溅射制备的Co/V多层膜微观结构特征与铁磁共振研究

研究了用射频磁控溅射方法制备的［Co(1.5nm)/V(d_V)］₂₀(0.5nm≤d_V≤4nm)多层膜的结构和磁性.用X射线衍射、透射电子显微镜、高分辨率透射电子显微镜等手段对其结构的分析,表明它们层状周期结构良好,沿膜的生长方向具有fcc Co(111)和bcc V(110)织构,且是由小的柱状晶粒构成的多晶薄膜.界面一定程度的合金化,使其成为成分调制周期结构,也是它们的一个结构特征.由其铁磁共振谱计算得到较小的g因子和4πM_{e 关键词：}     

应力场对多层膜Permalloy/Cu/Co/NiO铁磁共振性质影响的理论研究

采用能量极小原理研究了Permalloy(Py)/Cu/Co/Ni O多层膜结构中层间耦合强度和应力各向异性场对薄膜共振频率的影响,得到共振频率随外磁场强度变化关系式.结果发现外应力场强度和方向对系统共振频率的影响在本文中要强于层间耦合强度和交换各向异性场,外应力场方向对光学模共振频率的影响强于声学模,而外应力场强度对声学模共振频率的影响强于光学模.     

应力场对多层膜Permalloy/Cu/Co/NiO铁磁共振性质影响的理论研究

采用能量极小原理研究了Permalloy(Py)/Cu/Co/NiO多层膜结构中层间耦合强度和应力各向异性场对薄膜共振频率的影响,得到共振频率随外磁场强度变化关系式．结果发现外应力场强度和方向对系统共振频率的影响在本文中要强于层间耦合强度和交换各向异性场．外应力场方向对光学模共振频率的影响强于声学模,而外应力场强度对声学模共振频率的影响强于光学模．     

用不同的Mo靶溅射功率制备Mo/Si多层膜

用磁控溅射法制备了周期厚度和周期数均相同的Mo/Si多层膜,用原子力显微镜和小角X射线衍射分别研究了Mo靶溅射功率不相同时,Mo/Si多层膜表面形貌和晶相的变化。随后在国家同步辐射实验室测量了Mo/Si多层膜的软X射线反射率。研究发现,随着Mo靶溅射功率的增大,Mo/Si多层膜的表面粗糙度增加,Mo的特征X射线衍射峰也增强,Mo/Si多层膜的软X射线峰值反射率先增大后减小。     

用不同的Mo靶溅射功率制备Mo/Si多层膜

 用磁控溅射法制备了周期厚度和周期数均相同的Mo/Si多层膜,用原子力显微镜和小角X射线衍射分别研究了Mo靶溅射功率不相同时,Mo/Si多层膜表面形貌和晶相的变化。随后在国家同步辐射实验室测量了Mo/Si多层膜的软X射线反射率。研究发现,随着Mo靶溅射功率的增大,Mo/Si多层膜的表面粗糙度增加,Mo的特征X射线衍射峰也增强,Mo/Si多层膜的软X射线峰值反射率先增大后减小。     

分子束外延及溅射法制备Co/Cu多层膜结构与磁电阻的比较研究

对用分子束外延（MBE）和溅射方法制备的Co/Cu多层膜样品分别进行了结构及磁性研究．X射线分析表明两者均有良好的调制周期性，并且前者形成外延单晶结构，铁磁共振研究表明了面内六次各向异性对称的存在，说明此超晶格具有完整的面内二维结构．磁电阻测量发现，溅射制备的多层膜具有较高的磁电阻值并明显地随Cu层厚度而振荡，相应的室温磁电阻峰值分别为27%，24%，14%；而MBE制备的超晶格的磁电阻较小，其第二峰的数值只有7%．MBE超晶格界面处可能具有超顺磁性，对磁电阻和磁化强度的不同的外场依赖关系有一定的影响． 关键词：     

PtMn/Co多层膜的磁光特性研究

采用磁控溅射法制备了一系列的Mn掺杂的PtMn/Co多层膜.通过测量得到的磁光常数和光学常 数,计算介电张量的对角元和非对角元,得到在掺杂较大时,克尔角的变化是由于介电张量 的非对角元引起的;在掺杂量较小时,克尔角的变化是由介电张量的对角元和非对角元以及 光学常数的变化引起的.     

Co/Ni多层膜垂直磁各向异性的研究

采用直流磁控溅射法在玻璃基片上制备了Pt底层的Co/Ni多层膜样品, 对影响样品垂直磁各向异性的各因素进行了调制, 通过样品的反常霍尔效应系统的研究了Co/Ni多层膜的垂直磁各向异性. 结果表明, 多层膜中各层的厚度及周期数对样品的反常霍尔效应和磁性有重要的影响. 通过对多层膜各个参数的调制优化, 最终获得了具有良好的垂直磁各向异性的Co/Ni多层膜最佳样品Pt(2.0)/Co(0.2)/Ni(0.4)/Co(0.2)/Pt(2.0), 经计算, 该样品的各向异性常数K_eff 达到了3.6×10⁵ J/m³, 说明样品具备良好的垂直磁各向异性. 最佳样品磁性层厚度仅为0.8 nm, 样品总厚度在5 nm以内, 可更为深入的研究其与元件的集成性.     

