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采用传统Bridgman方法和加入accelerated crucible rotation technique的Bridgman(缩写为ACRT-B)方法生长的Cd1-xZnxTe(x=0.04)晶体中存在有点缺陷、位错、杂质和Te沉淀等缺陷.为了减少甚至消除这些缺陷,必须将生长后的CdZnTe晶片在Cd气氛下退火.从Cd-Te和Cd0.96Zn0.04Te的PT相图出发,详细讨论了CdZnTe晶体的气固平衡条件,并
关键词:
1-xZnxTe')" href="#">Cd1-xZnxTe
退火
气-固平衡 相似文献
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将生长得到的Cd0.9Zn0.1Te晶体在Cd气氛下及不同的温度条件下进行了退火处理. 借助已建立的退火处理过程中Cd1-xZnxTe晶体材料电阻率及导电类型变化和扩散杂质的扩散系数之间关系的模型,结合实验数据,获得了1073 K,973 K和873 K下Cd在Cd0.9Zn0.1Te晶体中的扩散系数,并估算了其激活能. 通过使用获得的扩散系数,研究了在不同温度及饱和Cd气氛下,退火时间对Cd0.9Zn0.1Te晶体电阻率分布及导电类型等的变化的影响. 相似文献
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将生长得到的Cd0.9Zn0.1Te晶体在Cd气氛下及不同的温度条件下进行了退火处理. 借助已建立的退火处理过程中Cd1-xZnxTe晶体材料电阻率及导电类型变化和扩散杂质的扩散系数之间关系的模型,结合实验数据,获得了1073K,973K和873K下Cd在Cd0.9Zn0.1Te晶体中的扩散系数,并估算了其激活能. 通过使用获得的扩散系数,研究了在不同温度及饱和Cd气氛下,退火时间对Cd0.9Zn0.1Te晶体电阻率分布及导电类型等的变化的影响. 相似文献
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为了满足辐射探测器件的需要,将生长得到的Cd1-xZnxTe晶体在In 气氛下进行退火处理能有效提高晶体的电阻率等性能. 退火处理过程的实质是一个扩散过程 ,因此研究扩散系数与Cd1-xZnxTe晶体的性能特别是电阻率变化之 间的关系具有重要的意义. 建立了退火处理过程中Cd1-xZnxTe晶体 材料电阻率及导电类型变化与杂质的扩散系数之间关系的模型.结合实验数据,获得了10
关键词:
CdZnTe
热处理
In气氛
扩散系数 相似文献
5.
用X射线三轴晶散射和晶体截断杆扫描研究了不同工艺条件下分子束外延生长的ZnTe/GaSb结构.X射线晶体截断扫描显示,从衬底表面清洁温度到生长温度退火过程中采用Zn气氛的样品具有清晰的干涉条纹,而在Te气氛下退火则晶体截断扫描没有干涉条纹.在倒易点004,115附近X射线散射的二维强度分布图显示,两种条件下生长样品的晶格失配应力都没有弛豫.二维等强度分布图和沿[110]方向的扫描,都显示在Te气氛下生长的膜具有较强的漫散射,并且分布较宽.这种漫散射来源于界面相Ga2Te3<
关键词: 相似文献
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借助于Tersoff势函数和分子动力学模拟技术研究了室温下500eV的能量粒子硼(4个)和氮(8个)共掺入金刚石晶体中所引起的损伤区域内晶体微细观结构的变化特征以及后续加热退火晶体结构的演变特征.结果表明:随着掺入原子数目的增加,受影响的区域范围渐渐增大,12个粒子全部注入金刚石晶体后局部影响区域的半径达0.68nm,损伤区域中心的三配位原子数增加而四配位数原子数量减少.加热退火过程中损伤中心区域的原子发生扩散,部分原子的扩散距离达到4个晶格间距.加热退火使损伤区域中心原子间的平均键长趋于金刚石结构的键长.退火后薄膜中注入的杂质原子向表面扩散引起应力分布产生变化,杂质原子经过一系列的扩散过程能够到达空位的位置,减少薄膜中空位数量,减小晶格畸变程度,原子向表面扩散引起应力产生重新分布,薄膜中应力峰值的峰位向薄膜表面发生移动,局部应力集中程度降低.通过不同退火温度的比较发现低温下退火(800℃)更有利于空位的运动和晶格损伤的恢复从而提高晶格质量.
