液相外延生长的ZnSe—ZnTe异质结的绿色场致发光

以液相外延法制备的ZnSe—ZnTe异质结在77°K时呈现出绿色场致发光,谱峰为5350A。在77°K时由紫外激发源曾测出光致发光,并且发现绿色发光似乎是由于空穴注入所致,而不是由于电子注入。     

硒化锌中的场致发光

讨论了含Mn,Mn和Al,Al或Cl的硒化锌单晶制成的肖特基二极管的场致发光性质。这种二极管在反向偏压下发射一种宽度可变的黄色谱带,其峰值波长在5785(2.14 ev)和6050A之间。从ZnSe:Mn二极管得到的最佳发射在1.9×10~(-3)％的能量效率下亮度为500呎朗伯。在较低的300呎朗伯亮度时得到 3×10~(-3)％的最高效率。在反向偏压下ZnSe:Mn二极管呈现出特征锰发射的窄带,其中心位于5785A。像Al那种外部施主的存在将使亮度和效率降低。这个连同发射向长波的轻微漂移和发射带的加宽一起与自激活发射的起始激发相联系,而自激活发射随施主含量的增加而增加。发现ZnSe:Al场致发光中的自激活发射在6300A(1.97ev),而ZnSe:Cl中为5900A(2.1ev)。仅在肖特基接触下含有一较厚(～200A)绝缘层构成的二极管中观测到正向偏压场致发光。正向场致发光在亮度上至少比反向EL低一个数量级。     

高纯汽相生长GaP的场致发光及电学性质

研究了以汽相外延法在整片单晶GaP衬底上生长的高纯GaP的场致发光、霍尔系数、电阻率同温度的关系。在77°K和300°K分别获得高达2370厘米~2/伏秒和189厘米~2/伏秒的霍尔迁移率。以Zn 扩散制成的二极管的场致发光表现为本征复合。在77°K时,除了由于在中性施主位置上的束缚激子复合而引起的狭的非声子谱线外,近边带场致发光还呈现出一组界线分明的谱峰,相应于自由激子的声子协助的复合(下文中简称为“声协”复合)。这些观察到的峰,既和 TA、LA、TO声子的吸收有关,也和它们的发射有关;它们的能量分别为12.5,31.0,44.0毫电子伏。和声子发射有关的谱峰强度对于TO、LA和TA声子来说,大概比率是1:3:1.5。这些能量和相对强度是和本征GaP的吸收及阴极射线发光数据一致。在氮和别的任意杂质浓度很低的器件中,场致发光和温度的关系表明:300°K的发射以本征复合占优势。     

ZnSe:Al发光光谱的研究

本文用热扩散的方法在Zn饱和蒸气压下,把Al掺杂到高纯ZnSe单晶中,通过77K下的光致发光光谱研究了Al杂质的发光行为,讨论了施主一受主对发射强度、自激活中心发射强度随掺杂温度的变化规律以及与Zn饱和蒸气压的关系.本文首次报道了在300℃～900℃温度范围内进行Al掺杂的ZnSe的发光规律.     

彩色电视用的含镁绿粉

Zn_(1-X)Mg_XS∶Cu,Al或(Zn,Cd)_(1-X)Mg_XS∶Cu,Al,其中4×10~(-5)≤X≤0.2,可以增加相对亮度至104％。 例如在(Zn,Cd)S中加少量Mg(NO_3)_2和Al、Cu,在还原气氛中以1000～1150℃灼烧,可得(Zn,Cd)_(0.98)Mg_(0.02)S∶Cu,Al。     

发蓝绿光的低阻硫化锌注入式发光二极管

室温下在低阻单晶ZnS作的金属一半导体二极管上发现有足够强而又很稳定的蓝、绿色场致发光,它是加正向偏压U≥2伏时记录下来的,又由金属接触向ZnS注入空穴所决定。在直流电流10~(-5)～10~(-1)安下用Au作注入接触时,其发光的外量子效率为10~(-4)光量子/电子。     

ZnSe黄色发光二极管

从掺Al的ZnSe二极管中获得了黄—橙色发光,峰值为5900A。在300°K下,外部量子效率为0.1％。当输入功率为100毫瓦时,测得亮度为200呎——朗伯。     

交流粉末场致发光材料

本文描述了粉末场致发光材料的制备工艺方法和发光性能的测试结果.在交流电场激发下。比较了绿色材料ZnS:Cu,Eu(以铜铕激活的硫化锌)、红色材料(Zn,Cd)(S,Se):Cu,Gd(以铜钆激活的硫硒化锌镉)和蓝色材料ZnS:Cu,Cl(以铜氯激活的硫化锌)的发光性能.在300V,600Hz电场激发下,它们的发光亮度依次在～120尼特、～10尼特和～80尼特以上.实践表明,这些材料正日益广泛地用于工业、农业和国防上,有广阔的应用前景. 一、引 言 交流粉末场致发光材料,是主要以硫化锌等II-VI族化合物为基质,经掺杂、加热处理之后,在交流(或脉冲)电场作用下,发出可…     

