苯的同步辐射光电离效率谱的研究

用合肥国家同步辐射实验室光化学站的实验装置研究了苯分子的光电离质谱，从所得光电离效率谱精确地定出了苯分子的电离势及苯离子的出现热，并首次报道了三个苯离子的离解能。     

B（OH）3分子的同步辐射光电离研究

报道了利用真空紫外同步辐射光电离法研究Ｂ（ＯＨ）３分子的结果，从所测得的光电离质谱和各种光电离效率曲线，获得了Ｂ（ＯＨ）３的电离势及其碎片离子的出现势，由此导出了分子及其离子中的键离解能。此外，对Ｂ（ＯＨ）３分子在同步辐射作用下的离解电离通道也做了初步的分析。     

三氯乙烯的真空紫外同步辐射光电离和光解离

利用真空紫外(VUV)同步辐射光源和反射式飞行时间质谱仪，在超声冷却条件下对三氯乙烯(C₂HCl₃)进行了光电离研究，通过测量各离子的光电离效率(PIE)曲线，得到了C₂HCl₃的电离势P_I(C₂HCl₃)=9.51±0.05eV，以及C₂HCl₃光解离碎片离子的出现势(P_A)：P_{关键词： 同步辐射光电离 电离势 出现势 三氯乙烯}     

甲胺分子的同步辐射光电离解离质谱

在超声射流冷却条件下,利用同步辐射光源,结合飞行时间质谱对CH3NH2分子在60—140nm波长范围内的光电离解离进行了研究.主要动力学过程为母体离子的解离过程.CH2NH2+和CH3+由CH3NH2+在高能量时解离生成,而CH2NH2+的1,1脱H2过程则产生其他离子.CH3NH2分子的电离势(IP)为916±001eV,和分子轨道能量计算的理论值符合得非常好,并获得CH3NH2+和CH2NH2+的生成热分别为860±05kJmol和7541kJmol. 关键词： 同步辐射光电离 飞行时间质谱 电离势 生成热     

NH3的同步辐射光电离

用同步辐射光在１０．０－１１．８ｅＶ能量范围内测量了ＮＨ３的光电离效率曲线，观察到在台阶状的离子振动谱上叠加了丰富的自电离结构。通过相应振动结构分析，得到ＮＨ３分子离子基电子态的振动波数ωｅ和非谐性常数（ωｅχｅ），对于出现的自电离结构可归类于ｎｓａ１（ｎ＝５，６），ｎｐａ１（ｎ＝５，６）和ｎｐｅ（ｎ＝６，７）Ｒｙｄｂｅｒｇ系列。     

溴乙烷的同步辐射光电离解离

在超声射流条件下,利用真空紫外同步辐射光辐照和飞行时间质谱,研究溴乙烷光电离及解离电离的动力学。通过测量光电离及解离电离产生的碎片离子的光电离效率（ＰＩＥ）曲线型分布获得了溴乙烷的电离势和各碎片离子的出现势,并结合标准的已确认的热力学数据,计算了离子的标准生成焓,估算了有关分子的键能及母体离子的解离能,并对溴乙烷分子真空紫外光解离电离通道进行了分析。     

二茂铁的同步辐射光电离

利用同步辐射和飞行时间质谱 ,研究了二茂铁的真空紫外光电离 ,得到了该分子的电离势为 (6 .78± 0 .0 5 )eV ,碎片离子FeC5H5+ 的出现势为 (13.4 0± 0 .10 )eV .根据实验结果 ,分析了二茂铁的主要光电离解离通道 ,估算了分子及离子的键解离能 .用密度泛涵的方法对该分子离子及一些主要的碎片离子进行了初步的量化计算 ,得到了二茂铁的电离势和一些碎片的出现势 .利用量化计算的数据还估算了分子及离子的键解离能 ,并与文献值进行了比较     

氯苯的同步辐射光电离研究

利用真空紫外同步辐射和反射式飞行时间质谱仪对氯苯进行了光电离研究,通过测量各离子的光电离效率(PIE)曲线,得到了氯苯的电离势为(9.11±0.05)eV及两种主要碎片离子C6H+5和C4H+3的出现势分别为(12.96±0.05)和(16.27±0.05)eV.结合有关文献的热力学数据,推导出C6H5Cl+、C6H+5及C4H+3的离子生成焓及一些键的解离能.实验获得了118.0nm同步辐射光电离下氯苯的质谱图.     