关键词:
金刚石共掺杂
分子动力学
退火 相似文献
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基于在任意坐标系内应力与应变的关系、晶体弹性理论和位错滑移理论,研究了生长方向分别为[111]和[211]晶向,HgCdTe外延薄膜临界厚度与CdZnTe衬底中Zn组分和HgCdTe外延层中Cd组分的关系. 结果表明,HgCdTe外延薄膜临界厚度依赖于CdZnTe衬底中Zn组分和HgCdTe外延层中Cd组分的变化. 对于厚度为10μm,生长方向为[111]晶向的液相外延HgCdTe薄膜,要确保HgCdTe/CdZnTe无界面失配位错的前提条件,是CdZnTe衬底中Zn组分和HgCdTe外延层中Cd组分的波动必须分别在±0.225‰和±5‰范围内;而对于相同厚度,生长方向为[211]晶向的分子束外延HgCdTe薄膜,CdZnTe衬底中Zn组分和HgCdTe外延层中Cd组分的波动范围分别为±0.2‰和±4‰.
关键词:
HgCdTe/CdZnTe
临界厚度
位错滑移理论
失配位错 相似文献
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不同退火气氛下γ-LiAlO2形貌和结构研究 总被引:4,自引:1,他引:3
研究了温度梯度法生长的γ-LiAlO2晶体在1100℃下富Li气氛和空气中退火处理后的表面形貌、表面结构以及吸收光谱。发现γ-LiAlO2晶体的抛光面在1100℃空气中退火后变为粗糙面,X射线衍射(XRD)分析表明此粗糙面为单相的LiAl5O8。而γ-LiAlO2晶体的抛光面在1100℃富Li气氛中处理后几乎没有变化。同时对不同气氛下热处理的γ-LiAlO2晶体进行了光谱分析,确认了晶片中196nm的吸收峰是由Li空位引起的。 相似文献
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用共蒸发法在室温下制备了ZnTe及ZnTe:Cu多晶薄膜,测量了电导率温度曲线,发现不掺杂的ZnTe薄膜的暗电导随温度的增加而线形增加,呈常规的半导体材料特征;掺Cu的ZnTe薄膜在温度较低时,lnσ随温度升高而缓慢增加,随后缓慢降低,达到一极小值,当温度继续升高时又陡然增加,呈现异常现象。用XPS研究了N2气氛下退火前后表面状态,发现不掺Cu的ZnTe薄膜呈现富Te现象。掺Cu后Te氧化明显,以ZnTe形式存在的Te明显减少;ZnTe:Cu薄膜中Zn的含量在退火前后变化明显,退火前,Zn主要以ZnTe形式存在,退火后Zn原子向表面扩散,使表面成分更加均匀,谱峰变宽;退火时,部分Cu原子进入晶格形成CuxTe相,引起载流子浓度变化,导致ZnTe:Cu多晶薄膜的电导温度关系异常。 相似文献
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用射频/直流磁控溅射法制备了CeO2/Nb2O5双层氧敏薄膜,利用X射线光电子能谱(XPS),描述并解释了单层CeO2薄膜中氧随温度变化的动力学行为,以及CeO2/Nb2O5薄膜界面对氧敏特性的影响.通过对Ce3d XPS谱的高斯拟合,计算了Ce3+浓度并给出了判定Ce4+还原的标志.结果表明,界面效应可以提高CeO2/Nb2O5薄膜中Ce4+的还原能力,使之远远高于单层CeO2薄膜,这对薄膜的氧敏特性是极为有利的.
关键词: 相似文献
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Amorphous TiO2 thin films and ZnFe2O4 doped TiO2 composite films were deposited by radio frequency magnetron sputtering. The effect of ZnFe2O4 doping on the optical properties of TiO2 thin films was reported. Our results show that the absorption edge of TiO2 thin films and composite films exhibits a blue shift with decreasing annealing temperature. The absorption edge of composite films has moved to visible spectrum range, and a very large red shift occurs in comparison with TiO2 thin film. An enhanced photoluminescence in ZnFe2O4 doped anatase TiO2 thin film at room temperature. 相似文献
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研究了(Fe1-xWx)84.5B15.5(x=0—0.1)非晶态合金的电阻率ρ与温度T(4.2—300K)的关系。实验结果表明,在所研究浓度区域内均出现电阻率与温度关系的极小值,电阻率极小值的温度Tmin在x=0.06时出现峰值。用x=0.02—0.1浓度区域内,当Tmin时,又出现了电阻率与温度关系的极大值,电阻率极大值的温度Tmax在26—35K之间。低温电阻率反常现象与类Kondo效应及局域磁矩之间RKKY相互作用有关。
关键词: 相似文献