溅射压强对TiN/SiNx纳米多层膜微观结构及力学性能的影响

利用磁控溅射方法在不同溅射压强条件下制备了TiN/SiN_x纳米多层膜.多层膜的微观结构及力学性能分别用X射线衍射仪、原子力显微镜及纳米压痕仪来表征.结果表明随着溅射压强的增大,多层膜的界面变模糊,TiN层的择优取向由(200)晶面过渡到(111)晶面.与此同时,多层膜的表面粗糙度增大,硬度和弹性模量随溅射压强的增大而减小.多层膜力学性能的差异主要是由于薄膜的周期性结构及致密度存在差异所致. 关键词： x多层膜')" href="#">TiN/SiN_x多层膜 界面宽度 表面形貌     

FeCrB非晶合金带铁磁共振研究

本文报道用电子自旋共振谱仪所测得的FeCrB非晶合金带的铁磁共振谱,给出了谱形随温度变化的实验结果。用“独立晶粒近似”理论解释了样品中的磁相变化,并讨论了线宽△H随温度T的变化。为研究非晶合金带材料的性能提供了新的实验结果。 关键词：     

FeCrZr非晶合金带的铁磁共振研究

研究了FeCrZr非晶合金带的铁磁共振(FMR)谱及谱线随Cr含量的变化,以及谱线随温度的变化,并与FeCrB系的铁磁共振谱比较,发现用Zr替代B的结果,使非晶带的FMR谱中各共振峰的位置和强度发生了明显的变化,结合M?ssbauer谱结果,分析了Zr对Fe基非晶磁织构的影响。     

准一维有机铁磁体的磁性机理研究

对准一维有机铁磁体ｐｏｌｙ－ＢＩＰＯ体系的磁性机理进行了研究。详细考虑了该体系中的电子跳跃、电子关联及派尔斯不稳定性，自洽地计算了其能带结构和自旋密度分布，并数值地研究了各因素对系统特性的影响。结果发现该体系基态为稳定的铁磁态． 关键词：     

LaBaMnO薄膜的铁磁共振

用电子自旋共振实验研究La_0.65Ba_0.35MnO₃(LBMO)薄膜的磁性,从磁性膜的各向异性铁磁共振谱得到不同角度θ_h时的共振磁场B_r,求出样品的等效磁场B_eff及旅磁比γ,并通过样品的饱和磁化强度M_s,求出各向异性常数K.     

Co/Cr/Pd多层膜的磁性和磁光特性的研究

关键词：     

铁磁金属的表面阻抗与自旋波共振

本文计算了铁磁金属在平行磁场中的表面阻抗。计算中考虑了交换作用所引起的磁化率空间色散及趋肤效应的反常性。分别讨论了磁矩的两种边界条件m=0和(?m)/(?n)=0。同时研究了导电电子在表面散射性质的影响。利用Азбель-Канер在迴旋共振理论中的方法,计算了考虑电导率旋磁性条件下的表面阻抗。     

磁场热处理对含钴的尖晶石型铁氧体共振线宽的影响

本文在Haas-Calln所提出的,由于从一个离子到另一个离子的自旋-轨道互作用的变化而引起的铁磁子散射的机构的基础上,考虑了含少量钴的正型尖晶石型铁氧体或Fe₃O₄内,磁场热处理对铁磁共振线宽的影响。由于钴离子在八面体位上有了择优分布,对共振线宽的贡献除了各向同性的部分外,还出现了一各向导性的部分,后者是热处理时所加磁场的方向及M的方向的函数。每百分之一的钴在正型铁氧体中所导致的最大与最小的线宽间的差值约为4奥。     

钇—镧石榴石型铁氧体系统的磁性和铁磁共振的研究

本文对钇-镧石榴石型铁氧体系Y_3(1-x)La_3xFe₅O₁₂(其中x=0,0.05,0.10,O.20,0.30,0.50,0.75和1.00)的磁性和铁磁共振进行了研究。由X射线粉末照相分析和金相观察确定了石榴石转构的单相区域。测量了饱和磁矩σ_s、起始磁导率μ₀、矫顽力H_c及有效g因子g_eff和共振线宽△H(3970和9160兆赫)与La含量x的关系。由磁性和铁磁共振的测量结果表明单相区城要比由X射线分析和金相观察的结果更窄一些。讨论了不同成分的σ_s的变化,μ₀与磁化机构的关系。由g_eff与频率的关系计算出内场H_i和材料的内禀g因子。从磁的不均匀性的观点解释了实验上观测到的△H、H_i和H_c在一定成分范围内与x的指数式关系。 关键词：