BF3的同步辐射光电离研究

利用同步辐射光源在超声射流条件下对ＢＦ３进行了光电离研究。在５０～８０ｎｍ内，观测到ＢＦ２＾＋和ＢＦ３＾＋的光电离效率曲线（ＰＩＥ）呈现丰富的自电离结构，分析表明，它们对应于ＢＦ３分子的ｎｓ、ｎｐ和ｎｄ系列的高Ｒｙｄｂｅｒｇ结构，经光谱分析获得了相应的Ｒｙｄｂｅｒｇ态参数。     

四氯乙烯的同步辐射光电离研究

利用VUV同步辐射光源和反射式飞行时间质谱仪，在超声冷却条件下对四氯乙烯(C₂Cl₄)进行了光电离研究，通过测量各离子的光电离效率(PIE)曲线，得到了C₂Cl₄的电离势IP(C₂Cl₄) =(9.36±0.05)eV及C₂Cl₄光解离碎片离子C₂Cl₃⁺，C_{关键词： 真空紫外光电离 离子出现势 电离势 四氯乙烯}     

合肥同步辐射软X射线显微术研究

合肥国家同步辐射实验室首期建设的光束线之一用于软Ｘ射线显微成像研究。实验站现已装置初型的扫描透射Ｘ射线显微镜，并正在进行亲一代的扫描显微建设，同时还使同步辐射光进行接触软Ｘ射线呈微成像研究，并对选取的一些生物样品进行了成像试验。本文介绍了合肥同步辐射光源上软Ｘ射线显微术实验线站的建设及完成的一些实验结果。     

同步辐射软X射线接触显微成像

软Ｘ射线显微术适合于自然状态下生物样品的高分辨率显微成像。软Ｘ射线接触显微术是Ｘ射线显微成像方法中最简单也是迄今唯一到接近理论分辨的方法。本文阐述软Ｘ射线接触显微成像的原理和方法，并报告用合理肥步辐射光源进行软Ｘ射线接触显微成像的一些实验结果。     

同步辐射X射线干涉的实验研究

介绍在北京同步辐射装置上进行的国内首次LLL型X射线干涉实验研究,在X光底片上观察到了Moire干涉条纹,为进一步利用X射线干涉技术实现纳米测量打下了初步基础.     

同步辐射软X射线能区Ar原子光致电离截面的研究

利用北京同步辐射装置3W1B光束线产生的单色光作为光源,流气式无窗低压强双电离室作为气体容器,选择氩气作为实验气体,使用合适的公式和软件,实验测定了能量从180到2?70eV范围内若干压强点处光致电离截面与能量的关系曲线.发现在氩原子的L吸收边附近光致电离截面与压强有关:压强越低,截面越大.实验结果与理论结果进行了对比,结果表明,在15?0—2?0?5eV能量范围,理论与实验符合良好,但是在氩原子的L吸收边附近由于束线分辨率的原因,理论与实验有一定偏差.     

深度同步辐射光刻初探

ＬＩＧＡ技术被认为是制作微机械最有前途的方法，而ＬＩＧＡ技术较为关键的一步是深度同步辐射光刻。报道了深度同步辐射光刻的进展，刻蚀出了外圆直径为３８μｍ～３９μｍ，叶长约８μｍ，高约２５μｍ的扇叶状微结构元件。     

Throughput Measurement of a Multilayer-Coated Schwarzschild Objective Using Synchrotron Radiation

The throughput of a Schwarzschild objective using undulator synchrotron radiation was measured. Conventionally, the throughput was estimated from the squared reflectivity of one multilayer mirror and from the obstruction ratio. However, we evaluated the transmission ratio from the input and output photon flux using a precisely calibrated monochromatic beam from an undulator light source. It was found that the objective has a maximum throughput of 8.5% at a wavelength of 13.9 nm.     

合肥800MeV电子储存环同步辐射特性

以石英卤钨灯作为光谱辐照度标准光源，测量了在３００－８００ｎｍ波段的合肥ＭｅＶ电子储存环同步辐射的相对光谱分布；并在４０５ｎｍ波长处测量了辐射源的角分布和偏振特性，在实验误差范围内，测量结果与理论计算值相符，相对光谱分布偏差为１．５％，角分布和偏振特性偏差小于５％。     

上海光源同步辐射空间干涉仪研制

研制了上海光源同步辐射空间干涉仪,用于储存环束团横向截面尺寸及发射度的精确测量。对干涉仪工艺设计中的光路参数、关键设备选型、数据处理方法及数据采集处理软件结构进行了分析讨论。结合束流实验完成了系统调试及运行参数优化,结果表明,CCD增益系数与曝光时间设置对测量精度有显著影响,增益系数设为0 dB,曝光时间设为200 ms时,随机测量误差可控制在μm量级。对上海光源储存环横向束斑尺寸进行了精确测量,结果表明:空间相干度曲线近似为高斯分布,可以采用单一空间频率的相干度测量值进行快速束斑尺寸计算;水平束斑尺寸实测值为52.4 μm,与理论值预期值53.0 μm相比,差异小于2%;系统测量误差约为5.5%,主要误差来源为相干度随机测量误差。