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正1.导言玻璃作为一种常见的无机固体材料,已被人们使用了几千年,埃及、美索不达米亚、中国、欧洲都有关于当地早期玻璃制造和使用的考古发现。今天,玻璃已然渗透到了人们生产生活中的各个领域,小到温度计,大到空间望远镜,可以说,当今世界已经离不开玻璃。回看历史,实际上在很长一段时间里,玻璃的用途极为有限,人们主要将其用作装饰物、工艺品、器皿和建筑材料等,其制造工艺在 相似文献
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制造微通道板用玻璃的发展 总被引:1,自引:1,他引:0
微通道板(MCP)的广泛应用,对其性能提出了更高的要求。因之,促进了制造MCP玻璃的新发展。本文分析了发展高性能(高稳定长寿命)的MCP对其玻璃材料的要求。叙述了目前用于生产MCP的玻璃的性能。介绍了MCP及其所用玻璃材料的新发展。 相似文献
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半导体玻璃微通道板的研制 总被引:1,自引:0,他引:1
介绍了半导体玻璃微通道板的主要性能,并与传统铅硅酸盐玻璃的相关性能进行了比较。阐述了半导体玻璃的研制工艺,研究了利用半导体玻璃材料制备微通道板的工艺途径,开发了靠玻璃本身体电导性质而无需氢还原工艺的微通道板,即半导体玻璃微通道板。研制出孔径为20μm、外径为12mm的半导体玻璃微通道板,实验利用紫外光电法测试了微通道板的增益、闪烁噪声和成像性能。结果表明新型微通道板具有明显的电子增益和低的闪烁噪声,并且通道表面稳定;利用磷硅酸盐玻璃材料可以实现体导电微通道板的制备。 相似文献
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从玻璃组分与玻璃光学折射率分布及零色散波长位置的影响机理出发,研究低色散卤化物对硫系玻璃的色散调控作用.制备了Ge-Ga-Se-CsI硫卤玻璃,利用差示扫描量热仪、红外椭偏仪、红外光谱仪等测试了该玻璃的物化性质,分析了原料和玻璃提纯工艺、CsI含量对玻璃形成以及透过范围的影响,并计算了该玻璃的材料色散.实验结果表明:该玻璃的透过范围可覆盖可见光至中远红外波段(0.55~18μm);该玻璃的材料零色散点随着CsI含量的增加明显蓝移,摩尔百分比为20%和40%的CsI含量可使该玻璃材料的零色散波长蓝移至3.5μm和1.5μm附近,且该玻璃的热稳定性较好,有利于低色散中红外光纤的制备和应用.结合玻璃提纯技术和高温聚合物保护拉丝光纤拉丝工艺,获得了最低损耗为8.2dB/m的单折射率硫卤玻璃光纤. 相似文献
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本文在研究各组分对玻璃光谱及物理性质影响的基础上,制定了实用玻璃组成及工艺.结果表明,氟磷玻璃具有良好的激光和物化性能.唯一遗留的问题是玻璃中的夹杂物,正努力解决. 相似文献
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作者在设计由一个单透镜和两个双胶透镜组构成的中倍显微物镜时,发现结构型式一定的物镜,玻璃材料选定后,色球差大小基本一定。因此,正确选择玻璃材料是减小色球差的关键。文中给出了色球差和玻璃光学常数之间的关系曲线,可供设计色球差小的中倍显微物镜时参考。 相似文献
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通道式倍增器(CEM)和微通道板(MCP)是五十年代末发展起来的一种新技术,目前已在科学的各个领域中得到广泛的应用,受到人们的高度重视。它以其体积小、增益高而著称。CEM和MCP的性能参数很多,而最重要的是增益和暗噪声。它们都和材料的二次电子发射有着密切的关系。这就刺激了人们对玻璃材料的二次发射研究的兴趣。在MCP广泛应用的今天,尽管人们对玻璃的二次发射作了不少研究,特别是对δ=δ(Vp)关系的研究较多。而对二次发射和组成的研究却显得甚为不足。 本文较详细地探讨了PS—Bi硅酸盐玻璃的二次电子发射,对二次发射系数和组成的关系作了初步研究,也涉及到一些工艺条件,诸如退火、酸洗、氢还原等对二次发射系数的影响。并研制出一种高发射系数、低发射电压的玻璃材料,这种材料的二次发系数是4.85。发射峰值电压是100V。膨胀系数为100.8×10-7。软化点是535℃。 相似文献
