共轭型聚合物三阶非线性光学材料的研究进展

综述了近１０年共轭型聚合物三阶非线性光学材料取得的新进展。主要包括聚二乙炔及其衍生物、聚乙炔及其衍生物、聚噻吩及其衍生物、聚苯乙炔及其衍生物、聚苯腈及其衍生物以及聚苯胺类等。     

193 nm深紫外光刻胶用成膜树脂的研究进展

本文综述了用于193 nm深紫外光刻胶的主体成膜树脂的种类及常用合成单体的研究进展,包括聚(甲基)丙烯酸酯体系、环烯烃-马来酸酐共聚物(COMA)体系、乙烯醚-马来酸酐共聚物(VEMA)体系、降冰片烯加成聚合物体系、环化聚合物体系、有机-无机杂化树脂体系以及光致产酸剂(PAG)接枝聚合物主链型等,并分析了目前关于曝光、分辨率和抗蚀刻性能方面存在的问题及未来的发展方向。     

化学增幅型光刻胶材料研究进展

芯片集成度的提高促使光刻胶向高分辨率方向发展,光刻技术由紫外全谱曝光发展到单一短波长曝光,为满足光刻胶高感度、高分辨率的要求,化学增幅型光刻胶应运而生。"化学增幅"可以提高光刻胶的量子产率,增强光刻胶感度,在深紫外、极紫外光刻中得到广泛应用。而高性能树脂作为光刻胶的成膜剂,对光刻胶的性能有重要影响,不同的树脂结构对应不同的反应机理。本文重点对化学增幅型光刻胶中的脱保护、重排、分子内脱水、酯化缩聚、交联、解聚等反应进行了总结,并介绍了对应的树脂结构。     

几种电致发光聚合物材料的研究进展

介绍了几种典型的电致发光聚合物材料,包括聚(对苯乙烯撑)及其衍生物、聚噻吩及其衍生物、聚芴及其衍生物,对它们的结构、制备方法、特点进行了归纳和讨论。其中最重要的是聚(对苯乙烯撑)(PPV)及其衍生物,目前采用较多的制备方法是前聚物法和强碱诱导的去卤缩合法以及电化学聚合法。在苯环上引入长链烷烃、烷氧基或芳基后的取代PPV,即PPV的衍生物,可溶于很多有机溶剂。可溶性PPV衍生物为制备多层电致发光聚合物器件提供了有效途径。文章还对电致发光聚合物材料存在的问题和发展前景进行了探讨和展望。     

聚羟基苯乙烯在光致抗蚀剂中的应用及其合成

主要综述了聚羟基苯乙烯用作深紫外光致抗蚀剂主体成膜树脂的发展历程、应用现状以及一些最新的研究进展,并简要介绍了聚羟基苯乙烯的单体衍生物及其聚合物的制备方法.     

导电聚合物LB膜

本文回顾了ＬＢ膜技术在导电聚合物体系中的利用，内容涉及共轭型导电聚合物（包括聚吡咯、聚噻吩、聚对亚苯基亚乙烯基、聚苯胺及其衍生物）ＬＢ膜的制备、结构表征、电导率与分子结构和分子堆砌之间的关系以及其他导电聚合物ＬＢ膜的研究现状。     

光刻胶中金属离子的去除和定量分析

采用巯基树脂为金属离子吸附剂,分析了巯基树脂对光刻胶主体材料中残留的金属催化剂Pd的吸附热力学和动力学行为。在不同温度下,将巯基树脂对Pd的吸附实验数据进行动力学模型拟合,结果表明,巯基树脂对光刻胶中Pd的吸附过程符合拟二级动力学模型,说明此吸附过程受化学吸附控制,光刻胶中的Pd和巯基基团化学螯合作用对吸附起重要作用。等温吸附结果符合Langmuir等温吸附方程,表明光刻胶中Pd在巯基树脂表面倾向于单分子层吸附。在实验温度范围内,随着吸附温度升高,巯基树脂对Pd的最大吸附量由12.68 mg/g提高到17.49 mg/g,表明适当提高吸附温度有助于提高巯基树脂的吸附效率。对光刻胶中的金属离子的综合去除实验结果表明,巯基树脂对光刻胶中Li、 Na、 Mg、 Al、 K、 Ca、 Cr、 Mn、 Fe、 Ni、 Cu、 Zn、 Pd和Sn等金属均有良好的吸附效果,可以使纯化后光刻胶中大部分金属离子达到μg/L量级,与进口金属离子去除系统相比,巯基树脂对光刻胶中Pd的纯化效果更显著,含量从5.9 mg/L降低到0.4μg/L,对于Na和Ca等高丰度金属离子,可分别降低到11.8和13.0μg...     

