照相陶瓷分划

光学工业中,光学元件标线板的制作方法大体上可分为机械刻度法和照相法两类。刻度法包括刻度腐蚀法,刻度真空镀铬法等。照相法包括无底层虫胶复制真空镀铬法,火棉胶干版胶合保护法,火棉胶干版焙烧法即照相陶瓷分划等。以上各种加工方法用在不同的要求中,它们各有所长。照相陶瓷分划在火棉胶干版中是最牢固的一种,不用胶保护玻璃,能经得住一定的机械     

数字化技术与大学物理照相实验改革

 照相技术是大学物理实验的一个重要内容,用于培养学生记录实物、图像和各种现象信息的能力。高等工科院校一般都开设普通光学照相机照相技术实验,有的学校还开设了全息照相技术实验。     

初缩照相中图板尺寸与拍摄距离的计算

用照相方法制取光学零件的基本原理是,将欲制造的光学零件按其精度要求,以一定的放大倍率在图板上绘制零件的放大图形。再用照相机把它按一定的比例拍摄下来。一般,这种照相分两次进行,即初缩照相和精缩照相,从而达到提高零件精度的目     

全息摄影

一、全息摄影的基本原理照相摄影技术,从发明到现在一百多年来,都是根据几何光学的原理,利用透镜光学系统,使立体的景物成象于感光材料上,然后在照相纸上显现出景物的平面象。各种型式的立体摄影也不越出这一范围,只是在一张(或两张)照相纸上摄录立体景物某几个方向的平面象,通过柱面透镜板或体视镜等进行观察,利用双眼体视效应,从而看到具有立体感的景物影象。近十多年来,由于激光的出现,才使照相摄影     

照相物镜移植应用的研究

对于用逐步修改法设计光学系统,初始结构的选择是重要环节。除在典型形式中寻求初始结构外,也可以借鉴其它系统的光学结构进行相似创新。照相物镜移植应用指的是不同系统物镜因成像功能相似,故可实施光学结构的优化替代。本文研究了各种物镜成像功能的相似性,不同系统大孔径、大视场物镜光学特性的边缘性;根据像差理论阐明了照相物镜是大孔径、大视场系统理想的结构替代源;结合照相物镜丰富的光学结构资源的实际情况,指出移植应用是可行的。将照相物镜移植应用于其它系统大孔径、大视场物镜设计中,生产出与照相物镜结构相似、像质优良的镜头。实践证明了移植应用的实用性与可操作性。     

聚乙烯醇撕膜法制造曲线分划底版

<正> 照相复制光学分划零件的精度在很大程度上依赖于照相底版的质量,因此制造高质量的照相底版是照相复制光学分划零件的关键。我厂某产品分划零件采用照相复制腐蚀法制作。此分划图形为不等角度相间的九条对数曲线(图1),分度精度要求较高,曲线又十分特殊。如用绘制放大图制版,难以保证曲线的精度和角度误差。若利用数控设备刻图或绘图后进行照相制版虽比较理想,但目前我国这     

棱镜透镜干涉仪总体设计中的一些考虑

<正> 一、总体参数的确定及总体方案的选择棱镜透镜干涉仪(又称泰曼-格林干涉仪)是棱镜干涉仪和透镜干涉仪的总称,是一种高精度、多功能的光学测试仪器。棱镜干涉仪用于检测具有平面性质的光学零件或光学系统的质量,如平板玻璃、各种棱镜以及望远系统等。透镜干涉仪主要用于测定望远物镜、照相物镜的波象差。棱镜透镜干涉仪采用的是分振幅双光束相干光路,其中测试光路的标准平面波经被检测的光学零件或光学系统后变成了由被检测件质量所决定的变形波面,该波面与参考光路的标准平面波汇合而产生干涉图形,根据干涉图形     

评定光学仪器质量的准则

光学系统的频率对比特性,决定着系统的信息率,是目视仪器和照相仪器的主要参数之一。大的信息容量、高度的分辨能力和各种良好的对比特性,以及观察系统与照相记录材料的广泛动态范围都与此有关。在用于辐射记录或图象分析的光学电子仪器内光电接收器不具备这种高度的分辨能力和广泛的动态范围,通常用于有高度快速作用的场合,但与频率对比特性一样也是主要的信息参数,限定着对扩展辐射源和点辐射源的灵敏度。大多数的光学电子监视和控制仪器是由远离仪器的点源辐射产生有效信号。通常来自外部扩展源的背景辐射和仪器内部的辐射(散射、热辐射、荧光辐射等等)都是信号的干涉源。     

光学干版和制版软片的研究

<正> 随着光学仪器工业的发展,光学分划零件制造日益广泛地采用了印刷、半导体、普通摄影、航测及光谱等多种型号的干版和制板软片,用于制造分划零件、全息光栅板及标牌、面板、印刷电路版的底版等。使用胶片的品种涉及到多种行业,并有专业化系列化的发展趋势。本文将可用于光学分划制造的各种干版和制版软片统称为光学干版和光学制版软片。系统研究光学干版和制版软片,对目前光学仪器制造工业的发展,尤其对分划零件的制造水准将产生重大的影响。     

会议简讯

一九七六年五月二十七日五机部在江苏省扬州市召开了“光学刻度、照像经验交流会”。会议交流了光学战线广大职工在毛主席革命路线指引下,以阶级斗争为纲,坚持党的基本路线,贯彻“鞍钢宪法”,大搞技术革新,技术革命,在光学刻度,照像工艺方面取得的丰硕成果。会上还讨论了光学刻度、照像工艺技术改造的方向和目标。     

