Zr4Co4Ge7晶体结构的高分辨电子显微像观察

Ｚｒ＿４Ｃｏ＿４Ｇｅ＿７晶体结构的高分辨电子显微像观察茅建富，贺连龙，叶恒强，杨德庄，唐之秀（中国科学院固体原子像开放研究实验室，沈阳１１００１５）（哈尔滨工业大学）Ｖ相是在三元过渡族金属原子硅化物和锗化物中易于形成的一种相。其成分组元中有一种过渡族...     

测定蛋白质晶体结构的高分辨电子显微方法

用高分辨电镜方法研究不染色的蛋白质分子结构的主要困难有二:样品对电子损伤的高敏感性;样品在真空中三维结构的改变。我们采用性质与水相似而又不挥发的葡萄糖取代水介质,以防止真空损伤。用低剂量(<1e/A~2)电镜技术防止幅射损伤。然而由于样品固有低反差和低剂量成象,象的S/N非常低,以致不能直接观察。但如果样品是严格周期结构并具有足够多的分子或单胞,则重构分子或单胞所需的信息就可从计算机中萃取出来。为了重构需要测定Fourier函数的相位和振幅。两者分别由显微象的Fourier分析和电子衍射花样的测定而被确定。本文讨论测定Catalase和B.Subtilis α-Amylase晶体结构的实验方法。     

高分辨电子显微术中的图象处理

在最佳成象条件下拍摄的高分辨电子显微象可以反映出被观察晶体沿入射电子束方向的结构投影。可是,象上携带的结构信息总免不了遭受各种成象因素的影响而失真。为了从象上提取出更多的结构信息,有必要对象进行各种处理,对于完整晶体的结构象可以首先用平均法消除噪音(1,2,3),提高象的清晰度。更重要的图象     

磷化铟晶体的高分辨电子显微术研究

本文报导了半导体InP材料〔001〕带轴的高分辨结构象主要实验结果。采用400kV电子束,欠焦量为大约650A,同时In及P的结构象的最佳厚度约为260A。当厚度减缩到150A左右,只剩下P的原子象。当厚度增加到370A,只剩有In的原子象。实验得到的高分辨结构象和计算机模拟象是基本一致。当试样发生弯曲时,入射束与〔001〕带轴之间的夹角是0.18度。高分辨结构象代表In原子和P原子的亮点联接在一起。计算机模拟象证实了这一实验结果。     

聚酞菁硅氧烷的高分辨电子显微术研究

本文研究了聚酞菁硅氧烷晶粒的结构,拍摄了这种晶体的晶格像,包括(020)晶面条纹像及(020)和(002)晶面的两维晶格像。观察到该种晶体中存在结晶完善的区域和缺陷集中的区域,同时拍摄了聚酞菁锗氧烷的晶格像,比较了这两种同系物的结构。     

碲镉汞晶体结构性质的电子显微术研究

采用扫描电子显微术对布里奇曼法、固态再结晶法和碲溶剂法生长的Ｈｇ１－ｘＣｄｘＴｅ晶体的结构性质进行了研究，结果表明位错和亚晶界是三种方法所得晶体的主要缺陷，而位错和亚晶界的形态与分布则取决于被研究面的结晶学取向。实验还观察到经过长期高温退火的晶体中单个位错成规则的点阵分布，或排列成位错墙。此外也观察到孪晶，多晶以及第二相等结构缺陷。     

Bi系超导体中界面的高分辨电子显微术研究

Bi系超导体是一种类钙钛矿型体心四方结构,元胞参数为:a=b=5.41A,c=30.8A(对应于T_c～85K或c=37.1A(对应于T_c～110K),而且存在无公度调制结构,这种结构可以用两上独立的调制波矢q_1和q_2描述,本文利用高分辨电子显微术对两种界面进行了研究。图1是90°扭转界面的高分辨像。界面上侧不出现超结构调制网格,对应于a-c面,c方向周期为30.8A。界面下侧出现了二维调制网格,对应于b-c面,这种调制可用上述两个独立的调制波矢q_1和q_2     

