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相似文献
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1.
丁世英  余正  史可信  颜家烈 《物理学报》1987,36(12):1640-1642
用真空热蒸镀法制备了超导多层PbBi-SiO膜。测量了这些样品的超导临界参量。观测到同一样品上的临界电流在不同磁场和温度下有不同的特征。 关键词:  相似文献   

2.
蔡学榆  尹道乐 《物理学报》1981,30(5):700-704
本文考虑了由不同的金属组成的多层膜超导体的邻近效应,在Cooper极限下,用Silvert和Cooper方法给出了一个强异质多层膜超导体的临界温度和几何结构之间的关系。  相似文献   

3.
利用多层溅射技术制备了WSix/Si薄膜,然后测量其平面电阻的退火行为,发现平面电阻在600-700℃之间退火后有陡降,这对应于非晶WSix薄膜中W5Si3四角相的形成。x射线衍射和慢正电子湮没测量也证实了这一点。认为薄膜电阻率的突变反映了导电机制的变化,它和薄膜结构的变化有很好的对应关系。 关键词:  相似文献   

4.
利用超薄的SiO2做缓冲层,用脉冲激光沉积法在Si(100)上制备了具有良好铁电性的高度(100)取向的PZT薄膜.通过对不同条件下在SiO2/Si(100)上生长的PZT薄膜的研究,分析了SiO2厚度、沉积温度、退火时间对PZT性能的影响  相似文献   

5.
报道了用透射电子显微镜对单层YBCO薄膜,PZT/YBCO集成薄膜,STO/GBCO集成薄膜和STO/BTO超晶格薄膜等四种有代表性的薄膜样品的研究结果.在单层YBCO平面样品中观察到镶嵌,在生长在YBCO/STO上面生长的PZT薄膜中,观察到柱状结构.用PLD方法生长的STO/GBCO,YSZ集成薄膜中缺陷很少.虽然GBCO膜的表面并不平整,但仍能生长出c取向的GBCO薄膜.用MBE方法生长的STO/BTO多层膜具有很好的外延特征.由于晶格匹配和层状生长机制所以具有锐的界面.这些结果对改进铁电超导集成薄膜和多层膜制备工艺是有用的  相似文献   

6.
王万录  王宏 《发光学报》1990,11(3):229-233
实验研究表明,SnO2薄膜经过退火处理后其光致发光谱有明显的变化。在氧和氮两种不同气氛中进行热处理,其变化也有差异。这种变化主要是由于SnO2膜中氧空位和自由载流于浓度变化所致。  相似文献   

7.
张明  于文  张君  张远仪  王文魁 《物理学报》1996,45(10):1724-1728
利用原位X射线衍射技术得到非晶调制多层膜Nb/Si中的互扩散系数与退火温度的关系,调制周期L=3.2nm的非晶调制多层膜是用粒子溅射方法制备的.温度范围为423—523K的有效互扩散系数通过原位测量多层膜的一级调制峰强度与退火温度之间的关系而得到.利用缺陷陷阱延迟扩散机制解释了所得到的扩散系数与退火温度的关系.建立了可以解释较小前置系数的模型 关键词:  相似文献   

8.
本文报道了基于混合物理化学气相沉积法(Hybrid physical-chemical vapordeposition,简称为HPCVD),以硅烷热解出的Si原子作硅源,在SiC衬底上原位生长了一系列硅掺杂MgB_2超导薄膜样品.样品中最大硅掺杂量是9%.与纯净的MgB_2薄膜相比较,掺杂样品的超导临界转变温度T_c没有大幅下降,超导临界电流J_c得到了一定提升.在温度为5K,外加垂直磁场为3T的条件下,样品的临界电流密度最大达到2.7×10~5Acm~(-2).同时上临界场H_(c2)在超导转变温度附近对于温度的变化曲线斜率—dH/dT也有一定的提高.  相似文献   

9.
SiOx∶H(0<x<2)薄膜光致发光的退火行为研究   总被引:2,自引:0,他引:2       下载免费PDF全文
采用退火后处理的方法,使SiOx∶H(0<x<2)形成纳米硅与二氧化硅的镶嵌结构.利用红外透射谱、Raman谱和光致发光谱,系统地研究了不同退火温度对薄膜微结构及室温光致发光谱的影响.发现发光谱均由两个Gauss线组成,其中主峰随着退火温度的升高而红移,而位于835nm的伴峰不变.指出退火前在720—610nm的波长范围内强的主峰可能来源于膜中的非晶硅原子团,随退火温度的升高主峰的红移是由于非晶硅原子团的长大.而伴峰可能来自硅过剩或氧欠缺引入的某种发光缺陷.1170℃退火后在850n 关键词:  相似文献   

10.
熊刚  刘文汉  吴自勤 《物理》1999,28(5):285-289,313
对目前的几种软X射线光学元件的性能作了简要的阐述和分析。综合介绍了多层膜作为软X射线光学元件的新进展。同时对多层膜光栅这种新型软X射线光学元件的原理、性能、制作工艺进行了详细的说明。  相似文献   

11.
12.
本文研究了退火后的a-SixC1-x:H薄膜的光致发光光谱,采用发光光谱的峰值能量与测量温度之间的关系判别带尾宽度的大小。实验表明,发光峰值能量随退火温度的升高而移向低能。用指数带尾模型计算了带尾宽度。结果表明,随着退火温度的上升带尾变小。文中对这些结果进行了讨论。 关键词:  相似文献   

