软X射线多层膜光栅的衍射特性

用X射线运动学理论对软X射线多层膜光栅的衍射特性进行了研究。发现其衍射规律与多层膜的布拉格衍射和普通光栅衍射有本质的区别,可将衍射能量集中于某一衍射级上,同时它又保持了多层膜的高反射率和光栅的高分辨本领等优良特性。     

金属单层膜的小角X射线衍射强度的研究

本文对金属单层膜进行研究,在多种样品中没有发现X射线衍射峰.我们在基底上预先淀积一层重金属膜,然后再淀积所需样品,发现样品有较好的衍射峰产生.我们对此进行了探讨并提出了一个可能的理论定量解释.     

Mo/Si多层膜小角X射线衍射结构表征

为了实现对Mo/Si多层膜的结构表征,测量了多层膜样品的小角X射线衍射谱。介绍了小角X射线衍射谱的分析方法,包括Bragg峰值拟合法,傅里叶变换法,反射谱拟合法。Bragg峰值拟合法和反射谱拟合法得到多层膜的周期厚度为7.09nm,两种模型的反射谱拟合法得到界面的粗糙度(扩散长度)为0.40～0.41nm(Si在Mo上),0.52～0.70nm(Mo在Si上),前者要比后者小,这与透射电镜法(TEM)得到的结果0.40nm(Si在Mo上),0.6～0.65nm(Mo在Si上)是一致的。通过基于扩散模型的反射谱拟合法得到的折射率剖面也与由高倍率透射电镜(HRTEM)积分得到的灰度值剖面在趋势上是一致的。通过X射线衍射谱和TEM图像对Mo/Si多层膜进行综合表征,得到了多层膜的精细结构信息,这对多层膜制备工艺的优化具有十分重要的意义。     

簿膜结构分析中的低角X射线衍射方法

利用带折射修正的布喇格衍射定律和薄膜光学理论分析了低角Ｘ射线衍射谱中出现的一系列现象，导出了多层膜周期厚度和周期中不同材料间的配比率的计算公式，对多层膜的低角Ｘ射线衍射谱中主峰间的次峰现象作出了解释，并对低角Ｘ射线衍射测量单层膜厚度进行分析，给出了精确的测厚公式。     

薄膜结构分析中的低角X射线衍射方法

利用带折射修正的布喇格衍射定律和薄膜光学理论分析了低角Ｘ射线衍射谱中出现的一系列现象，导出了多层膜周期厚度和周期中不同材料间的配比率的计算公式，对多层膜的低角射线衍射谱中主峰间的次峰现象作出了解释，并对低角Ｘ射线衍射测量单层膜厚度进行了分析，给出了精确的测厚公式。     

软X射线多层膜与衰减膜研究

本文采用随机数的方法,发展了一种普适的多层膜设计方法,这种方法除可设计一般的周期多层膜,更重要的是它可以根据选定的评价因子,设计不同要求的非周期多层膜。用磁控溅射方法完成软X射线多层膜制备,X射线衍射、卢瑟福背散射、俄歇电子谱和反射率的相对测试用来表征多层膜结构和特性,所得结果说明多层膜的结构完整,周期参数正确。用离子束溅射方法成功地制备了有一定反射率和透过率的软X射线半反半透分束镜;分析了Ag和Zr衰减膜中的杂质含量与分布及其对衰减膜特性的影响,并对衰减系数进行了修正,为实验提供优质的衰减膜。     

软X射线多层膜与衰减膜研究

 本文采用随机数的方法，发展了一种普适的多层膜设计方法，这种方法除可设计一般的周期多层膜，更重要的是它可以根据选定的评价因子，设计不同要求的非周期多层膜。用磁控溅射方法完成软X射线多层膜制备，X射线衍射、卢瑟福背散射、俄歇电子谱和反射率的相对测试用来表征多层膜结构和特性，所得结果说明多层膜的结构完整，周期参数正确。用离子束溅射方法成功地制备了有一定反射率和透过率的软X射线半反半透分束镜；分析了Ag和Zr衰减膜中的杂质含量与分布及其对衰减膜特性的影响，并对衰减系数进行了修正，为实验提供优质的衰减膜。     

软X射线光学和周期性多层膜

本文介绍了软Ｘ射线的基本性质，它们和可见光及Ｘ射线的性质有很大的差异．这些性质决定了软Ｘ射线光学元件的特殊性．过去发展的软Ｘ射线光学元件不够理想，影响了软Ｘ射线光学的发展．近十年来发展的由轻、重元素组成的周期性多层膜使局面大为改观．多层膜的结构研究有助于指明提高多层膜质量的方向．     

用X射线衍射法测定非晶态金属的结构

自从１９６０年前后ＰｏｌＤｕｗｅｚ［１］发展了由液态快速冷却金属的技术之后,非晶态金属和合金的研究引起国内外的广泛重视．目前已有近百种金属和合金可以具有非晶态的结构［２］．非晶态合金的许多物理性质与晶体有显著差别．有些非晶态合金具有优异的力学性能、磁性或其他特性,这就为研制新材料提供了新的途径．非晶态材料的多种物理性质是与它的微观结构密切相关的,因此非晶态的结构研究是研究这类材料的重要方面．?...     