掺铜的硫化锌缺陷结构的高分辨电子显微术研究

掺铜的硫化锌为一种重要的发光材料。其发光性能与晶体缺陷有密切关系。利用高分辨电子显微术可以直接观察晶体缺陷结构。硫化锌晶体结构有立方闪锌矿(Z)与六角纤锌矿(W)两种。图1是两种结构共生的高分辨象,分别用Z及W表示相应结构。两者的区别仅在于沿密排方向的原子排列规则不同:闪锌矿结构为ABCABC……(3 R)排列;而纤锌矿结构为ABAB……(2H)排列。象中每一个亮点代表由一个硫原子及一个锌原子组成的原子团。在掺铜的硫化锌晶体中,微孪晶的密度很大.如图2及图3(T)所示。孪晶面为(111)。图3中还有典型的扩展位错(S),位错的柏氏矢量为b=1/6[112]。此外,还观察到有4H、16H、12R、36R等多种长周期     

CdGd2（WO2）4晶体的高分辨电子显微研究

闪烁晶体材料用上探测了X射线的能量和强度，在它全检测，各种射线检测装置的运行中起有关键性的作用。例如GdWO4是良好的闪烁晶体，对X射线吸收系数大，辐射长度短，可使高能物理探测器做得十分密集，从而降低整个谱仪的造价。近年来，由于CdWO4晶体具有优越的光学性能，使它成为了应用在XCT探测器上的首选闪烁体材料。     

场发射高分辨电子显微像的复原

本文讨论了弱相位物体近似的实际应用范围，在此基础上对场发射高分辨电子显微像作了解卷处理。     

煤基石墨的高分辨电子显微象的研究

煤是地壳上由植物遗体转变来的一种碳质物质,它经受岩浆的热接触变质作用以后,可以转变为石墨,这就是煤基石墨。我国湖南省鲁塘地区产有不同结晶状态的煤基石墨,它们的H/C(原子比)从0.042-0.01,石墨化程度U从0.2-0.7,电阻率从10~(-1)—10~(-4)欧姆米~(-1)。今用JEM200-CX顶插式电镜对鲁塘石墨系列样品进行观察,得到一组间距为0.337nm的品格象,对这些图象分析以后,得到下列四点结论     

复合晶体硫化物Sr1.145TiS3的高分辨电子显微术研究

与(PbS)-{1.12}VS-2,Ba-xFe-2S-4等三元金属硫化物一样[1,2],Sr-{1.145}TiS-3的晶体结构也很复杂[3].在四维超空间群的基础上使用粉末X射线数据和Rietveld分析方法确定了无公度复合晶体硫化物Sr-{1.145}TiS-3的晶体结构[4].它的基本结构是由空间群分别为R3m和P31c的TiS-3亚点阵和Sr亚点阵沿着晶体的c轴相互穿插形成的.以六角晶系来标定,其晶格常数为a-1=a-2=1.15108nm,c-1(TiS-3)=0.29909nm和c-2(Sr)=0.5226nm.用透射电子显微术研究其结构特性的报导还未见到.本文首次报导用透射电子显微术在原子尺度研究复合晶体硫化物Sr-{1.145}TiS-3晶体中Sr原子和S原子相互调制的结果.     

场发射高分辨电子显微像的图像处理

场发射高分辨电子显微像的图像处理何万中陈弘李方华（中国科学院物理研究所，北京１０００８０）与非场发射电子显微镜（以下简称电镜）相比，场发射（ＦＥ）电镜的衬度传递函数（ＣＴＦ）随空间频率增大而衰减的速度要缓慢得多。因此，ＦＥ电镜下拍摄的高分辨像，一方面...     

