化学镀非晶态镍磷和镍钨磷双层组合镀层工艺研究

本文着重研究非晶态Ｎｉ－Ｐ和Ｎｉ－Ｗ－Ｐ双层组合镀层的化学镀工艺条件：如镀液组分及ＰＨ值等对镀层在分，镀层沉积速率的影响。实验结果表明；在苹果酸体系中化学镀镍磷镀层比较合适的艺条件为；硫酸镍０．１ｍｏｌ／Ｌ，次磷酸钠０．２５ｍｏｌ／Ｌ、苹果酸０．２０ｍｏｌ／Ｌ，琥珀酸０．１５ｍｏｌ／ｌ，ｐＨ＝４．５－５．０温度为９０℃。     

化学镀镍磷合金镀层孔隙率的电化学评价

本文通过研究镍磷合金、镍磷合金镀层和碳钢在不同浓度硝酸溶液中的动电位极化曲线 ,选择了能够快速检测镍磷合金镀层孔隙率的硝酸浓度 ,并对不同厚度的镍磷合金镀层试样进行评价 .结果表明 :镍磷合金镀层在 1 0 %硝酸溶液中的动电位极化曲线能准确地反映镀层的孔隙率 ,该硝酸溶液最适合作为应用电化学方法检测镀层孔隙率的检测溶液 ,其变化规律是随着镀层孔隙率的减少 ,镀层的腐蚀电位逐渐正移 .应用常规的孔隙率检测方法只能检测较大的孔隙 .     

电刷镀镍—磷合金的研究

一、前言 1845年,A.Wurtz首先观察到用次亚磷酸盐从镍溶液中还原镍的作用,后来许多学者也研究过这种反应。1946年,A.Brenner和     

低磷化学镀镍层性能的研究

低磷镀层（ＬＰ）在碱性和中性盐水条件下的耐蚀性较高磷镀层好，当ＬＰ镀层在３５０℃下热处理１ｈ后，镀层在显微硬度从４５４Ｈｖ增加到８９０Ｈｖ。差热分析研究发现，在３４１．６℃和４０６．２℃有两个放热峰，分别对应于新相Ｎｉ５Ｐ２和Ｎｉ３Ｐ的形成，利用Ｘ射线衍射对镀层的结构进行分析，发现该镀层由非常细的微晶构成。     

NH4F对化学镀镍液的作用机理及镀层性能的影响

氟元素是周期表中最活泼的非金属元素,有着最强的电负性,氟化物有着特殊的化学性能。关于氟化物在化学镀镍磷工艺中的应用已有报道,在镁基体上化学镀的前处理过程中,常用氢氟酸或氟化氢铵来进行活化处理;硅片表面上的化学镀也通常用HF与HNO3或HCl的混酸来活化,使硅片表面产生Si-H键。另外,如果在化学镀液中添加少量的氟化钠,则起到加速的作用[1]。对于氟化物在化学镀镍磷工艺中的报道仅限于此,未见有关氟化物在化学镀中其它作用的研究。鉴于此,本工作以氟化铵为研究对象,对其在弱碱性的条件下对化学镀液的缓冲能力、沉积速度以及所得镀层性能的影响进行了研究。     

化学镀镍磷合金在浓NaOH溶液中的电化学腐蚀行为

微观结构;腐蚀电化学;化学镀镍磷合金在浓NaOH溶液中的电化学腐蚀行为     

低温低内应力化学镀镍工艺的研究

化学镀广泛应用于非金属的电镀、电铸前的施加导电层。化学镀沉积层质量与其在零件上的附着力有着密切的关系 ,重视对化学镀沉积层内应力的研究 ,开发一个低温、低内应力的化学镀镍工艺 ,对于化学镀沉积层的推广应用有着十分重要的意义。本文采用正交实验方法对低温、低内应力化学镀镍工艺进行了系统研究 ,开发出了一个低温、低内应力的化学镀镍工艺。在实验过程中发现沉积层内应力同其在零件上的结合力具有密切关系并对其进行了初步探讨。1　实验方法1 1　正交实验根据探索性实验结果分析 ,影响化学镀镍层内应力σ和沉积层速率ｒ的主要因…     

