孤立接触孔掩模显影工艺优化

掩模(Mask)生产过程中,孤立接触孔经过显影之后的量测值(ADI)会比设计值偏大,往往会超出线条容差值(CD Tolerance)的范围,影响掩模生产质量;主要总结了工艺生产线影响显影结果的因素,然后通过几组对比试验讨论各个参数对显影结果的影响;最后通过实验验证了通过优化各个参数值,使孤立接触孔显影之后的量测值(ADI)能够满足实际生产质量要求,可以将线条偏差值控制在CD Tolerance范围以内。     

制作聚合物光波导的铝掩模工艺

主要针对聚合物波导制备中的关键技术--刻蚀掩模,进行了系统的研究.以铝为例,利用原子力显微镜和光电子能谱,详细地分析并讨论了在聚合物表面溅射镀铝对芯层波导的影响.明确指出,溅射会在聚合物表面形成一层金属包层,从而在器件中引入额外的吸收损耗并对此进行了计算,同时给出解决的办法.最后,总结出最佳的工艺流程.     

间歇悬浮式厚胶显影工艺研究

介绍了一种间歇悬浮式厚胶显影工艺,采用该种显影工艺,对使用SU-8光刻胶进行涂胶,胶层厚度大于30μm的晶片进行显影。显影后的晶片进行电镀工艺,经过对显影后晶片上图形的观察和对电镀凸点的分析,证明该种显影工艺具有很好的效果。     

表面等离子体慢光波导传输特性分析

表面等离子体可以在亚波长尺度上实现对可见光及红外光的控制处理,对光集成的发展有巨大的推动作用。文中设计了金属—介质—金属结构的表面等离子光波导,并利用时域有限差分法对其色散特性、群速度、场强分布进行分析。结果表明在一定的频率范围内,此结构的光波导可以支持慢光模式,且群速度色散较小,可以有效控制光脉冲的畸变,保持信号的完整性。     

匀胶显影设备工艺原理、结构及常见故障分析

本文介绍了匀胶显影技术的特点及原理,在分析介绍其设备种类的基础上,概述了匀胶显影设备的基本结构,详细分析了影响匀胶显影工艺的各种因素,总结了匀胶显影设备的常见故障,并提出了各种故障的处理措施。     

基于FDTD的表面等离子体慢光波导传输特性分析

表面等离子体可以在亚波长尺度上实现对可见光及红外光的控制处理,对光集成的发展有巨大的推动作用。设计了金属一介质一金属结构的表面等离子光波导,利用时域有限差分法（FDTD）对其色散特性、群速度、场强分布进行分析。结果表明,在一定的频率范围内,此结构的光波导可以支持慢光模式,且群速度色散较小,可有效控制光脉冲的畸变,保持信号的完整性。     

基于空间光调制器的无掩模光学光刻技术研究进展

随着器件特征尺寸的不断减小,传统光刻技术的加工分辨率受限于衍射极限已接近使用化技术的理论极限且成本过高。无掩模光刻技术是解决掩模价格不断攀升而引起成本过高的一种潜在方案,以成本低、灵活性高、制作周期短的特点在微纳加工、掩模直写、小批量集成电路的制作等方面有着广泛的应用。基于空间光调制器的无掩模光学光刻技术在提高分辨率和产出率方面取得了一定的进展,理论和实验上均取得了较好的效果。详细归纳介绍了基于空间光调制器的无掩模光学光刻技术的原理、特点以及研究进展。     

不锈钢表面亚磷酸三甲脂低温等离子体聚合膜的制备和表面特性的试验研究

采用射频等离子体聚合的方法在317L型不锈钢表面形成一层亚磷酸三甲脂等离子体聚合膜。利用红外光谱法（FFtR）、扫描电镜（SEM）对该聚合膜进行了化学成分和表面形貌的分析。利用接触角测试仪分析该聚合膜的亲水性。结果发现亚磷酸三甲脂等离子体聚合膜可以明显改善不锈钢表面的亲水性。     

基于旋滤波的表面粗糙度图像预处理方法

针对光切显微镜测量材料表面粗糙度时,普通滤波算法不能将图像信号与噪声信号清楚分开这一问题,提出使用旋滤波方法对图像进行预处理,并与几种传统的滤波方法进行比较,同时讨论了滤波窗口的大小和切线方向采用的滤波方法对粗糙度测量结果的影响,得出的结论是:在光切法显微镜表面粗糙度图像的去噪滤波中,切线方向采用中值滤波的7×7窗口的旋滤波可以达到更好的效果.     