电子显微术测定的一个晶体结构准确到0.02nm

电子显微术测定的一个晶体结构准确到００２ｎｍ电子晶体学相对Ｘ射线晶体学的优点是：１可以从显微像直接测定晶体结构；２可以分析非常小的晶体。对ＨＲＥＭ来说，成像时只需约１００个晶胞，对电子衍射来说，只需约１０，０００个晶胞，比Ｘ射线衍射所需的晶胞数...     

高分辨电子显微像的定量分析与应用

本文通过研究高分辨电子显微像的图像处理技术，系统地建立了两种高分辨原子像亮点中心精确定位的处理方法，灰度主检测法和峰谷提取－灰度平均法。基于原子像亮点中心定位技术，使用最小二法，建立 测量高分辨像中局部点阵参数和 各畸变的实际处理过程。结论像模拟、图像匹配等手段，详细研究了从高分辨像中提取元素分布、原子结构等信息的定量分析方法；并建立了一套ＵＮＩＸ平台上的高分辨像定量分析程序包，具有较高的精度和广     

无卷边单分子层WS2纳米片原子结构的高分辨电子显微术研究

本文利用高分辨电子显微术(HRTEM)确定了无卷边的单分子层WS2纳米片的原子结构像.通过对样品不同区域HRTEM像进行傅里叶变换(FFT)分析,得到了各个区域的WS2纳米片的晶体取向,确定了WS2纳米片分子层数分布.根据电子显微像强度与样品层数的线性关系以及WS2纳米片的单分子层数分布模型,确定不同区域WS2纳米片的分子层数.为了进一步定量分析结果的正确性,通过模拟电子显微像在不同碳膜厚度及不同成像条件下WS2纳米片的HRTEM像,也确定了在像衬度上与实验像很好的匹配.     

用直接法处理高分辨电子显微象

Gerchberg和Saxton(1971,1972)首先提出,把一张电子显微象和一张相应的电子衍射图结合起来。用迭代方法求出象波和衍射波的相位。1977年李方华提出用象和衍射图相结合来提高象的分辨率。最近Ishizuka,Miyazaka和Uyeda (1982)在弱相位近似条件下,把“相位改正”方法用于象与衍射圈的结合,达到改善象的质量。提高象分辨率的目的。另一方面,李方华和范海福(1979)曾提出,可以用晶体结构分析中的直接法来复原高分辨电子显微象。本文则以氯代酞菁铜为例,试验了将“直接法”用于象与衍射图的结合,获得了满意的结果。     

表面的高分辨电子显微平面像的模拟

本文全面讨论了多层法用于表面的高分辨电子微平面像模拟计算中的各种影响因素以及需要注意的技术细节。     

聚芳醚酮片晶形态的高分辨电子显微象研究

高分子本体结晶或溶液结晶,其聚集态结构一般是球晶,球晶是片晶组成的多晶体。因结晶条件和分子结构的不同,球晶的大小和形态也就不同。为了深入了解刚性链高分子聚芳醚酮的聚集态结构,我们首先对聚芳醚酮片晶形态进行了高分辨电子显微象研究。图1是聚芳醚酮片晶截面[100]取向的高分辨晶格象。图中最明显可见的是间距为0.63nm的(010)晶面的晶格象。另外,还可以发现有些区域出现了二倍于(010)晶面间距的超结构条纹(A区),有些区域出现二分之一(010)晶面间距的(020)晶格条纹(B区),还有些区域晶格条纹消失(C区)。从晶     

高分辨电子显微像的解卷处理程序:DEC

高分辨电子显微像因离焦量和晶体厚度等因素的影响，未必能正确反映晶体结构。为此，李方华等建立并发展了高分辨像的解卷处理技术，将单张高分辨像恢复为结构像，并提高像的分辨率。DEC是为高分辨像解卷处理编写的配套计算机程序，将此程序应用于Si0.75Ge0.24晶体中缺陷的实验高分辨像，