一种检测超光滑表面粗糙度方法的初步研究

本文依据软Ｘ射线标量散射理论，给出了一种用软Ｘ射线全积分散射检测超光滑表面粗糙度ＲＭＳ值的方法，并设计和建立了测试装置，得到了新的测量结果     

光针扫描法检测光滑表面粗糙度

提出了一种用于光滑表面粗糙度测量的方法，利用两个标准参考面和两个偏振片实现对表面粗糙度的测量，通过两1／4波片克服光路可逆性的缺陷，给出了测量系统光路图，导出了该方法工作原理的数学表达式，并对该方法产生的测量不确定度进行了理论计算与计算机仿真，最后通过对一标准粗糙度样块进行测量，证明了该方案的可行性。结果表明实测值与样块厂家提供的标称值相符，并可实现0．2nm的测量精度。     

光学元件表面粗糙度对第三代同步辐射光源空间相干性的影响

以单丝的同轴全息干涉花样为判别标准,通过计算机数值模拟,研究了Ｂｅ窗的表面粗糙度对硬Ｘ射线相干特性的影响。提出了Ｘ射线在粗糙表面反射的一个简单模型,以此为基础模拟研究了反射镜表面粗糙度的对硬Ｘ射线及软Ｘ射线空间相干特性的影响,模拟结果与实验结果相符。     

Extraction of Surface Roughness from the Central δ-peak of Light Scattering Using a Multi-wavelength Ar+ Laser

In this paper, a new light scattering method for measuring the roughness of random surfaces is proposed. The method is based on the relation between the specularly reflected intensity Is, i.e., the central δ-peak intensity and wave vector component kz. The linear fit of the logarithm graph of the normalized central δ-peak intensity Isr versus k2z, whose variation is induced by changing illuminating wavelength, gives the square of the surface roughness w. The roughnesses of 6 silicon backside samples were measured.