Gd-Ba-Cu-O超导膜的XPS研究

用XPS对不同凡的Gd-Ba-Cu-O超导膜做了定量、角分布、成象和离子剥蚀纵深分析．结果表明：样品表面都存在Ba富集和Gd短缺,表面原子微观分布不均匀;表面和纵深都存在含C物质污染;与Tc≥87K的样品比较,Tc≤77K的膜表面对应于非超导相的Ba和O原子浓度最高,膜的纵深处的原子组成仍偏离化学计量,而且膜表面和纵深处的含C物污染最严重．     

彩色胶片护膜层的XPS研究

应用XPS技术,对几种彩色胶片的护膜层(表面层)结构组成进行了研究。结果表明,这几种彩色胶片均含有机硅化物,F-400胶片可能具有双层护膜结构。     

XPS研究电抛光铜表面粘液膜的组成

金属的电抛光应用越来越广泛.但电抛光机理至今仍不很清楚.我们曾用 XPS 和AES 研究了不同槽电压下电抛光铜表面的组成和物种,确认其表面均为纯铜,不存在含磷固体膜.本文用 XPS 研究电抛光液中1-羟基乙叉-1,1-膦酸(HEDP)浓度、抛光液的 pH 及其接受体(H_3PO_4,HEDP 和 HEDP H_3PO_4)变化时铜的表面组成,并进一步证明,电抛光时形成的粘液膜是水溶性膜,铜表面在不同抛光条件下并不形成难溶的含磷固体膜.通过电子能谱对固化后粘液膜组成和深度分布的研究确定,粘液膜可能是铜的多核聚合混合配体配合物,其组成可近似地表示为[Cu_4(PO_4)(HEDP)]_n.     

聚酰亚胺LB膜热解制备SiC薄膜的XPS研究

用XPS对沉积在硅基片上的聚酰亚胺LB膜以及由它真空热解制备的SiC薄膜进行了研究 ,并对其形成过程进行了跟踪分析 .XPS结果显示聚酰亚胺LB膜结构均匀 ,质量良好 ;真空热解时 ,约在 6 70℃时LB膜中的C与衬底Si反应形成SiC ;Ar离子溅射深度俄歇谱表明所制备的SiC膜中Si和C浓度成梯度分布 ,说明SiC是由Si和C相互扩散反应形成的     

XPS和AES研究锡表面的防变色膜

通过比较多种防锡变色剂的防变色效果,发现乙二胺四甲叉膦酸(EDTMP)是一种优良的防锡变色剂。用XPS、AES及Raman光谱探讨了EDTMP的防变色机理,结果表明EDTMP在锡表面形成了一种耐蚀性保护膜。在深度剖析曲线的元素组成近似恒定区测得膜的相对原子浓度(A.C.％)为:O 48.0％;Sn 10.7％;N 7.7％;C 23.1％;P 10.5％。     

碳钢表面稀土转化膜的XPS和AES研究

用浸渍法在Ａ３钢表面上获得了稀土转化膜，此膜呈均匀的金黄色，有良好的装饰效果。硫酸铜点滴、盐水浸泡、硫化氢气体等加速腐蚀试验以及膜层的电化学测试均证实此膜具有一定的耐蚀性能。膜层的ＸＰＳ９Ｘ射线光电子光谱）分析结果表明，膜层由铁、铈、氧等元素组成；在膜层的表面，铁以Ｆｅ＾３＋，铈以Ｃｅ＾４＋状态存在，在膜层的内部，铁以Ｆｅ＾３＋及Ｆｅ＾３＋，铈以Ｃｅ＾３＋和Ｃｅ＾４＋状态存在；从ＡＥＳ（俄歇Ｆｅ＾     

利用XPS研究Y-Ba-Cu-O超导体(Ⅱ)

1.超导体表面的化学态(Ⅱ) 从结合能数据来看,Y(1)和Cu的结合能非常近似于相应氧化物Y_2O_3和CuO。然而表征超导体的Ba(1)和O(1)有些特殊,Ba在周期表中为强金属性元素,极易丢失(6s)~2电子,即使在金属中也要电离成导带电子,使得金属Ba~0和离子Ba~(+2)结合能十分相似,甚至金属钡结合能反而大一点,然而和众多的钡化合物相比,超导体中Ba(1)的结合能偏低,似乎在电子的受授过程中,有较多电子偏向于钡,另外也可能由于超导体的Ba与所有晶格氧     

