PNP和NPN型异质结双极晶体管的不同设计考虑

PNP和NPN高频异质结双极晶体管的设计有明显不同，这主要归因于砷化镓中电子与空穴的迁移率存在显著差别。这种差别在基区和子集电区外延层的设计中体现得尤为明显。文中详细讨论了PNP和NPN两种类型的异质结双极晶体管各自外延层的设计考虑。     

高鲁棒性N型沟道RF-LDMOS在TLP应力下的电学机理研究

提高射频功率器件的鲁棒性有利于增强器件的抗静电放电能力和抗失配能力.为了直观地了解器件内部发生的电学过程，本文研究了高鲁棒性N型沟道RF-LDMOS（Radio Frequency Lateral Diffusion MOS）在TLP（Transmission Line Pulse）应力下的电学机理.利用0.18μm BCD（Bipolar/CMOS/DMOS）先进制程，实现了特定尺寸器件的设计与流片.通过实测与仿真的对比，发现静电放电失效的随机性、芯片内部的热效应是导致仿真和实测差异的非理想因素.通过对TLP仿真的各阶段重要节点的分析，证明了源极下方的P型埋层有利于提高空穴电流的泄放能力，从而提高RF-LDMOS的鲁棒性.     

Formation of lateral thin-film 700-V insulated-gate bipolar transistors by using retrograde p-well double implantation scheme

Formation of lateral thin-film 700-V insulated-gate bipolar transistors (IGBTs) on Si-semiconductor-on-insulator (Si-SOI) substrates by using retrograde p-well double implantation scheme has been proposed. With a low thermal budget for p-well formation, retrograde high-energy boron implantation is employed to cause a high dopant concentration in the bulk region, and additional low-energy boron implantation is carried out for alleviating the surface punch-through of MOSFET (metal-oxide-semiconductor-field-effect-transistor) structure. As compared to the conventional p-well formation process, the retrograde double implantation scheme can lead to better latchup immunity, due to a considerably higher dopant concentration and thus lower well resistance in the p-well bulk region. In addition, owing to a lower surface dopant concentration, the retrograde double implantation scheme can lead to better on-state characteristics than the conventional process, while achieving comparable blocking voltage.     

Modelling of LDMOS transistor using artificial neural networks: DC and RF performances

This article presents an accurate method based on artificial neural networks (ANNs) for DC and RF modelling of laterally diffused metal oxide semiconductor (LDMOS) transistors, under various temperature conditions. In LDMOS transistors, temperature is an effective factor, so the proposed models include this parameter. Two neural networks‐based procedures have been proposed for LDMOS transistor modelling, first for DC and second for RF modelling. In each case, two kinds of neural networks have been used, multilayer perceptron and radial basis function neural networks. Two models are compared to each other in terms of accuracy, and for both of them, an excellent agreement between modelled and measured data is obtained. The ANN model is developed and trained with the help of data obtained by simulation of a Si‐LDMOS transistor using ADS software.     

单芯片大功率RFLDMOS晶体管设计与实验

传统射频LDMOS晶体管的源区采用重掺杂p+sinker结构,该结构会占据较大的芯片面积。文中采用槽型sinker结构,可将源区sinker面积减少1/3以上。通过流片实验,得到饱和电流为170 mA/mm、击穿电压120 V、截止频率和最大振荡频率分别为5.5 GHz和10 GHz的RF LDMOS器件。在50 V工作电压、1 090 MHz频点下栅宽345 mm单芯片器件的最大输出功率362 W,功率增益15.6 dB,漏极效率38.1%。     

RF LDMOS功率器件研制

基于ISE TCAD模拟软件对RF LDMOS器件的工艺流程和器件结构进行了优化设计,采用带栅极金属总线的版图结构降低栅电阻,同时简化了LDMOS器件的封装设计.通过实际流片和测试分析,重点讨论了漂移区注入剂量和漂移区长度对LDMOS器件的转移特性、击穿特性、截止频率及最大振荡频率的影响.测试结果表明该器件的阈值电压为1.8 V,击穿电压可达70 V,截止频率和最大振荡频率分别为9 GHz和12.6 GHz,并可提供0.7 W/mm的输出功率密度.     

高密度低寄生电感硅基半导体电容器的设计及验证

采用在半导体材料表面深刻蚀三维图形以形成稳固蜂窝结构的方法,研究了一种适用于解决高频电路和系统级封装中串扰耦合问题的高密度、低寄生电感、制作及排布容易的硅基电容。结果显示,所制作的电容,其密度可增大至普通平面半导体电容的10倍以上,并较大程度地降低了电容的寄生电感,使其性能大大优于常用商业陶瓷电容,更适用于高频电路和系统级封装中的有效退耦。     

DTV发射机75 W射频功放模块的设计与实现

提出了一种用于数字电视发射机中的大功率射频功放模块的设计方案,采用平衡型放大器结构,以LDMOS器件作为功放管,给出了包括射频放大电路和直流馈电电路的实现方法,并提供了对系统增益及线性度等指标的仿真和测试结果.     

可靠性管理在电厂的应用与成效分析

水电厂发电具有无污染性,能够为当地居民生产生活提供可靠的电源,为促进水电厂进一步发展,可靠性管理被应用进来,随着它的应用给水电厂发展带来了一定好处.本文将从可靠性管理基本情况入手,分别研究可靠性管理在水电厂中的应用与成效.     

高稳定性半导体激光器功率控制电路设计和测试北大核心CSCD

有些飞行器的表面安装有基于半导体激光器模块的激光信标系统,用于发出指定功率的稳定光束来配合地面光电系统对激光信标的捕获、识别和跟踪。针对该激光信标系统在宽温度范围下的高功率稳定性需求,设计了两种半导体激光器模块功率控制电路,分别对激光输出功率进行闭环控制和开环控制,采用国产和进口的激光器分别测试了两种控制电路在高低温下的功率控制效果,测试结果表明定电压开环控制电路的控制效果优于定功率闭环控制电路。     

LDMOS管并联电容提取及E类功率放大器设计

研制了2.14GHz频段横向扩散金属氧化物半导体(LDMOS)晶体管的高效率E类功率放大器。采用并联谐振法结合ADS软件仿真提取出管子的关键参数Cds,并在此基础上进行电路仿真,设计了馈电网络和负载匹配网络,有效抑制谐波分量。给出了功率放大器的实验结果,输出功率达到38.55dBm时,附加效率达到64.1%,与仿真结果吻合良好。