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基于简单碰撞理论煤粉燃烧动力学模型的研究-PART Ⅲ:氧气可达比表面积 总被引:1,自引:1,他引:1
根据不同温度下氧分子平均自由程的大小,比较了小孔、中孔和大孔中三种扩散速率与煤焦表面燃烧速度的大小.研究表明2000 K以内,颗粒表面分子扩散速率比氧化反应速率大1个数量级以上,过度扩散速率不小于氧化速率.温度小于1200K时,燃烧速率比Knudsen扩散速率小1~5个数量级,扩散孔径小于15~28 nm,反应主要在内外表面进行;1200~1600K时,燃烧速率与Knudsen扩散速率相当,扩散临界孔径28~38 nm,反应在外表面及浅层内表面进行;温度1600K以上时,Knudsen扩散速率比燃烧速率小1个数量级,孔径38~50 nm以下内表面上碳的氧化速度受扩散控制.煤焦的氧化主要发生在Knudsen扩散临界孔径10~50 nm以上的氧气可达表面上. 相似文献
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纳米颗粒与常规尺度颗粒相比,因具有小尺寸效应、表面效应以及很高的化学反应活性等特点,所以较之常规尺度粒子,能够在光、热、化学活性等方面展现出更多特有的性质。为了研究纳米铝颗粒在氧气环境下的氧化反应发光特性,设计了电容器放电将脉冲大电流通过铝丝,利用铝丝的电阻热储能使其在几微秒或更短的时间内熔化、气化,形成金属蒸汽或进一步形成等离子体,产生的纳米金属颗粒与周围的氧气自发进行氧化反应发光的电爆炸实验方案。实验测量到的铝氧发光光谱如图1所示。 相似文献
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CH3S CH2SH异化反应的理论研究 总被引:1,自引:1,他引:1
利用密度泛函理论(DFT)和从头算(ab initio)研究了CH3S←→CH2SH互异化的反应机理.采用HF、B3LYP、MP2理论水平和中等基组6-31(d),计算了CH3S、CH2SH及其过渡态的结构参数、谐振频率、零点能(ZPF)、总能量和相对能量,并利用B3LYP/6-31(d)的方法计算了反应的内禀反应坐标(IRC),给出了分子构型和自旋污染沿反应坐标的变化曲线,以及最小能量曲线(MEP)、绝热能量曲线.此外,利用传统过渡态理论(CTST)研究了该互异化反应的速率常数和平衡常数在200~1000K的变化. 相似文献
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CH_3S←CH_2SH异化反应的理论研究 总被引:1,自引:0,他引:1
利用密度泛函理论 (DFT)和从头算 (abinitio)研究了CH3 S CH2 SH互异化的反应机理 .采用HF、B3LYP、MP2理论水平和中等基组 6 31(d) ,计算了CH3 S、CH2 SH及其过渡态的结构参数、谐振频率、零点能(ZPE)、总能量和相对能量 ,并利用B3LYP/ 6 31(d)的方法计算了反应的内禀反应坐标 (IRC) ,给出了分子构型和自旋污染沿反应坐标的变化曲线 ,以及最小能量曲线 (MEP)、绝热能量曲线 .此外 ,利用传统过渡态理论(CTST)研究了该互异化反应的速率常数和平衡常数在 2 0 0~ 10 0 0K的变化 相似文献
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用密度泛函理论(DFT)B3LYP方法,在6-311G**基组下,计算研究了反应CI+HBr→HCI+Br和CI+HBr→BrCI+的机理,求得的各过渡态均通过振动分析加以确认。运用求得的反应活化能,以及不同温度下过渡态和反应络合物的配分函数,借助绝对反应速率理论求得50-1500K的反应速率常数。 相似文献
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在中子与原子核Pb及其同位素反应的总截面,去弹性散射截面,弹性散射截面和弹性散射角分布的实验数据基础上,获得了入射中子能量从1—300MeV的一组普适中子与Pb及其同位素反应的光学模型势参数.应用光学模型,扭曲波玻恩近似理论,宽度涨落修正的Hauser-Feshbach理论,预平衡反应的激子模型和核内级联模型,计算和分析了中子与248Pb反应的所有截面、角分布和能谱.理论计算与实验数据进行了分析比较 相似文献