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采用溶胶-凝胶工艺,以正硅酸乙酯(TEOS)和乙烯基三乙氧基硅烷(VTES)为硅源,以VTES中的乙烯基(CHCH2)为有机改性剂,制备乙烯基改性二氧化硅凝胶玻璃,并在此过程中将四磺化酞菁镍(NiTSPc)掺杂其中制得复合凝胶玻璃。 所得样品分别进行红外(IR)和紫外-可见(UV-Vis)吸收光谱的表征以测试其组成、结构和NiTSPc在复合体系中的存在状态。 结果表明,VTES中的乙烯基被成功地引入SiO2网络并实现了对其改性;复合凝胶玻璃中NiTSPc的掺杂对基质的组成、结构未产生影响;NiTSPc在乙烯基改性后的凝胶玻璃基质中得到很好的分散,基本以单体形式存在。 对所得结果进行了分析讨论。 相似文献
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高硅氧发光玻璃因具有较好的热稳定性、化学稳定性等优点,成为极具潜力的荧光材料。针对其仍存在发光强度较弱的问题,从与发光性质紧密相关的制备工艺出发,分析各关键工艺参数对高硅氧玻璃发光性质的影响具有重要的意义。本文制备了关键工艺参数不同的Eu2+/Dy3+共掺高硅氧发光玻璃,通过测试微孔表面结构参数、发射光谱和红外吸收光谱等,研究了分相温度、溶液离子浓度和烧结温度等制备关键工艺参数对高硅氧发光玻璃光致发光性质的影响。当分相温度不同时,多孔玻璃微孔表面结构参数和高硅氧玻璃的发射光谱表明,分相温度通过影响多孔玻璃的比表面积间接的影响高硅氧玻璃的发光性质,多孔玻璃比表面积数值越大,高硅氧玻璃发光强度越大。当溶液离子浓度不同时,高硅氧玻璃的发射光谱表明,当溶液中Dy3+浓度增加,高硅氧玻璃中Dy3+和Eu2+发光增强;当Dy3+浓度大于0.1mol·L-1时,由于Dy3+的发光出现浓度猝灭效应,高硅氧玻璃整体发光强度减弱。当烧结温度不同时,高硅氧玻璃的发射光谱和红外吸收光谱表明,随着烧结温度升高,高硅氧玻璃中—OH残留量减少,发光强度增强;当烧结温度大于1 000℃时,高硅氧玻璃出现析晶,发光强度减弱。 相似文献
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在超声振动打孔时,微晶玻璃最大切深决定了孔壁表面质量。基于脆性断裂材料去除机理,建立了简单实用的超声打孔材料去除率理论关系式,得出影响表面质量的主要工艺参数为:金刚石粒径、刀具转速和进给速度。通过正交实验方法,得到了微晶玻璃超声打孔的最佳工艺参数,金刚石粒径650#、刀具转速12 000 rpm和进给速度5 mm/min。通过工艺参数优化后,微晶玻璃打孔质量得到明显提升,孔壁经过化学抛光处理后,表面粗糙度Ra达到0.055 1μm,能有效提升激光陀螺腔体的真空特性和激光陀螺的性能。 相似文献
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光子学发展到目前阶段, 已经基本上成为与现代电子学平行发展的一门新兴学科。其中的光子学玻璃就是当代特种玻璃的一个重要发展, 也是光子学材料中最重要的一类, 它包括的几个主要方面是激光玻璃和玻璃光纤, 光功能玻璃和非线性光学玻璃, 光波导玻璃和光子存储玻璃等, 内容涵盖了物理、化学、制备工艺、器件应用等多门传统学科以及它们的交叉学科。本文重点介绍光子学玻璃在光子学领域的主要应用及其性质。 相似文献
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介绍了玻璃光学元件精密模压成形技术的原理、玻璃材料、模具制造、模具表面镀膜、结合有限元仿真的模压工艺优化和模压成形设备等核心技术的研究进展,并讨论了当前存在的问题。通过探讨玻璃模压成形技术在自由曲面、微结构、衍射结构表面和晶圆阵列等光学元件中的应用现状,对玻璃元件精密模压成形技术的发展趋势和挑战进行了展望。 相似文献