13.
SiC films were prepared by pulsed XeCl laser ablation of ceramic SiC target on Si(100) substrate at temperature 850℃ and post-deposition high temperature annealing above 1100℃ (1100℃-7 Pa). The surface morphology, crystal structure, composition and chemical state of the element in the films before and after annealing were studied by X-ray diffraction, transmission electron microscopy, scanning electron microscopy, Auger electron Spectrum, X-ray photoelectron spectrum and photoluminescence methods. It was found that the films were consisted of polycrystal 4H-SiC structure before annealing and were turned into singlecrystal epitaxial 4H-SiC after annealing. The surfaces of the films were smooth and the adhesion of films with the substrate was good. The films were transparent. Excited by the laser with wavelength 290 nm at room temperature, the films emitted two luminescence bands with the peaks at 377 nm and 560 nm. The emission at 377 nm was attributed to the combination of the transmission among the valence and conductor bands, while the one at 560 nm was possibly to be from exciton emission.  相似文献   

14.
金属有机物沉积法(MOD)制备YBa2Cu3O7-x(YBCO)涂层导体是最具有商业前景的方法之一.本文使用环烷酸铜代替三氟乙酸铜,降低了前驱液中大约50%的氟含量.然后在带有缓冲层(Y2O3/YSZ/CeO2)的Ni-5at.%W基带上采用MOD法制备了YBCO薄膜并系统研究了高温热处理过程中气体流速和氧分压对YBC...  相似文献   

15.
徐海  李建  韩宝善  王荫君 《中国物理》1998,7(9):655-661
The magnetic force images and surface topography images of sputtered Co/Au multilayer films in remnant state were measured by magnetic force microscopy. From the surface magnetic structures shown in the magnetic force images it can be seen that the domain pattern and size vary with the increase of the thickness t of the non-ferromagnetic Au layer remarkably. With the measurements of the effective perpendicular anisotropy Ku and the domain period d, it was found that there are similar trends of d and Ku as functions of t. The variations of the domain pattern and size were qualitatively interpreted in terms of magnetic domain theory. the theoretical relations of d and the domain wall energy σw vs t were calculated. As t=8.5 AL(1 AL=0.235 nm), the largest σw is 11 mJ/m2.  相似文献   

16.
郭栋  蔡锴  李龙土  桂治轮 《物理学报》2001,50(12):2413-2417
在对不同有机溶剂分子结构分析的基础上,选取甲醇、DMF(N,N-二甲基甲酰胺)和乙腈溶液为碳源,以脉冲直流电源电解有机溶液的方法在Si片上制得了含氢类金刚石薄膜(DLC薄膜),并研究了退火对薄膜结构的影响.通过X射线光电子能谱(XPS),喇曼(Raman)和红外(IR)光谱对薄膜的结构进行了分析表征.XPS表明薄膜的主要成分为C,喇曼光谱显示所得薄膜为典型DLC薄膜.喇曼和红外光谱还表明,膜中含有大量H并且主要键合于sp3碳处.随着退火的进行薄膜中的H被去除.随温度升高薄膜电阻率的下 关键词: 类金刚石薄膜 退火  相似文献   

17.
用磁控溅射方法制备了两个具有不同Fe层厚度的[Ni80Co20(L)/Fe(tFe)]N多层膜系列样品,其中tFe=0.1和2nm.研究了两个系列样品的磁及输运性质随Ni80Co20层厚度L的变化关系.在退火态[Ni80Co20(L)/Fe(0.1nm)]N系列样品中,发现各向异性磁电阻(AMR)和横向磁电阻(TMR)在L为10nm附近存在一较宽的增强峰,其峰位与制备态[Ni80Co20(L)/Fe(2nm)]25多层膜TMR的增强峰位一致.当L小于Ni80Co20合金的电子平均自由程时,制备态[Ni80Co20(L)/Fe(0.1nm)]N样品的各向异性磁电阻(Δρ)和零场电阻率ρ都随L的减小而增加,且ρ的增量超过Δρ的增量.ρ随L的依赖关系可采用Fuchs-Sondheimer理论描述.在L小于10nm时,制备态界面掺杂[Ni80Co20(L)/Fe(0.1nm)]N系列样品的矫顽力Hc随L近似直线上升,在L大于10nm后趋于饱和.退火后Hc显著下降.实验结果表明,在多层膜结构中,界面散射可导致ρ和Δρ的增强;磁性合金界面层还可导致畴结构的改变及TMR和AMR的增强.  相似文献   

18.
用一个W-Si混合靶源,以直流磁控溅射在SiO2上共溅射一层W-Si薄膜后,进行500—1000℃,15s的真空快速热退火,发现薄层电阻随退火温度出现一反常的极大值。用转靶X射线衍射研究分析了这一反常现象。在直至1100℃高温退火的样品中发现薄膜中存在W5Si3。它对薄层电阻有一定的贡献。 关键词:  相似文献   

19.
朱沛然  江伟林  徐天冰  殷士端 《物理学报》1992,41(12):2049-2054
本文报道了一种分析硅衬底上SiNx和SiOx的N/Si和O/Si含量比的简便方法。用1.95MeV质子弹性散射测量薄膜(9000—15000)的组分比和厚度,实验值与2.1MeVHe的背散射分析(RBS)结果符合得很好;对微米以上厚度样品,MeVH束分析更为有利,这是与He束背散射分析互补的一种方法。文中给出了实验结果,并进行了讨论。 关键词:  相似文献   

20.
Physical aging of tapes of poly-ether-ether-ketone (PEEK) drawn at 120°C to 150% elongation and aged for 2 months at room temperature and at 120°C was analyzed. The physical aging was followed mainly with thermal analysis, transport properties, and Young's modulus. Moreover, a mechanical analysis, consisting of checking the length of tapes subjected to a constant load, during a thermal run gives additional information on the aging and on the capability to crystallize. The results are consistent with the formation on small regions in which segments of chains are closely packed.  相似文献   

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