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高灰熔点X煤通过添加钙镁复配(WCaO/WMgO=1)助熔剂降低灰熔点,在模拟煤气化过程中制备灰渣,用X射线光电子能谱(XPS)分析不同温度点灰渣中O,Si,Al,Ca,Mg的存在形态及演化过程。认为钙镁复配助熔剂降低灰熔点主要是作用在硅、铝、氧结构变化上,表现为铝元素结构中铝氧配位方式的变化,即四配位的铝氧四面体[AlO4]和六配位的铝氧八面体[AlO6]随温度的变化而变化;硅元素结构中SiO2链的破坏,Ca2+和Mg2+加入会破坏SiO2链,使得桥氧硅变为非桥氧硅;以及氧元素结构中桥氧键断裂和非桥氧键形成。结合Factsage热力学分析软件,分析了添加钙镁复配助熔剂后,煤灰渣的高温相平衡组成,从矿物的结构变化研究助熔剂的助熔机理。结果表明,添加钙镁复配助熔剂后,Ca2+和Mg2+易与硅氧和铝氧四面体以及铝氧八面体中非桥氧键结合,生成低熔点的长石类矿物和镁质矿物,从而降低煤灰熔融温度。 相似文献
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简要地介绍了磁约束托卡马克装置中用超导磁体代替常规磁体的发展方向 ;叙述了可能用在聚变中的两类高温超导材料 ,并讨论了托卡马克磁体对高温超导体的特殊要求 ;描述了高温超导体的聚变应用进展 ;介绍了高温超导电流引线以及 A- SSTR2反应堆高温超导环场 (TF)线圈的概念设计 相似文献
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侧边抛磨光纤波导传输特性的理论分析 总被引:2,自引:0,他引:2
在建立侧边抛磨光纤D型光纤边界条件的基础上,用三维有限差分光束传输法计算和分析了侧边抛磨光纤器件的光功率衰减随光纤的侧边抛磨长度、光纤侧边抛磨后剩余包层的厚度、以及填充聚合物材料折射率三个参量变化的特性.结果表明,侧边抛磨光纤器件的光功率衰减随着抛磨长度的增加而增大;当抛磨长度等于9 mm时,光功率衰减随着剩余包层厚度的增大而单调递减.而当抛磨长度大于9 mm时,剩余包层厚度小于3 μm的范围内,光衰减随着剩余包层厚度的增加出现振荡;当聚合物折射率与纤芯折射率相同时,光功率衰减最大. 相似文献
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Effects of Dislocation on High Temperature Transport Characteristics of Unintentionally Doped GaN 下载免费PDF全文
High temperature transport characteristics of unintentionally doped GaN have been investigated by means of high temperature Hall measurements from room temperature to 500^o C. The increment of electron concentration from room temperature to 500^o C is found to vary largely for different samples. The dispersion of temperature dependence of electron concentration is found to be directly proportional to the density of dislocations in GaN layers calculated by fitting the FWHM of the rocking curves in x-ray diffraction measurements (XRD). The buildup levels in persistent photoconductivity (PPC) are also shown to be directly proportionM to the density of dislocations. The correlation of XRD, Hall and PPC results indicate that the high temperature dependence of electron density in unintentional doped GaN is directly dislocation related. 相似文献
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含耐高温涂覆层长周期光纤光栅的温度特性研究 总被引:1,自引:1,他引:0
利用逐点写入法在耐高温光纤中用红外飞秒激光直接写入了长周期光纤光栅,研究了光栅的高温温度特性,并做了理论分析.通过对含耐高温涂覆层的长周期光纤光栅进行20 ℃~300 ℃的温度传感实验,结果表明:在高温段光栅的谐振波长漂移量与温度之间仍能保持大的灵敏度(0.060 5 nm/℃)和好的线性度,且光纤耐高温涂覆层不受破坏,光纤耐高温涂覆在高温下不会出现碳化现象,光栅传感性能良好.实验证明该方法制作的光栅适合于长期在高温环境下使用,应用价值巨大. 相似文献