软X射线多层膜及多层膜光栅的研究进展

对目前的几种软Ｘ射线光学元件的性能作了简要的阐述和分析。综合介绍了多层膜作为软Ｘ射线光学元件的新进展。同时对多层膜光栅这种新型软Ｘ射线光学元件的原理、性能、制作工艺进行了详细的说明。     

Fe-Ti多层调制膜固态反应扩散的动态原位法X射线衍射研究

本文用动态原位法X射线衍射研究了Fe-Ti多层调制膜的固态反应扩散,比较准确地测量了组份调制衍射峰强度的变化,并同时观测了峰位的移动,计算出不同温度下Fe-Ti多层调制膜的扩散系数,并给出其随时间变化的曲线。根据扩散系数随时间变化率,计算出与粘滞弛豫相关的激活能Q_y=8.3±0.2kcal/mol。 关键词：     

Ni在非晶Si中扩散机制的原位X射线衍射研究

通过对非晶Ni和Si多层组分调制膜(ML)中Ni和Si互扩散规律的原位X射线衍射法研究,考察了金属Ni在非晶Si(a-Si)中的扩散现象。得到了较低温度下Ni在非晶Si中扩散系数及规律,并且提出了Ni在a-Si中受非平衡缺陷延迟的间隙扩散机制。这个扩散模型较好地解释了Ni在a-Si中的扩散。 关键词：     

SIMULATION OF X-RAY DIFFRACTION OF MULTILAYER FILM WITH INTERFACIAL ROUGHNESS

In this paper, the X-ray diffraction profiles of multilayer with uncorrelated rough interfaces are directly simulated using kinematic theory of X-ray diffraction. The result shows that the decrease of the reflective intensity caused by the interracial roughness is more severe than that caused by random fluctuation of period of the same degree, and the decrease of the reflective intensity of high order Bragg deffraction is more rapid than that of low order ones. So it is very important to reduce the interracial roughness in the deposition and in the annealing of multilayer films.     

钆钴非晶合金薄膜的电子衍射研究

用电子衍射方法研究了一些非晶钆钴合金磁性薄膜的结构,用Lorentz电子显微技术观察了其相应的磁结构。在所有薄膜的电子衍射图上均可清楚地看见七个弥散衍射环,其中两个最小的环分布在s<0.6?^-1(s=2sinθ/λ)的范围内。在不同的薄膜中观察到磁泡或平面畴结构。本文就这种由两种原子半径相差较大的元素,如稀土和过渡元素构成的非晶合金,讨论了如何只根据s<0.6?^-1范围内的衍射强度峰形,直接、定性地了解稀土与稀土原子、稀土与过渡族原子以及过渡族与过渡族原子之间最近邻配位数相对大小的问题。也讨论了钆钴薄膜相分离对磁各向异性的影响。 关键词：     

透射式GaAs光电阴极AlGaAs窗层和GaAs光电发射层界面应变状况的X射线衍射研究

本文介绍了应变和弛豫的概念以及倒易点在倒易空间的分布,阐明了GaAs光电阴极AlGaAs窗层和GaAs光电发射层界面应变状况的X射线衍射的分析方法,最后给出了实例.     

非晶态Tb-Fe薄膜的电子显微镜方法研究

用电子显微术和电子衍射方法研究了在普通真空中蒸发淀积的非晶态Tb₃₁Fe₆₉和Tb₂₇Fe₇₃薄膜的显微结构,短程有序情况以及它们随温度的变化,并进而观察了晶化过程,实验结果表明,两个成份相近的薄膜,由于氧污染的程度和蒸发时衬底温度不同,在升温的各阶段,呈不同的显微结构和原子近邻配置,具有不同的相分离状态,但相分离机构可能均属不稳态分解(Spinodal decomposition),相分离后的每相随温度升高各自晶化, 关键词：     

非晶态Sm-Fe和Sm-Co薄膜的低温磁性

研究了非晶态Sm-Fe和Sm-Co薄膜在1.5—300K的磁性。发现Sm-Fe薄膜中Fe原子磁矩取向存在分散性,Sm-Co薄膜中Co原子有效磁矩随Sm含量的变化与Nd-Co非晶薄膜很相似。决定了Sm-Fe薄膜具有散铁磁结构,Sm-Co薄膜为共线铁磁性结构。Sm原子磁矩≈0。报道了这两个非晶合金系列的矫顽力H_c与成份和温度的依赖关系。发现Sm-Fe薄膜的H_c较高于Sm-Co的值;前者随Sm含量增加而急剧上升,并随温度升高而陡降;后者的H_c在Sm含量≈43at％有极大值,并以指数形式随温度升高而减小。发现低温范围内磁化强度随温度变化与自旋波激发和Stoner激发都有关系。 关键词：     

非晶态合金Pr-Co薄膜的磁性

本文研究了非晶态Pr_xCo_1-x薄膜合金的磁化强度与温度和磁场的关系。得到非晶态合金Pr-Co中存在有两个磁相的结论。这可能是由于局域化学短程序涨落造成的相分离,通过对磁化强度-温度曲线拟合,得到了这两相的相变温度。另外通过对合金的饱和磁矩与成份的关系研究,分别得到Pr原子的有效原子磁矩与成份的关系,以及Co原子在x=0时的有效原子磁矩。 关键词：     

X射线研究CeO2缓冲层

我们在有和无离子束辅助两种情形下,在双轴织构Ni基底上制备了CeO2薄膜,结果表明,无离子束辅助沉积时,薄膜表现出(111)取向,在离子能量为240eV,束流为200μA/cm2,基片温度为360℃的条件下沉积的CeO2薄膜呈现出良好的立方织构.另外,我们分析了薄膜应力随温度和离子辅助条件的变化关系,结果表明,离子束轰击可以减小薄膜应力,在360℃附近薄膜应力几乎被完全弛豫.