砷化镓铝间接带的发光

研究了掺Sn,Te或Zn杂质的Al_xGa_(1-x)As发光,其中Al组份多,因此谱带跃迁是间接的。观察到属于激子、自由束缚载流子和施主—受主复合的几个发光带。实验数据得出Sn和Te施主“光学”离化能的范围在59±7meV;而对Zn受主则为56±5meV。得到的这些数值是和 AlAs中的类似。     

硫化铜铟中的结型场致发光

美国贝尔实验室有人发表一篇研究报告,讲CuInS_2中的同质结场致发光。同质结的形成是利用了两种不同的退火工艺,一种是低温的In—Ga扩散,一种是在有InCl_3的条件下高温退火,使P型晶体表面发生转变。报告中给出了在300°K和77°K     

近期外文资料索引

一、场致发光:薄膜显示开关(a cEL屏用)AD一772544 场致发光屏(用电介质材料) OTKP址THa,H3o6.nPoM曰坦几eHnHeo6Pa3双H,?oBaPHHe 3HaKH 1973,50 (25)198.(Zn,Cd)S磷光体的结构和光学特性IndianJ。Chem。,1973,11(8)场致发光屏亮度和稳定性的提高C刀eToTexaHKa 1974(6)11792重掺杂半导体场致发光理论中T n 1973,7(11)2103 稀土掺杂的ZnS场致发光薄膜器件中亮度对电压的依赖性 Jap.J.Appl.Phys.1974,13(2)性264低温下重掺杂半导体场致发光结构的特中T n 1973,7(12)2269 通过EL对Znse边缘发射中施主一受主对复合的观察 J。…     

Znse:Al电学性能的研究

本文研究了77～300K温度区间内ZnSe:Al的电学性能,讨论了ZnSe:Al中的缺陷及其补偿比,得出了随掺杂温度的升高,极化光学声子对载流子的散射作用变弱,电离杂质对载流子的散射作用变强的结论。同时,本文也给出了霍尔系数、载流子浓度与掺杂温度及测量温度的关系,计算了Al施主能级的电离能。     

磁控溅镀法制备Al掺杂ZnO薄膜的特性分析

以射频磁控溅镀法在柔性聚碳酸酯基板上成长Al掺杂ZnO薄膜,利用XRD、AES、霍尔效应测试仪及单色分光计测量分析Al靶功率对薄膜光电特性的影响. XRD分析表明所有薄膜的衍射峰皆以(002)面为主,Al靶功率为25 W时(002)面衍射峰强度最大,此时薄膜结晶性最佳; AES分析表明随着Al靶功率的增大,Al含量由0 at.%增至18.01 at.%,Zn含量则由72.51 at.%降至38.39 at.%,而O含量没有太大变化,这说明Al可以取代ZnO中Zn的位置;霍尔效应测量表明Al靶功率为25 W时电阻率最小,约为7.75×10~(-4)Ω·cm,而载子浓度及其迁移率则达到最大,分别约为9.35×10~(20) cm~(-3)与8.64 cm~2/(V·s);分光计测量表明薄膜在可见光区的平均透射率可约达90%以上,说明本研究制备的Al掺杂ZnO薄膜是具有高透射率的透明导电薄膜.     

稀土激活的ZnS粉末的直流场致发光

从ZnS:Mn:Cu粉末获得直流场致发光(DCE)现在是完全肯定了,但至少还存在两个问题。其一是能量传给Mn~(++)中心的机构问题,另一个问题是从ZnS系统获得其他颜色还有困难。关于后一个问题,我们曾报导过铒激活的硫化锌的绿色直流发光,亮度达到2呎—朗伯,能量效率为10~(-3)％(2)原文为10~3％——译注)。虽然稀土掺杂的ZnS磷光体在广阔范围的光致发光光谱已有过报导(如Larach(3),(4)所综述),但至今还没有发表过有关粉末     