无电解镀镍磷非晶态合金的近边结构研究

用ＤＴＡ，ＸＲＤ和ＥＸＡＦＳ方法研究无电解镀镍磷合金层结构，其中含Ｐ１０％（重量百分比）左右的Ｎｉ－Ｐ合金层是非晶态合金固溶体，Ｎｉ，Ｐ之间存在共价键作用，Ｎｉ－Ｎｉ键长０．２５ｎｍ，Ｎｉ－Ｐ键长０．２８ｎｍ经４００℃热处理１后的含Ｐ１０％的Ｎｉ－Ｐ镀层是Ｎｉ３Ｐ晶态与Ｎｉ－Ｐ非晶态的混合物，ＥＸＡＦＳ方法给出了镍磷合金层的结构，键长和配位原子情况，体现出ＥＸＡＦＳ方法在研究金属结构尤其是非晶态金     

化学镀非晶态Ni—P层的初期沉积过程研究

化学镀非晶态Ｎｉ－Ｐ镀层初期沉积过程和沉积层状态是影响结合强度的决定性因素．对不同基体材料初期沉积的观察发现，有些非晶态镀层的初期沉积中含有微晶．微晶的产生与否与基体材料以及镀层材料晶格的错配度有关，当镀层与基体材料点阵常数相差不大，镀层的初期沉积沿基体晶格外延生长出现微晶层，反之，点阵常数相差较大时，初期沉积物中未发现微晶．     

化学镀镍—高磷合金的微观结构及晶化行为研究

采用混合络合剂在酸性体系中进行化学镀镍－高磷合金,并用原子力显微镜（AFM）,透射电镜（TEM）、差热分析（DSC）、X射线衍射（XRD）等技术研究所得到的化学镀镍－高磷合金的微观结构和晶化行为。结果表明,化学镀镍－高磷合金具有胞状结构的微观形貌,镀态时呈典型的非晶态结构,300℃以下对热非常。镀层在343．8℃开始晶化,400℃时完全转化成亚稳用Ni5P2,440.4 ℃,时进一步转变成稳定的Ni和Ni3P相其晶化行为同从碱性乙二胺镀液中得到的高磷化学镀镍层有明显的差异。     

用比色法测定镀镍电极镍磷含量

镍和丁二酮肟在pH=10的缓冲介质中,形成丁二酮肟红色络合物,选择530 nm为测定波长,表观摩尔吸光系数为1.74×105L/mol.cm,稳定时间可达3 h。采用磷钼酸铵比色法测定磷,最大吸收峰位于700 nm,表观摩尔吸光系数为2.70×105L/mol.cm。镍和磷测量的线性范围均为0~100μg/mL。将该方法用于镀镍电极的镍磷含量分析,测定结果的相对标准偏差不大于5.0%。     

The effect of component concentrations in electroless nickel plating solution on topography and microrelief of Ni-P coatings

Topography and microrelief of Ni-P coatings deposited by electroless plating from solutions with different composition are examined as a function of concentrations of nickel and acetate ions, solution pH, and stabilizing additives, namely, PbCl₂ and thiourea. The coating growth involves the formation of surface spheroids of which a large percentage are strongly extended in the substrate plane and grow by the layered-growth mechanism. In terms of this mechanism, the changes in the topography and microrelief of coatings and also in the spheroid size as a function of the composition of electroless nickel plating solutions are explained. In solutions studied, the rates of formation of new two-dimensional layers and their propagation in the substrate plane are assessed. As the concentration of hydrated nickel ions in solution decreases, spheroids less extended in the substrate plane are formed and grow probably by the normal growth mechanism. The size distribution of spheroids is obtained and the reasons for the partial formation of spheroids with sizes deviating from those predicted by the normal law are analyzed.     

低镍催化剂上CO和CO_2加氢反应的对比研究

采用ＣＯ和ＣＯ＿２对比加氢活性测试，ＸＲＤ及ＴＰＲ方法研究了两个不同Ｎａ助剂含量的低镍Ｎｉ／Ａｌ＿２Ｏ＿３体系的性能。实验发现，在低镍催化剂上ＣＯ＿２在较低温度下就可加氢生成甲烷，而ＣＯ则需要更高的温度，ＣＯ＿２无需先经逆变换生成ＣＯ，然后再加氢，它可直接加氢生成ＣＨ＿４。在同一催化剂上，ＣＯ＿２加氢生成ＣＨ＿４的表现活化能要低于ＣＯ加氢生成ＣＨ＿４反应的表现活化能。晶相ＮｉＯ还原后形成的活性相对ＣＯ＿２加氢反应的活性明显高于它对ＣＯ的加氢活性，非晶相镍氧化物还原后形成的活性相对ＣＯ的加氢反应特别有利。Ｎａ助剂的含量不同会造成Ｎｉ氧化物物种的分配不同，从而导致ＣＯ、ＣＯ＿２的加氢活性及其随温度的变化也不相同，催化剂对ＣＯ、ＣＯ＿２加氢反应作用的本质是不相同的。     