基板界面对PS/PMMA溶液共混物溶剂挥发成膜相结构的影响

研究了PS PMMA的共混物溶液溶剂蒸发成膜时的基板界面效应 .利用扫描电子显微镜 (SEM)研究了PS PMMA(5 5 ) (W W) THF高分子共混物溶液在不同基板上通过溶剂挥发成膜的相形态结构 .通过FTIR及ATR FTIR检测了共混物薄膜及其表面的共混组成 .研究结果表明 ,成膜基板对高分子共混物溶液成膜后的相形态有很重要的影响 .控制共混物溶液体系成膜过程中的动力学因素 ,可以调控出所设想的各种复杂的相结构形态     

光刻胶成膜剂：发展与未来

随着集成电路制程向着3 nm乃至1 nm推进,光刻胶作为集成电路制造中最为繁杂的光刻工艺所需的重要耗材,愈发显示其重要性及挑战性。光刻胶随曝光光源的进步经历了从紫外到深紫外再到极紫外的发展,本文从成膜剂角度首先综述了紫外光刻胶及深紫外光刻胶的发展应用情况,接着对极紫外光刻胶的性能需求作了简述,最后重点针对极紫外光刻胶中的分子玻璃体系作了介绍及展望。     

金属酞菁类LB膜的研究进展

本文综述了金属酞菁类化合物的基本性质及其衍生物LB膜的成膜性、取向性、导电性、气敏性和在分子电子器件方面的应用。     

New Positive‐Type Photoresists Based on Enzymatically Synthesized Polyphenols

Summary: New positive‐type photoresist systems based on enzymatically synthesized polyphenols have been developed. The photoresist thin film consisting of the polyphenol and a diazonaphthoquinone derivative was prepared on copperfoil‐coated epoxy resins and exposed to UV light with different doses. The polyphenols from the bisphenol monomers exhibited high photosensitivity, comparable with a conventional cresol novolac. The sensitivity could be controlled by changing the structure of the polyphenols. Furthermore, the present photoresist showed excellent etching resistance.

Characteristic exposure curves of poly( 1 )/DNQ and poly( 5 )/DNQ (both 70:30 wt.‐%) with different phenylene unit contents.     

水溶性丙烯酸酯类感光干膜的制备及其性能研究

用溶液聚合法合成了水溶性丙烯酸树脂,并以该树脂为成膜物质制备了水溶性感光干膜。傅立叶-红外光谱和¹HNMR分析表明,丙烯酸树脂中不含CC不饱和双键,基本不参与紫外光固化反应。感光干膜性能测试表明,干膜中丙烯酸树脂的酸值及重均分子量会影响干膜的解析度和附着力等性能。进一步的研究表明,曝光能量、感光级数和显影时间也会直接影响干膜的性能。以30 μm厚度干膜Ⅱ为例,为获得较好的性能,丙烯酸树脂中甲基丙烯酸含量范围为21.5%~23.8%,重均分子量范围为6.00×10⁴~7.54×10⁴,曝光能量设定40~60 mJ/cm²,感光级数为18~23/41^ST,显影时间40~50 s,在此条件下,干膜的解析度可以达到30 μm,附着力为20 μm,干膜线路的侧边形貌和尺寸稳定性良好。此外,感光干膜中丙烯酸酯的比例和种类也会影响干膜的各方面性能,通过调节干膜中各组分含量的比例可以优化干膜性能。     

两种耐高温紫外正型光刻胶成膜树脂的制备及性能

分别通过N-(p-羟基苯基)甲基丙烯酰胺与N-苯基马来酰亚胺、N-苯基甲基丙烯酰胺与N-(p-羟基苯基)马来酰亚胺的共聚合,制备了两种聚合物树脂聚N-(p-羟基苯基)甲基丙烯酰胺共N-苯基马来酰亚胺(poly(HPMA-co-PMI))和聚N-苯基甲基丙烯酰胺共N-(p-羟基苯基)马来酰亚胺(poly(MPA-co-HPMI)).结果表明,这两种聚合物都是按1∶1的摩尔比交替共聚的,它们都具有良好的溶解性、成膜性和亲水性,并且它们的玻璃化温度Tg都在280℃以上.将它们分别与感光剂2,1,5-磺酰氯的衍生物、助剂二苯甲酮等复配成两种紫外正型光刻胶,初步光刻实验表明,其最大分辨率都可以达到1μm,并且都可以耐270℃的高温.     

