测试穿透深度的实验只能给出其变化量Δλ=λ(T)-λ(0),而不能得到λ的绝对值.并且由于测量精度的限制,用给定的理论模型拟合实验结果而得到的λ也有很大的不确定性.本文对此进行了详细的分析,并用双线圈互感法研究了超导薄膜穿透深度的精确测量,并给出了磁控溅射Nb膜的测量结果.我们的研究表明,这一方法能较为准确地给出λ的绝对值,从而避免了以往的测量及拟合所导致的不确定性.基于BCS理论并考虑样品有限的电子平均自由程后,理论计算结果与我们的测量结果吻合较好 相似文献
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本文给出了两种测量双轴晶衬底上双轴晶单晶膜的折射率和膜厚的方法及测量的公式.我们利用这种方法测量了所研制的KTP光波导薄膜层的折射率和膜厚. 相似文献
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不同沉积参量下ZrO2薄膜的微结构和激光损伤阈值 总被引:3,自引:0,他引:3
ZrO2采用X射线衍射(XRD)技术分析了不同充氧条件和沉积温度对ZrO2溥膜组成结构的影响,并对不同工艺下制备的薄膜的表面粗糙度和激光损伤阈值进行了测量。结果发现随着氧压的升高,ZrO2溥膜将由单斜相多晶态逐渐转变为非晶态结构,而随着基片温度的增加,溥膜将由非晶态逐渐转变为单斜相多晶态。同时发现随着氧压升高晶粒尺寸减小,而随着沉积温度增加,晶粒尺寸增大。氧压增加时工艺对表面粗糙度有一定程度的改善,而沉积温度升高,工艺对表面粗糙度的改善不明显。晶粒尺寸大小变化与表面粗糙度变化存在对应关系。激光损伤测量表明,氧压条件和沉积温度对ZrO2薄膜的抗激光损伤能力有着较大影响。 相似文献
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用于彩色滤光片的低阻低应力ITO透明导电膜 总被引:2,自引:0,他引:2
探讨了用于彩色滤光片的低电阻和低压应力的ITO透明导电膜工艺。用磁控溅射方法在不同温度的衬底上制备了ITO薄膜。研究了膜形衬底温度与膜结晶化程度的关系,以及膜形衬底温度对膜电阻和压应力的影响。对不同衬底温度下形成的ITO薄膜进行了退火处理,并对退火后的ITO薄膜的电阻和压应力特性进行了分析。结果表明,采用室温沉积非晶态ITO膜,在真空退火下可获得低电阻、低压应力的多晶相ITO膜。 相似文献
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付猷昆 《核工业西南物理研究院年报》2003,(1):113-114
近来膜超导体YBCO的长尺寸化取得了较大的进展,有望在不久的将来用这种下一代的高温超导体制成超导线圈。与用低温超导体材料绕制的线圈相比,高温超导线圈可以在较高的温度下运行且较难发生失超现象。即使这样,对高温超导体失超的研究和测量也是非常有必要的。特别是膜超导体由YBCO薄膜和Ni基金属基带(比如Hastelloy合金)组成,当导体失超时有较高的电阻率。 相似文献