AlN微晶棒的的制备及光致发光性能研究

采用直流电弧放电方法,在无催化剂的条件下直接氮化Al合成纤锌矿结构的AlN微晶棒。分别利用拉曼光谱仪(Raman)、扫描电子显微镜(SEM)和光致发光(PL)谱等测试手段对所制备样品进行表征和发光性能的研究。结果表明:所制备的Al N微晶棒长度约为30μm,直径约为10μm。在AlN微晶棒的PL谱中,有两个主要发光峰,中心在430 nm的发射源于VN和(V_(Al)-O_N)~(2-)构成的深施主-深受主对缺陷发光,中心在650 nm的发射源于VAl形成的深受主能级到价带的缺陷发光。在激发波长由270 nm逐渐增大到300 nm的过程中发现,Al N微晶棒波长在430 nm处的发光峰先增强后减弱,在激发波长为285 nm时强度最大;650 nm处的发光峰随激发波长增大而逐渐增强。     

强磁场下Pt电阻温度传感器的磁致电阻效应研究

以Pt电阻温度传感器(Pt-111)为研究对象,研究了其在0～16T磁场下、4.2～300K温区内的磁致电阻效应.结果表明:Pt-111在0～16T场强、4.2～77K温区内,磁效应随场强的增加和温度的降低而明显升高,77～300K温区内温度计受磁场的影响较小,其中在16T下,4.2K和300K处的磁效应分别为48.2%和1.07%;在4.2-77K温区,Pt-111由磁阻引起的测量误差场强的升高和温度的降低而明显升高,在16T、4.2K处和16T、77K处的温度测量误差分别为18.3K和1.69K.Pt-111不推荐应用在77K以下的磁场环境.     

ZnTe(ZnTe∶Cu)多晶薄膜的XPS研究

用共蒸发法在室温下制备了ZnTe及ZnTe∶Cu多晶薄膜,测量了电导率温度曲线,发现不掺杂的ZnTe薄膜的暗电导随温度的增加而线形增加,呈常规的半导体材料特征;掺Cu的ZnTe薄膜在温度较低时,lnσ随温度升高而缓慢增加,随后缓慢降低,达到一极小值,当温度继续升高时又陡然增加,呈现异常现象。用XPS研究了N₂气氛下退火前后表面状态,发现不掺Cu的ZnTe薄膜呈现富Te现象。掺Cu后Te氧化明显,以ZnTe形式存在的Te明显减少;ZnTe∶Cu薄膜中Zn的含量在退火前后变化明显,退火前,Zn主要以ZnTe形式存在,退火后Zn原子向表面扩散,使表面成分更加均匀,谱峰变宽;退火时,部分Cu原子进入晶格形成Cu_xTe相,引起载流子浓度变化,导致ZnTe∶Cu多晶薄膜的电导温度关系异常。     

非晶态Y_5Ni_(95)合金膜的霍尔效应

在1.5～300K温度范围内,研究了非品态Y_5Ni_(95),溅射合金膜的霍尔效应。观察到该材料的正常霍尔系数R_o不随温度改变,R_o=—1.46×10~(-12)Ω·cm/G;反常霍尔系数R_s值随温度增高而增大,其值从1.5K的—2.2×10~(-10)变化至300K的—3.3×10~(-10)Ω·cm/G。利用斜散射和边跳跃机制对此进行了讨论。     

Temperature dependence on the electrical and physical performance of InAs/AlSb heterojunction and high electron mobility transistors

In this report, the effect of temperature on the In As/Al Sb heterojunction and high-electron-mobility transistors(HEMTs) with a gate length of 2 μm are discussed comprehensively. The results indicate that device performance is greatly improved at cryogenic temperatures. It is also observed that the device performance at 90 K is significantly improved with 27% lower gate leakage current, 12% higher maximum drain current, and 22.5% higher peak transconductance compared to 300 K. The temperature dependence of mobility and the two-dimensional electron gas concentration in the In As/Al Sb heterojunction for the temperature range 90 K-300 K is also investigated. The electron mobility at 90 K(42560 cm2/V·s)is 2.5 times higher than its value at 300 K(16911 cm~2/V·s) because of the weaker lattice vibration and the impurity ionization at cryogenic temperatures, which corresponds to a reduced scattering rate and higher mobility. We also noted that the two-dimensional electron gas concentration decreases slightly from 1.99 × 10~(12) cm~(-2) at 300 K to 1.7 × 10~(12) cm~(-2) at 90 K with a decrease in temperature due to the lower ionization at cryogenic temperature and the nearly constant ?Ec.     

红外成象应用的8～12μm高性能结型(HgCd)Te光电二极管

用掺硼方洼制得了8～12微米n~+-p结型p-Hg_(0.8)Cd_(0.2)Te光电二极管。这些光电二极管的量子效率和Dλ(1KHz,180°视场,300K)分别超过了0.6和2.0×10~(10)cm Hz~(1/2)/W。在77～200K之间,测量了温度的函数——电阻面积乘积(R_oA_j),结果表明,光电二极管的电流直至77K时都受着扩散限制。