全息光学透镜成象及全息光栅频谱分析在4f光学系统中的处理

一、前言全息光学透镜具有常规光学元件所没有的优点,它体小、质轻、形状可变。但是由于制作它的全息记录材料衍射率低(银板30％,铬板80％),所以,其成象质量在一般应用中不如常规光学透镜清晰。我们曾多次将其作为物镜,在同一波长和白光下对物体照相,其分辨率都比常规光学透镜成象差。所以,我们将其置于4f光学系统中进行信息处理。     

光学刻度保护蜡

光学仪器中,尤其是光学计量仪器中大多都有分划板(标线板),分划板的片基是用光学玻璃或者普通玻璃制成的。各种类型的分划板是通过刻划法和照相法制作的。刻划法的工艺过程大体上有①在玻璃片基上被刻划面涂保护蜡,②机械浮刻蜡层,③酸蚀玻璃表面,④除去保护蜡,⑤上色(填充颜色)等工序。这种刻度法也称作机械化学刻度法或刻蜡腐蚀法。由于它不是直接在玻璃片基的表面上进行刻划,而是在玻璃片基涂     

新型三片式照相物镜设计

本文是作者对新型三片式照相物镜光学设计的总结。文中首先分析了普通型照相物镜的发展趋势和新型照相物镜结构特点。着重介绍这类照相物镜像差特性和校正方法及其用价值工程选择玻璃材料的方法。文中还列举三种新型照相物镜设计结果,并和国外照相镜头加以比较,用大量的可靠数据回答了用普通玻璃设计新型三片式照相物镜的可行性。最后对新型照相物镜从不同角度加以评价。     

高速照相及纤维光学

古老的光学仍在不断地前进中,最近几年的新成就主要在微光加强、光学量子振荡器及放大器、高速照相、纤维光学等方面。本文所谈的只是高速照相及纤维光学。一、高速照相人眼网膜的感光和消光需要一定时间,大     

高能闪光照相X射线能谱的理论研究

用Monte-Carlo方法模拟球对称客体系统的闪光照相中X光光子的输运过程。分别在单客体情况和全系统情况下,给出了记录平面上各种光子谱及其在记录平面上的空间分布。结果表明：记录区边缘的谱形与源光子谱形很相似;深穿透区各点之间的谱形差别不大,谱平均光子能量近似相同,并且位于使高Z材料的光子线吸收系数最小的能量范围内。 结果还表明,高能闪光照相的光子能谱会因客体中光子的光程不同而有较大的差别。     

高能闪光照相X射线能谱的理论研究

 用Monte-Carlo方法模拟球对称客体系统的闪光照相中X光光子的输运过程。分别在单客体情况和全系统情况下,给出了记录平面上各种光子谱及其在记录平面上的空间分布。结果表明：记录区边缘的谱形与源光子谱形很相似;深穿透区各点之间的谱形差别不大,谱平均光子能量近似相同,并且位于使高Z材料的光子线吸收系数最小的能量范围内。 结果还表明,高能闪光照相的光子能谱会因客体中光子的光程不同而有较大的差别。     

利用数值模拟测量闪光照相中H-D曲线

在分析高能闪光照相中传统实验方法不足的基础上,提出了采用Monte Carlo模拟结果来建立底片光学密度与照射量之间的关系,并对一个球对称客体进行了实验照相。采用Monte Carlo方法分析了底片光学密度分布左右不对称的各种因素,认为底片光学密度分布左右不对称主要是照相器件几何对中不理想造成的,并说明了底片光学密度左右平均的合理性。在此基础上介绍了H-D曲线的生成方法,采用Silberstein理论得到了具有较高精度的H D曲线。这种结合Monte Carlo模拟的H-D曲线测量方法不但避免了照射量测量误差,而且还考虑了H-D曲线对X射线能谱的依赖关系,更能体现实际情况,具有较高的精度。可用于球对称客体或柱对称客体的辐射照相。     

结合计算机全息与照相技术的光束波前调制实验

光束的波前调制在光镊、原子捕获、量子信息处理和光学计算等领域有潜在的应用价值。本文利用传统胶片照相技术,通过计算机全息的方法制作了不同的分叉全息光栅。通过这种全息光栅在实验上实现了对高斯光束的波前调制,不仅让学生体验了传统的照相操作过程,而且让学生对波动光学中的相关概念有了深入的认识。     

晶体硅太阳电池金属电极光学损失的理论分析与实验研究

本文基于丝网印刷和丝网印刷后光诱导电镀太阳电池,分析了太阳电池前表面金属电极引起的光学损失的各种情况.考虑到空气-玻璃界面和金属电极两侧边缘区域的反射,通过将金属电极截面近似为半椭圆形模拟了电极的光学损失,计算得到的有效宽度比约为金属电极几何宽度的40%.通过对不同类型样品反射谱的测量计算,同时在理论模拟和实验测量上得到了太阳电池前表面金属电极的光学损失,相应的理论与实验结果相符合. 关键词： 光学损失 有效宽度比 光诱导电镀 反射谱     

积木式图形发生器及其图形发生方式

大规模集成电路要求图案复杂、线条细、单元面积大的掩模版,这使人工刻图照相的制版方式远不能满足要求。用计算机自动程序控制光学曝光装置,在感光干版上经过许多次的曝光自动拼合成一个复杂图案,这就是图形发生器自动制版方式。因为大规模集成电路掩模的精度高、图案非常复杂,因此拼图的精度和速度是两项关键问题。