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基因芯片中的微电子刻蚀技术 总被引:2,自引:0,他引:2
基因芯片是运用微电子加工技术以及基因分子的自组装技术在微小芯片上组装成千上万个不同的DNA微阵列,实现以基因为主的生命信息的大规模检测。本文利用氧化、光刻、蒸发、溅射等一系列集成电路刻蚀技术,研究了适于电化学检测的基因芯片微阵列的制备,并提出了这种芯片中微流路的制备工艺方案。 相似文献
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微电子封装技术的发展与展望 总被引:8,自引:0,他引:8
微电子技术的发展,推动着微电子封装技术的不断发展、封装形式的不断出新。介绍了微电子封装的基本功能与层次,微电子坟技术发展的三个阶段,并综述了微电子封装技术的历史、现状、发展及展望。 相似文献
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介绍了两年来国内外混合集成电路的概况,从市场和技术两个方面评述传统技术与高级技术、老产品与新产品的相互促进及其各自的优劣,重点介绍多芯片组件及其主要制造技术,意在引起有关人员的注意,重视我国混合微电子工业的发展. 相似文献
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迈向新世纪的微电子封装技术 总被引:12,自引:0,他引:12
论述了微电子封装技术的现状与未来,提出了跨世纪的微电子封装中几个值得注意的发展动向,展现了迈向新世纪的单级集成模块(SLIM) 封装的美好前景。同时,可以看出IC 芯片与微电子封装技术相互促进,协调发展密不可分的关系。 相似文献
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微电子技术的发展现状与展望 总被引:1,自引:0,他引:1
本文分析了微电子技术的发展状况,尤其对集成电路的加工和设计作了较为深入的考察。对本世纪末微电子技术各个领域的发展前景进行了展望。同时,对如何发展我国的微电子技术提出了一些意见和建议。 相似文献
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迈向新世纪的微电子封装技术 总被引:2,自引:0,他引:2
论述了微电子封装技术的现状与未来,提出了跨世纪的微电子封装中几个值得注意的发展动向,展现了迈向新世纪的单级集成模块(SLIM)封装的美好前景。同时,可以看出IC芯片与微电子封装技术相互促进,协调发展密不可分的关系。 相似文献
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从微电子集成电路技术发展的趋势,介绍了集成电路技术发展对光刻曝光技术的需求,综述了当前主流的DUV光学曝光技术和新一代曝光技术中的157nm光学曝光、13nm EUV曝光、电子束曝光、X射线曝光、离子束曝光和纳米印制光刻技术的发展状况及所面临的技术挑战.同时,对光学曝光技术中采用的各种分辨率增强技术如偏轴照明(OAI)、光学邻近效应校正(OPC)、移相掩膜(PSM)、硅片表面的平整化、光刻胶修剪(resist trimming)、抗反射功能和表面感光后的多层光刻胶等技术的原理进行了介绍,并对不同技术时代可能采用的曝光技术作了展望性的评述. 相似文献
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硅集成电路光刻技术的发展与挑战 总被引:17,自引:2,他引:17
从微电子集成电路技术发展的趋势,介绍了集成电路技术发展对光刻曝光技术的需求,综述了当前主流的DUV光学曝光技术和新一代曝光技术中的157nm光学曝光、13nm EUV曝光、电子束曝光、X射线曝光、离子束曝光和纳米印制光刻技术的发展状况及所面临的技术挑战.同时,对光学曝光技术中采用的各种分辨率增强技术如偏轴照明(OAI)、光学邻近效应校正(OPC)、移相掩膜(PSM)、硅片表面的平整化、光刻胶修剪(resist trimming)、抗反射功能和表面感光后的多层光刻胶等技术的原理进行了介绍,并对不同技术时代可能采用的曝光技术作了展望性的评述. 相似文献
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发展微电子技术,迎接信息化的挑战 总被引:2,自引:0,他引:2
微电子技术,基于其重要的地位,成为世界各国尤其是发达国家竞争热点,从而导致此领域持续高速地发展,展望未来,传统领域新的推进或新的突破仍将出现,一些新领域的研究开发也将取得重大的进展。 相似文献
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微电子技术的应用与影响在我们的日常生活中随处可见。基于此主要叙述了微电子技术的发展历史和现状、应用以及国内微电子技术的发展现状,最后对微电子技术的发展趋势做了分析。 相似文献
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采用三层胶光刻工艺以及SF6+Ar为反应气体的反应离子刻蚀工作,实现了小于0.50μm的图形转移,并将此微细加工工艺应用于0.50μmCMOS集成电路的制做。 相似文献
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微电子技术是当今世界最活跃的生产力,集成电路是微电子技术的核心,今天,集成电路已从一门高技术发展成为一个成熟的产值超千亿美元的产业,它的广泛应用已对.国家经济、政治及人们的工作和生活产生了深远的影响。发达国家以集成电路工业作为经济发展的倍增器推动了整个国家经济的大发展,许多发展中国家藉助ICI业的发展走向世界,促成了经济起飞。我国微电子产业经过漫长曲折的发展,现正处在向集约化大生产发展的重要时期。在这种形势下,只有对微电子技术自身和制约因素(相关产业)有清晰的认识,了解和掌握其固有的发展规律,分… 相似文献