杯[6]冠醚接枝纤维素螯合树脂的合成及其吸附性能

四环氧丙基杯[6]-1,4-冠-4与纤维素多乙烯多胺衍生物反应,合成了一系列新型杯[6]冠醚纤维素螯合树脂。研究了其对阳离子吸附性能后发现该螯合树脂结合了纤维素和杯芳烃聚合物的各自优势,不仅具有较大的吸附容量,而且对Na^ 和Ag^ 有很好的吸附选择性。     

Thermal and acid-catalyzed reaction of bifunctional vinyl ether urethane in nonionic and ionic polymer matrices

A bifunctional vinyl ether urethane derivative (BVU) was synthesized and characterzed. Photoresist systems consisting of BVU and a photoacid generator (PAG) along with various matrix polymers were prepared and the photoresist characteristics were evaluated. In the presence of BVU and a PAG, poly(methylmethacrylate-co-acrylic acid) and poly(methylmethacrylate) exhibited positive and negative tone behavior, respectively, where as poly(p-hydroxystyrene) showed both positive and negative working properties depending on the prebake temperature of the system. The depandence of the photoresist behaviors on these matrix polymers was studied. The mechanism of the thermal and photochemical reactions was revealed.     

超分子螯合树脂--杯[4]芳烃接枝纤维素的设计、合成与吸附性能

通过纤维素多乙烯多胺衍生物2a~2c与1,3-二环氧丙基杯[4]芳烃3反应,合成了螯合树脂杯芳烃接枝纤维素4a~4c,用红外、元素分析和SEM等对其结构和形貌进行了表征.通过含氮量推算出新螯合树脂4a~4c中每个纤维素单元的杯芳烃接枝取代度分别为0.75、0.82和0.87.金属阳离子吸附性能实验表明,杯芳烃单元的引入在吸附过程中有重要作用,该螯合树脂结合了杯芳烃和纤维素的各自吸附性能优势,不仅吸附容量较高,而且表现出高的选择性吸附能力.树脂4b和4c对Ni2+离子表现出很高的吸附选择性,4a~4c的Ni2+饱和吸附容量分别达到2.96 mmol/g、2.93 mmol/g和2.66 mmol/g.在pH<4的强酸性条件下树脂的吸附能力迅速下降.该树脂用10%的氨水解吸附后有较好的重复使用性.     

Development of a multideveloping photoresist and its application to make liquid crystal display color filter

This paper reports the fabrication of a single expose multideveloping positive Diazonaphthoquinone (DNQ) /Novolak photoresist capable of simplifying the fabrication process of color filter plates composed of red, green, blue pixels and black matrix. Film thickness retention was measured on multideveloping photoresist(MDPR) containing novolak resins made from various phenolic compounds including cresols, xylenols, trimethylphenol, resorcinol and their copolymers. It was found that there were suitable combinations of phenolic compounds to exhibit appropriate thermal stability, wide process window as well as compatibility to electrodeposition of color films.     

一种新型紫外正型光刻胶成膜树脂的制备及光刻性能研究

本文合成了N-(p-羧基苯基)甲基丙烯酰胺单体,并将其与N-苯基马来酰亚胺共聚得到共聚物聚N-(p-羧基苯基)甲基丙烯酰胺共N-苯基马来酰亚胺(poly(NCMA-co-NPMI)).将此共聚物作为成膜树脂,与感光剂、溶剂等复配得到一种新型耐高温紫外正型光刻胶.本文探讨了该光刻胶的最佳配方组成和最佳光刻工艺.最佳配方组成为:15%—20%成膜树脂,4.5%—6%感光剂和70%—80%溶剂;最佳光刻工艺为:匀胶30 s(4000 rpm),前烘4 min(90℃),感度为30—35mJ/cm²,在0.2%TMAH溶液显影10 s和后烘2 min(90℃).     

1,3-butadiene telomerization with methanol catalyzed by heterogenized palladium complexes

The heterogenization of palladium complexes on silica as well as on functionalized styrene/divinylbenzene crosslinked resins and linear poly(styrene) is described. In particular, palladium (0) and palladium (II) derivatives were anchored to the above polymeric systems through their functionalization with bidentate ligands such as acetylacetonate and 1,3-bis(diphenylphosphino)propane moieties. The resulting heterogenized complexes were checked in the catalytic telomerization of 1,3-butadiene with methanol. Their performances were studied in terms of activity and selectivity to telomers. Whereas the heterogenization of palladium complexes either on silica or on polymer resins via the acetylacetonate ligand resulted labile during the catalytic cycle, the polymer-bound palladium complexes via the diphosphine ligand, when activated by an alkoxide, displayed activity and selectivity comparable with those of the corresponding homogeneous counterparts, without appreciable metal leaching in solution.