利用XPS研究Y-Ba-Cu-O超导体**(Ⅰ)

实验部分XPS数据来自英国VG公司ESCA LAB-5型电子能谱仪,对谱仪能量标度及样品荷电位移的校准,皆以文献的标准数据为准,为了使光电子峰具有较好的分辨卒,以及尽量避开俄歇峰的重叠干扰,本实验主要采用MgKα_(1,2)辐射。     

载Ni超稳Y型沸石的XPS研究

本文用XPS研究了载Ni超稳Y型沸石上Ni~(2+)的还原作用.结果表明,于450℃用氢还原仍有明显数量的Ni~(2+)没有被还原.当试样经氢还原或热处理后,NiHUSY沸石的表面(Ni/Si)_s值增加.表面金属Ni与异辛烷临氢裂化及其产物分布有密切关系,随着Ni~(2+)还原程度提高,异辛烷临氢裂化活性显著增加,二次裂化反应减少,“焦”的前躯产物(不饱和烃)含量大大降低.     

微胶囊膜表面化学组成的XPS分析

采用XPS表面表征技术对生物微胶囊膜表面化学组成进行了分析。结果表明,海藻酸钠_壳聚糖_海藻酸钠(ACA)微胶囊表面带负电荷的含C基团与带正电荷的含N基团的相对百分含量分别为30·6%与60·4%,而海藻酸钠_聚赖氨酸_海藻酸钠(APA)微胶囊分别为42·3%与30·0%,因此ACA微胶囊表面比APA微胶囊带更多的正电荷,更有利于蛋白质吸附与细胞粘附。为深入了解生物微胶囊表面引起的机体反应过程、改进微胶囊性能,提供了理论依据。     

XPS对多层膜中单层膜厚的测定

依据XPS的测量信号与能量损失有一定定量关系的原理,利用数理分析方法,推导数学模型进行多层膜中单层膜厚的计算,该方法是一种测量总膜厚小于10nm的单层膜厚的非破坏性的方法,具有较高的准确性。     

XPS和AES研究不锈钢上金色钼酸盐转化膜

用阴极电沉积法从钼酸盐溶液中取获得了金黄色的不锈钢转化膜，该膜具有良好的热稳定性和耐蚀性，ＸＰＳ和ＡＥＳ分析表明，膜厚约为６６３Ａ。膜的表面钼以Ｍｏ（Ⅵ）与Ｍｏ（Ⅳ）共存。从ＡＥＳ深度剥蚀曲线的组成恒定区求得膜的组成为：Ｏ５１．６％，Ｍｏ２８．５％，Ｐ１３．７％和Ｆｅ６．２％。循环伏安的氧化峰也证明膜内存在Ｍｏ（Ⅳ）。     

用XPS和XAES分析电化学沉积的DLC膜

采用电化学沉积方法，以甲醇溶剂作碳源，直流电压作用下在单晶硅表面沉积得到碳薄膜。通过研究石墨、金刚石和样品薄膜的XPS和XAES谱图特征，证明了此方法沉积得到的是DLC薄膜;利用曲线拟合技术在C_1s电子能谱图中拟合出sp³峰与sp²峰，并计算出样品薄膜中sp³碳的相对含量为55%;研究石墨、金刚石和样品薄膜的一阶微分XAES谱图，用线性插入法估算出样品薄膜中sp³碳的相对含量为60%。     

多晶Fe60Ni40合金阳极钝化膜的XPS研究

过渡金属Fe、Ni或其合金由于它们具有磁性和在工业上被用作催化剂等，它们与氧化腐蚀性气体02、C12等的作用已被广泛研究［‘－3］．含Ni的不锈钢和含Ni50％的FeNi基合金在酸性溶液中表现出比铁更好的耐腐蚀性并增强了氧化钝化层的附着力，放它们在溶液的腐蚀与钝性研究已引起广泛的兴趣，甚至包括对F6Ni基非晶合全玻璃的腐蚀与钝性研究【4一刊，用不同的方法研究溶液状态下的自然氧化膜或阳极钝化膜，得出的结果不同，对腐蚀与钝性解释也很不一致，硼酸一础砂或磷酸一磷酸盐缓冲液在工业上被广泛用作清洗剂、缓蚀剂或成膜剂等·因此，…     