几个制备因素对低镍甲烷化催化剂结构和性能的影响

对Ni/Al_2O_3催化剂体系的制备方法与其结构和性能的关系已有不少研究报道,文献多侧重于比较各不同制备方法之间的差异,对同一方法的各步骤条件的影响研究尚不多,且缺少微观结构与宏观性能的直接关联。为此,本文研究了某些制备因素对低含Ni量Ni/Al_2O_3催化剂性能的影响,旨在找出制备条件-结构状态-催化性能之间的联系,为催化剂的有效设计提供依据。     

Exploration of the Corrosion Behavior of Electroless Plated Ni-P Amorphous Alloys via X-ray Photoelectron Spectroscopy

A Ni-P amorphous alloy was deposited on a low carbon steel substrate via electroless plating. Further, the prepared samples were crystallized under the high temperature with a range from 200 °C to 500 °C in air for 1 h. The crystallization process was studied via XRD, AFM, and XPS, and anodic electrochemical behavior was investigated by potentiostatic methods in a 3.5 wt% NaCl solution. The experimental results indicate that the diffusion, dissolution, and enrichment of the component elements in the Ni-P alloy are essential during crystallization because the various corrosion behaviors corresponding to Ni and P are directly affected. More importantly, under the 400 °C treatment, H₂PO_2⁻ was enriched in the alloy, which effectively hinders the anodic dissolution of nickel and forms a complete adsorption layer on the surface of the alloy. Our results demonstrate that P can effectively block the anodic dissolution of Ni during the corrosion process, and the crystallization process can effectively promote the surface enrichment of P to improve the corrosion resistance of the coating.     

XPS、AES研究卤素对铬酸电沉积的活化作用

测定了卤素-铬酸-硫酸体系中铬的电沉积效率及阴极极化曲线;XPS、AES测定了该体系中形成的阴极膜的组成。结果表明,硫酸能有效地催化光亮铬的形成,F~-、Cl~-能显著地提高铬沉积的电流效率;除Br~-外,F~-、Cl~-均参加成膜;膜的深度剖析曲线表明,卤素分布在膜的深层,SO_4~(2-)集中在膜的表面。由此可推测,F~-、Cl~-在金属表面和铬酸的还原产物重铬酸铬形成易发生电子转移反应的表面过渡态配合物,[Cr~Ⅲ-X-Cr~Ⅲ]~≠。     

ICP-AES法测定稀土磁性材料中微量铬、镍和钛

研究了采用电感耦合等离子体原子发射光谱(ICP-AES)测定稀土磁性材料中微量铬、镍和钛的分析方法。确定了样品的溶解方法和待测元素的分析线,对基体元素和共存元素的干扰影响进行了考察,采用基体匹配法克服了基体效应。该方法测定结果与火焰原子吸收光谱法测定结果相一致。铬、镍、钛的检出限分别为0.001 4、0.002 8、0.000 5μg/mL,测定结果的相对标准偏差小于7.0%(n=8),方法的加标回收率为97.0%~104.7%。     

Influence of electroless nickel plating of hydrogen-absorbing alloys on cycle characteristics of nickel-metal hydride batteries

The effects of electroless nickel plating of a hydrogen-absorbing alloy on the cycle characteristics of a nickel-metal hydride battery were investigated. The cycle life was improved by employing an electroless nickel-plated hydrogen-absorbing alloy for the negative electrode, which retained the same high-rate level and low-temperature characteristics compared to a cell using a non-plated hydrogen-absorbing alloy. The electroless nickel-plated hydrogen-absorbing alloy provided better electrochemical characteristics when its surface was partly and tightly covered by nickel particles under optimal electroless plating conditions.     

ICP—AES法测定生铁中硅锰磷的研究

通过正交试验选择出最佳溶样条件,用电感耦合等离子体发射光谱（ICP－AES）法测定生铁中硅,锰,磷,方法简便可靠,具有良好的精密度和准确性,相对标准偏差不大于3．8％。     

乙烯基三甲基硅烷等离子体聚合物膜的结构与性能

采用外部电极电容耦合高频等离子体装置对乙烯基三甲基硅烷(VTMS)进行等离子体聚合。用IR、XPS、PGC/MS、X-ray、ESR和元素分析等方法对聚合物结构进行表征,并推断聚合反应历程。应用TG研究聚合物的热性能。通过X-ray证实聚合物为非晶结构。在无添加气体存在时聚合,XPS测试结果表明产物中有氧嵌入,且聚合物的C/Si比总的说来比单体的C/Si比低。TG的测试结果表明聚合物膜具有优良的热稳定性。