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R.Pelzer P.Lindner T.Glinsner B.Vratzov C.Gourgon S.Landist P.Kettner C.Schaefer 《电子工业专用设备》2004,33(7):3-9
纳米压印光刻技术已被证实是纳米尺寸大面积结构复制的最有前途的下一代技术之一。这种速度快、成本低的方法成为生物化学、μ级流化学、μ-TAS和通信器件制造以及纳米尺寸范围内广泛应用的一种日渐重要的方法,如生物医学、纳米流体学、纳米光学应用、数据存储等领域。由于标准光刻系统的波长限制、巨大的开发工作量、以及高昂的工艺和设备成本,纳米压印光刻技术可能成为主流IC产业中一种真正富有竞争性方法。对细小到亚10nm范围内的极小复制结构,纳米压印技术没有物理极限。从几种纳米压印光刻技术中选择两种前景广阔的方法——热压印光刻(HEL)和紫外压印光刻(UV-NIL)技术给予介绍。两种技术对各种各样的材料以及全部作图的衬底大批量生产提供了快速印制。重点介绍了HEL和UV-NIL两种技术的结果。全片压印尺寸达200mm直径,图形分辨力高,拓展到纳米尺寸范围。 相似文献
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光刻胶是纳米压印的关键材料,其性能将影响压印图形复制精度、图形缺陷率和图形向底材转移时刻蚀选择性。提出了成膜性能、硬度黏度、固化速度、界面性质和抗刻蚀能力等压印光刻胶的性能指标。并根据工艺特点和材料成分对光刻胶分类,介绍了热压印光刻胶、紫外压印光刻胶、步进压印式光刻胶和滚动压印式光刻胶的特点以及碳氧类纯有机材料、有机氟材料、有机硅材料做压印光刻胶的优缺点。列举了热压印、紫外压印、步进压印工艺中具有代表性的光刻胶实例,详细分析了其配方中各组分的比例和作用。介绍了可降解光刻胶的原理。展望了压印光刻胶的发展趋势。 相似文献
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纳米压印光刻模版制作技术 总被引:4,自引:0,他引:4
在下一代光刻技术中,光刻的成本越来越高,这使得工业界开始寻找新的技术。纳米压印作为非光学的下一代光刻技术,具有分辨率高、成本低、产率高等诸多优点,因而可能应用于将来的半导体制造中。同时,纳米压印也可以用于微机电系统(MEMS)和其他纳米结构的图形复制。纳米压印光刻技术主要包括热压印、紫外固化压印和微接触法压印。介绍了在这3种纳米压印光刻技术中,压印模版制作的制作工艺和模版表面的防粘连处理,并且讨论3种压印方法适用的不同领域。 相似文献
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在纳米压印技术中,热压印是普遍采用的压印方法。聚合物是压印的媒介,通过对聚合物加热、加压、冷却使聚合物成型,达到转印图形的目的。为了提高热压印技术和压印图形的精度,对聚合物受热后的特性以及聚合物的填充机理进行分析。通过实验得出,聚合物中的气体可以导致聚合物填充不完全,图形产生气泡,严重影响了图形的精度。聚合物的填充速度与模板的图案有关,平坦的模板比带有深孔的模板填充速度快。最后通过参数优化,得出高分辨率的压印图形。 相似文献
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DEM(Deepetching,Electroforming,Microreplication)技术是一种三维微细加工技术,由深刻蚀、微电铸和微复制三种工艺组成。其中微复制常采用模压工艺,而模压工艺具有许多参数,为了确定主要影响因素和最佳工艺条件,首次用正交实验方法对模压工艺进行优化。用镍模具对聚碳酸酯(PC)进行模压,得到影响因素主次为:模压温度>施加压力>加力速度>加力时间,优化参数为:模压温度180℃,压力3000N,加压速度0 2mm/min,力维持时间120s。用得到的优化参数进行实验得到了最佳的实验结果,由此证明了此方法的可行性。 相似文献
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以塑料微流控芯片的热压加工技术为基础,以实现自动化和批量化为目标,对芯片热压键合设备的机械结构进行设计研究,在保证芯片受压均匀的情况下,对设备机身的结构、加压方式等进行了分析,确定设备机身采用闭式双立柱结构,上部加压方式,通过力矩电机、螺旋升降机带动压头完成压力输出,并对压头的运动进行导向。实验表明,在热压芯片时,该设备能够将优化的工艺参数复现,制作的芯片质量稳定,一致性好。 相似文献
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Fresnel区板天线辐射特性的矢量场分析 总被引:2,自引:0,他引:2
本文利用矢量场统射理论分析研究Fresnel区板天线的辐射特性,并统一考虑馈源对天线增益、副瓣电平和交叉极化等参数的影响,所做工作适用于透射型和反射型Fresnel区板天线。天线远场方向图的计算和实测结果吻合较好,表明本文建立的Fresnel区板天线矢量场绕射模型的有效性 相似文献
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Sung-Hoon Hong Byeong-Ju Bae Jae-Yeon Hwang Seon-Yong Hwang Heon Lee 《Microelectronic Engineering》2009,86(12):2423-2426
High ordered nano-sphere array patterns on Si substrate were fabricated using nanoimprint lithography. First, using hot embossing method, poly vinyl chloride (PVC) based polymer replica template was duplicated from original high ordered nano-sphere array patterns, which was fabricated by evaporation method. The monolayer transferring condition can be achieved by varying hot embossing pressure. Then, through UV nanoimprint lithography with the replicated polymer template, imprinted patterns, which has high ordered nano-sphere array patterns, was successfully fabricated on Si and flexible PET substrate. 相似文献
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中空光束具有特殊的物理性质,在光信息处理、微电子学、同位素分离和分子光学等领域有着广泛的应用。本文提出采用TFT—LCD制作相位型菲涅尔波带片,平面波经TFTLCD衍射生成中空光束。实验结果表明,基于TFT—LCD的菲涅尔波带片生成的中空光束具有实时可调、快捷和精确等优点。 相似文献
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本文描述一种光生等离子体菲涅尔波带板天线的设计方法.利用中心波长为808 nm的近红外激光器阵列通过光学掩膜(菲涅尔波带板的照相底片)照射高电阻率的硅片,使硅片呈现出菲涅尔波带板的衍射特性,实现对入射毫米波的聚焦.给出了这种天线在94GHz处的实验验证,并得到了4dB的天线增益效果. 相似文献