利用角分辨XPS评价硬脂酸铜LB膜

一般根据膜衬底XPS峰强的衰减与膜厚的关系即可判断硬脂酸类LB膜的成膜质量,本文利用角分辨XPS技术,根据硬脂酸铜LB膜持征的羧基碳与样品中的总体碳C_(ls),蜂强度的比值(r)在不同电子出射角时的变化(△r),与无序粉末样品比较得出了成膜质量与△r间的对应关系,提出了一种利用XPS监测成膜质量的方法。     

SO^2—4／TiO2超强酸催化剂的XPS研究

采用ＸＰＳ技术对不同焙烧温度，不同Ｈ２ＳＯ４浓度，不同ＰＨ值和齐聚反应后ＳＯ＾２－４／ＴｉＯ２超强酸催化剂的表面元素电子结合能及表面元素的相对含量进行了分析。     

多孔硅的XPS研究

对两类孔硅样品测量X射线光电子能谱（XPS）：一类为在空气中放置近一年的多孔硅,另一类为HF处理后的具有新鲜表面的多孔硅。通过分析Si2p和O1a芯能级谱可以得到以下结论：新制备的多孔硅表面只有少量的O和F存在,其中氧是以OH^-形式存在,它的形成与清洗过程中F^-被OH^-取代有关。随着放置时间的增加,表面逐渐被氧化,形成正化学计量比的SiO2,而随着从表层向内的深入,逐渐变为次氧化物。结果表明刚制备的多孔硅与大气中放置氧化后的样品表面态的类型是不一致的。     

用角分布XPS法研究热处理时YBCO膜的表面组成变化及膜与衬底的相互作用

用角分布XPS法研究了MOD法制得的YBCO膜在热处理过程中膜的表面元素浓度变化以及膜与村底ZrO_2之间的原子扩散和固态化学反应。结果表明无论是薄膜(约0.1μm)和较厚的膜(约1～1.5μm),在大约530～720℃的温度范围内加热后都发生铜表面富集和钡表面浓度偏低。在800℃以上加热后铜的表面浓度显著降低,温度愈高,降低愈甚。膜与衬底之间的化学反应也随温度升高而加剧。例如薄膜在890℃加热后钡向ZrO_2衬底扩散,膜中的铜仍以 2价为主;在950℃加热后衬底表面生成了富钡层,而铜则主要以 1价的形式存在于富钡层表面。与厚膜相比,在800℃以上薄膜与衬底的原子扩散和固态化学反应对于膜超导电性的损害更显著。     

用角分布XPS法研究热处理时YBCO膜的表面组成变化及膜与衬底的相互作用

用角分布XPS法研究了MOD法制得的YBCO膜在热处理过程中膜的表面元素浓度变化以及膜与村底ZrO_2之间的原子扩散和固态化学反应。结果表明无论是薄膜(约0.1 μm)和较厚的膜(约1～1.5 μm), 在大约530～720 ℃的温度范围内加热后都发生铜表面富集和钡表面浓度偏低。在800 ℃以上加热后铜的表面浓度显著降低, 温度愈高, 降低愈甚。膜与衬底之间的化学反应也随温度升高而加剧。例如薄膜在890 ℃加热后钡向ZrO_2衬底扩散, 膜中的铜仍以+2价为主; 在950 ℃加热后衬底表面生成了富钡层, 而铜则主要以+1价的形式存在于富钡层表面。与厚膜相比, 在800 ℃以上薄膜与衬底的原子扩散和固态化学反应对于膜超导电性的损害更显著。     

SO4^2—／ZrO2超强酸催化剂的XPS研究

对ＸＰＳ技术对不同焙烧温度，不同Ｈ２ＳＯ４浓度制得的ＳＯ４＾２－／ＺｒＯ２和不同反应温度下反应后ＳＯ４＾２－／ＺｒＯ２超强酸催化剂的表面元素电子结合能及表面元素的相对含量进行了分析。结果表明，焙烧温度和反应温度对催化剂表面元素Ｚｒ，Ｏ，Ｓ的氧化态没有影响，但Ｚｒ，Ｏ的电子结合能随温度的升高而下降；Ｏ（－２）至少可归结为三种存在形式的氧；ＳＯ４＾２－可以在催化剂表面富集，且当Ｈ２ＳＯ４浓度为０．５ｍ