具有纳米氧化层的磁性隧道结的热稳定性研究

研究发现在磁隧道结的反铁磁层和被钉扎铁磁层之间插入一层纳米氧化层，可以使磁隧道结的退火温度增加了40℃，即明显地提高了磁隧道结的温度稳定性.通过卢瑟福背散射实验直接观察到产生这一效应的原因是该纳米氧化层有效地抑制了Mn元素在退火过程中的扩散，从而使TMR值在较高的退火温度下得以保持. 关键词： 磁性隧道结 隧穿磁电阻 热稳定性 纳米氧化层     

Nb/AlOx-Al/Nb超导隧道结制备氧化工艺与特性研究

提出一种氧的等离子氧化的方法改善结区边缘绝缘性能,降低超导隧道结的漏电流。对Al膜进行等离子氧化能够有效的改善氧化膜的绝缘性能,AES分析表明:氧化绝缘层均匀,界面清晰;应用此方法成功制备出较好性能的Nb隧道结。     

磁性隧道结热稳定性的x射线光电子能谱研究

通过XPS等微观分析手段证实了磁性隧道结在高温退火后，反铁磁层中的Mn元素扩散到被钉 扎铁磁层及势垒层中，破坏了势垒层/铁磁层界面，从而导致了磁性隧道结高温退火后TMR的 下降.然而在反铁磁层和被钉扎铁磁层之间插入一层纳米氧化层后，Mn的扩散得到了抑制， 使磁性隧道结的热稳定性得以提高. 关键词： 磁性隧道结 纳米氧化层 x射线光电子能谱     

用高纯氧热氧化制作铅薄膜隧道结工艺的研究

本文主要介绍用高纯氧热氧化制作铅约瑟夫逊隧道结的方法以及一些实验结果.用这种方法可以制作高质量的隧道结,结的成品率较高,临界电流的一致性和重复性较好.本文还介绍了某些检验隧道结氧化层质量的方法.     

反应离子刻蚀与离子刻蚀方法的研究与比较

在制备所有的NbN超导隧道结的过程中,为了得到良好的隧道结,刻蚀是很关键的一步,我们对反应离子刻蚀(RIE)和离子刻蚀两种不同的方法进行了研究比较.通过对多层结构用三种不同的方法刻蚀,再进行SEM观察切面图像,发现离子刻蚀出来的薄膜边缘,与离子源与基片摆放的方向有很大的关系,而RIE刻蚀的结区边缘较为平缓且结果稳定,有利于我们制备更好质量的超导隧道结.     

两个铅约瑟夫逊隧道结相互作用的实验观察

在4.2K下对两个相距几千埃的铅约瑟夫逊隧道结的相互作用进行了初步的实验观察.发现,在一定条件下,注入结(低阻结)的工作状态对检测结(高阻结)两膜能隙之和以及检测结的临界电流(或只是对临界电流)有明显的影响.当检测结能隙变化不显著时,在检测结临界电流的变化中观察到关于注入结电流方向的反对称成分,可用准粒子扩散来进行解释.     

电荷能和热涨落对Josephson隧道结的位相相干性的影响

对Josephson隧道结,如果氧化层的厚度为20(?)左右,电荷能与Joscphscm耦合能相比可略去不计。随着氧化层厚度的增大,电荷能变得可与耦合能相比,不能略去不计。本文讨论电荷能和热涨落对隧道结性能的影响,给出两者同时发生作用从而破坏隧道结两侧位相相干性的临界条件。我们既从能量角度,又从位相差的均方偏差的角度出发,给出两个等价的位相相干性被破坏的临界条件。     

氧化态石墨烯/铋膜修饰玻碳电极测定水中铅离子

制备了氧化态石墨烯修饰玻碳电极,并预镀铋膜,采用了示差脉冲溶出伏安法对水中的铅离子含量进行测定,考察了缓冲溶液pH值、沉积电位、沉积时间对铅离子测定的影响.通过实验条件优化,对浓度在0-3.00×10-7mol/L范围内的铅离子进行测定,铅离子浓度与溶出峰面积线性关系良好,检出限是1.00×10-8mol/L.结果表明,方法检测灵敏度高、重现性好,可实现水样中铅离子的快速测定.     

非平衡超导铅膜中的非均匀能隙态

用两个重叠的铅隧道结进行实验,当注入电流很大时在铅膜中观察到了非均匀能隙态,铅膜中出现非均匀态的功率阈值比铝膜大得多。 关键词：     

Pb-In合金超导隧道结的制作工艺和热循环稳定性的研究

研究了不同条件下制作的Pb-In合金膜的热循环稳定性,以及用不同氧化方法制作的Pb-In合金隧道结的热循环稳定性。用直流辉光放电氧化制作的隧道结可以在室温下保存几个月和经受6—7次室温与4.2K之间的热循环,结的特性没有显著变化。