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本文研究了利用YSZ膜作缓冲层Si衬底上溅射BSCCO高温超导薄膜的生长工艺,分析了生长条件对Bscco高温超导相的影响,并提出了YSZ/Si上制备相BSCCO膜的工艺参数。 相似文献
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分析了各向异性衬底上的高温超导微带天线特性.选取两种典型的高温超导各向异性介质--GaNdAlO3和SrLaAlO4作为高温超导微带天线的衬底,采用各向异性媒质中的谱域矩量法,对微带天线的输入阻抗和辐射效率进行了计算.计算和分析结果表明,高温超导衬底的各向异性特性会影响高温超导微带天线的性能,而且这种影响因衬底而异,同时,衬底特性随温度的变化也将影响天线的性能. 相似文献
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硅衬底上外延CVD金刚石膜界面原子排列直接观察尤力平*高巧君(*北京大学电镜室,北京大学物理系,北京100871)CVD金刚石膜作为新型功能材料以其独特的优异性能引起材料工作者极大的兴趣。近年来,异质外延CVD金刚石单晶是国内外研究的热点之一,这是因... 相似文献
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重点研究了利用偏轴射频溅射的方法在Si衬底上生长YSZ(Y稳定的ZrO2)缓冲层及Bi-Sr-Ca-Cu-O超导薄膜的工艺,获得了82K的超导转变温度(Ton)。利用扫描原子显微镜和原子力显微镜对不同条件下生长的YSZ和BSCCO薄膜进行了观察,提出了YSZ晶粒填补Si衬底上针孔的新功能,并验证了BSCCO薄膜的螺旋柱状生长机理。 相似文献
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介绍了几种结构合理的超导/半导兼容材料的制作技术及其测试结果,重点讨论了超导体(YBCO)与半导体(Si,CaAs)间缓冲层的选取,并对这几种复合材料的性能作了较详细的分析。 相似文献
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Marianna Kemell Mikko Ritala Emmanuel Ossei-Wusu Helmut Föll 《Microelectronic Engineering》2007,84(2):313-318
High surface area Si/Al2O3/ZnO:Al capacitors were formed in electrochemically etched porous silicon. The Al2O3 dielectric and the ZnO:Al top electrode were deposited by atomic layer deposition in high aspect ratio porous Si. A single capacitor with a typical area of about 1 mm2 consisted of about 105 pores. Effective capacitance densities were between 2.0 and 2.5 μF/cm2, i.e., approximately 30 times higher than for a planar capacitor prepared under identical conditions, illustrating the effect of the enhanced surface area in the porous structure. 相似文献
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直流放电辅助脉冲激光沉积Si基GaN薄膜的结构特征 总被引:6,自引:1,他引:6
采用直流放电辅助脉冲激光沉积技术,在Si(111)衬底上生长了Ga N薄膜.XRD、AFM、PL 和Hall测量的结果表明在2~2 0 Pa沉积气压范围内,提高沉积气压有利提高Ga N薄膜的结晶质量;在15 0~2 2 0 m J/ Pluse入射激光脉冲强度范围内,随着入射激光脉冲强度的提高,Ga N薄膜表面结构得到改善.研究发现,在70 0℃衬底温度、2 0 Pa的沉积气压和2 2 0 m J/ Pluse的入射激光脉冲强度的优化工艺条件下,所沉积生长的Ga N薄膜具有良好的结构质量和光电性能. 相似文献
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采用磁控溅射法在Au/Si基片上制备了铌酸锌铋BZN(Bi1.5Zn1.0Nb1.5O7)薄膜。在基片温度200℃、本底真空1×10-3Pa条件下,BZN靶溅射0.5h,作为自缓冲层;然后在400℃下溅射1.5h,薄膜总厚度为200nm,650℃原位真空退火1h。XRD分析显示该薄膜为〈222〉单一取向,结晶良好;AFM扫描显示表面平整;测试表明不同频率下薄膜的性能没有大的改变。实验证明,选用电阻率较小的Au电极材料有利于器件性能的提高,实验得到介电常数可调率约20%、损耗为0.002~0.004。 相似文献
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Si基氨化ZnO/Ga2O3薄膜制备GaN纳米线 总被引:1,自引:0,他引:1
利用射频磁控溅射法在Si(111)衬底上溅射ZnO中间层和Ga2O3薄膜,然后在管式炉中常压下通氨气对ZnO/Ga2O3薄膜进行氨化,高温下ZnO层在氨气气氛中挥发,而Ga2O3薄膜和氨气反应合成出GaN纳米线.X射线衍射测量结果表明利用该方法制备的GaN纳米线具有沿c轴方向择优生长的六角纤锌矿结构.利用扫描电子显微镜、透射电子显微镜、傅里叶红外透射谱、能量弥散谱及选区电子衍射观测并分析了样品的形貌、成分和晶格结构.研究发现ZnO层的挥发有利于Ga2O3和NH3反应合成GaN纳米线. 相似文献
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采用射频磁控溅射技术,在石英玻璃衬底上沉积了具有不同层数和厚度的(Si/Ge)n多层薄膜。XRD、Raman光谱测试表明,溅射态薄膜为微晶结构,在溅射过程中层间扩散形成Si-Ge振动键,溅射时间和薄膜层数影响着薄膜层间的扩散和结晶率;FESEM结果表明,薄膜表面由颗粒团簇构成,层与层之间有明显界面。UV-vis光谱测试表明,(Si/Ge)n多层薄膜在可见光范围内具有较宽的吸收,增加薄膜层数可扩大太阳能光谱的响应范围,而增加Si单层膜厚度对光吸收范围的影响较小。 相似文献
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Dongpeng Yan Jun Lu Min Wei Shenghui Qin Li Chen Shitong Zhang David G. Evans Xue Duan 《Advanced functional materials》2011,21(13):2496-2496
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利用热原子层沉积(Atomic Layer Deposition, ALD)技术在不同深宽比GaAs衬底上进行了Al22O3/HfO2复合薄膜的沉积。通过对其表面和能谱进行分析发现,沉积温度对复合薄膜的摩尔比具有较大的影响。随着深宽比的增大,其沉积表面和沟槽内会出现残留物;随着ALD沉积温度的上升,其沉积表面和沟槽内的残留物减少,摩尔比趋向均匀。当深宽比为2.2并利用150 ℃的低沉积温度时,表面及底面基本无残留物。但当深宽比为4.25时,150 ℃沉积明显有大量残留物。只有当温度升高到300 ℃时,表面和沟槽里复合薄膜的残留物才被明显消除。ALD技术可以实现各种器件结构的全方位钝化,这是其他化学气相沉积法无法比拟的。 相似文献