KLA-Tencor将光刻覆盖控制扩展到65nm节点以下

KLA-Tencor公司日前正式推出业界最新的覆盖计量解决方案——Archer AIM＋系统，该系统专门用于满足芯片制造商对65nm节点以下的光刻覆盖控制要求。Archer AIM＋基于作为业界基准的Archer加工平台，与KLA-Tencor的上一代Archer AIM系统相比，     

KLA-Tencor针对32nm光刻控制推出新的Archer200型叠对测量系统

KLA-Tencor公司日前推出最新型叠对测量系统Archer200,它包含一个能够显著改善性能的增强型光学系统,这对于帮助客户在32nm设计规格节点达到双次成像光刻更严格的叠对要求至关重要。客户还可以选择在Archer 200上增加KLA-Tencor先进的散射测量技术,以在达到其特定的32nm及更小线距测量要求中提供更大的灵活性。