基于周期性亚波长复合单元结构的表面等离子体光开关

本文研究了包括圆环结构、内置纳米棒的空心圆结构和复合结构周期性亚波长孔阵列的增强光透射特性,并证实了在复合结构中的内置纳米棒的空心圆环境的光场局域强度能够被显著地增强。此外,通过调控入射光的偏振方向,复合结构中纳米棒和空心圆的局域表面等离子体共振响应模式会发生相互转换。另外,我们设计了一种新型紧凑无泵浦光干扰并具有双通道的表面等离子体光开关。最后,该结果为表面等离子体光子器件提供了一种新思路,并拓展了微纳结构在光学通信及信息处理领域的应用范围。     

Laser Process Proximity Correction for Improvement of Critical Dimension Linearity on a Photomask

We report on the improvement of critical dimension (CD) linearity on a photomask by applying the concept of process proximity correction to a laser lithographic process used for the fabrication of photomasks. Rule‐based laser process proximity correction (LPC) was performed using an automated optical proximity correction tool and we obtained dramatic improvement of CD linearity on a photomask. A study on model‐based LPC was executed using a two‐Gaussian kernel function and we extracted model parameters for the laser lithographic process by fitting the model‐predicted CD linearity data with measured ones. Model‐predicted bias values of isolated space (I/S), arrayed contact (A/C) and isolated contact (I/C) were in good agreement with those obtained by the nonlinear curve‐fitting method used for the rule‐based LPC.     

SU-8胶微结构的显影技术研究

突破了传统深宽比概念,提出金属基底上基于图形特征的光刻胶显影技术,对采用SU-8胶加工高分辨率和高深宽比微结构的显影工艺进行了讨论,分析了120～340μm厚具有不同图形特征的SU-8胶显影规律,认为在同样条件下,凸型图形显影效果优于凹型非连通性图形;曲线型显影效果优于直线型图形与点状图形;圆弧连接的图形显影效果优于尖角型图形。显影时辅助适当功率的超声搅拌显著改善图形质量,凸型结构最佳超声功率小于10W;凹型结构超声功率为15W左右;深宽比为5～7的凸型胶膜结构适宜显影时间为10min以内,凹型结构显影时间达25min。     

基于表面等离子体共振的光纤传感技术研究

提出一种基于棱镜型表面等离子体共振光强度调制的光纤传感新方法。基于理论模型,分析了棱镜的介电常数和介质的折射率对SPR传感器共振角的影响,在此基础上讨论了光强调制型SPR测量方法的可行性。该方法与已有的光强度调制型棱镜SPR传感方法相比具有测量方便和可长距离应用等优点。     

等离子体处理对ITO表面化学镀铜的影响

由于常规的化学镀铜层存在易剥落、不均匀、清洁度差等问题,所以提出在化学镀铜工艺之前增加等离子体处理工 序.通过改变等离子体功率、处理时间和处理距离等参数,使ITO表面获得较好的化学镀铜层.实验结果表明,处理距离越 短对减小水接触角、提高清洁度和附着力越有利;而等离子体功率和处理时间对基板表面状态的影响不是单调的.因此通...     

IP技术影响下电信网络发展的若干问题分析

因特网的成功使得IP技术被迅速推广,IP网络被广泛采用.但是,当将IP技术引入到电信网络时则出现了许多新的问题,业界对这些问题一直在进行广泛深入的研究.本文试图从不同的角度就其中的一些主要问题进行分析和探讨,同时提出自己的观点,希望能引发大家更深入的思考.     

IP化在电视转播车上的应用与发展

随着融合新媒体行业的迅猛发展,关于全IP化应用也受到越来越广泛的重视。一个大IP的背后可能代表了千亿级的超级市场,其价值随着社会发展不断发酵,为媒体行业发展带来了大量的市场热点。结合这一市场现象,介绍丽水青田电视台转播车信号传输系统的具体应用特点和面临的现实问题,阐述了IP化在电视转播车上的未来发展。     

基于Linux的IP广播程序的改进实现

根据前人提出的各种改进思想,分析了自适应窗口方式的优点,并在Linux平台下实现了IP广播的进,对在此方式下接收的MPEG2图象质量进行了分析。     

中国联通IP电话业务发展展望

本文全面介绍了中国联通开展ＩＰ电话业务的现状，并对中国联通未来ＩＰ电话业务的定位及发展策略，提出了作者自己的见解。     

对IP电话发展若干问题的思考

从标准的选用、网络结构的变化和话机终端的变化3个方面对IP电话的发展进行了展望。