300 mm立式炉温度控制系统研制

针对300mm立式炉设备,设计、实现了一套温度控制硬件系统。硬件系统由信号采集模块、PLC模块、工控机、控制信号输出模块等组成。同时,根据工艺特性,设计了一套完整的温度控制软件系统,实现了热偶信号的采集补偿、自动温区分布、PID参数自整定、轨迹规划、斜变升温、工艺恒温等一系列系统功能。温度控制及工艺实验结果表明,该温度控制系统在可靠性、稳定性、精度等方面能够满足氧化工艺的需求,现已成功应用于300mm立式氧化炉设备。     

在S7—300中利用模糊控制算法实现恒温控制

介绍了S7-300采用模糊控制来进行恒温控制及其软件实现，也介绍了S7-300的硬件构成。     

基于S7-300PLC的商场恒温控制系统设计

介绍了基于S7-300PLC的商场恒温控制系统。为给顾客提供舒适的购物环境,需要将商场温度控制在合适的范围,该系统运用了计算机监控、智能传感器、可编程控制器、工业现场总线、光纤通信等技术,实现了系统的自动控制,提高了系统经济效益。     

基于Modbus协议的立式炉电力监测系统

针对300 mm立式炉设备电力安全性、可靠性的需要,设计、实现了一套立式炉电力监测系统。基于Modbus协议,该系统实现上位机实时获取并保存立式炉设备上各段温区的电力数据。保存的电力数据不仅可用于设备的故障诊断,还可用于分析炉体加热器在各温度点上的电学特性。该系统已应用于实际的立式炉设备电力监测。实际效果表明,该系统具有运行可靠、扩展性好、使用方便的特点。     

基于GPS的恒温晶振频率校准系统的设计与实现

针对目前广泛对高精度频率源的需求,利用FPGA设计一种恒温晶振频率校准系统。系统以GPS接收机提供的秒脉冲信号为基准源,通过结合高精度恒温晶振短期稳定度高与GPS长期稳定特性好、跟踪保持特性强的优点,设计数字锁相环调控恒温晶振的频率。详细阐述系统的设计原理及方法,测试结果表明,恒温晶振的频率可快速被校准到10 MHz,频率偏差小于0.01 Hz,具有良好的长期稳定性,适合在多领域中作为时间频率的标准。     

差分吸收光谱测量中LED光源恒温控制的实现

提出了一种差分光学吸收光谱（DOAS）测量中LED光源的恒温控制方法。采用半导体制冷片作为控温元件来控制LED温度,应用PID算法动态调节半导体制冷片的工作电流,实现了DOAS测量过程中LED光源的温度恒定。介绍了恒温控制系统的硬件设计和软件流程,并对控温效果和LED谱的稳定性进行了测试。测试结果表明,提出的恒温控制方法能有效克服环境温度变化对LED光源温度的影响,温度控制精度达到了±0.1℃。在相同的测试条件下与无恒温相比,具有恒温功能的LED光源剩余噪声明显偏低,进一步验证了设计方案的可行性。     

在S7-300中利用模糊控制算法实现恒温控制

介绍了S7- 30 0采用模糊控制来进行恒温控制及其软件实现。也介绍了S7- 30 0的硬件构成     

恒温水箱电控系统电路设计

本次设计以恒温水箱控制的思路为题,设计中采用经典的51系列单片机,配以DS18B20数字温度传感器,该温度传感器可通过键盘接口设置温度的高低值。     

基于单片机的恒温水龙头设计

介绍了基于单片机的恒温水龙头的设计方法.针对传统冷热双联式水龙头手动调节水温,不能实现出水温度的精确控制等缺点,将单片机作为智能控制器应用于水龙头中.利用单片机检测DS18820采集到的水温,经过分析计算可控制冷热水入水比例,通过循环水系统将混水过程中未达温度的水重新注入加热装置的入水口,实现重复利用.该系统实现了双联式水龙头的精确调温,保证恒温用水的同时实现了高效节水,适用于各种恒温用水的场合,具有较高的应用价值.     

300 mm快速升降温炉体的研究

介绍了一种快速升降温炉体的研制。由于传统的炉体升温响应较慢,升温耗时耗能,与之相比的快速升降温炉体,在升温性能方面,实现了升温响应快、抑制超调效果好。在降温方面,传统炉体只能依靠自然降温,平均降温速率3~4℃/min,增加了晶圆的工艺时间,增大了设备工艺气体、水、电等资源的消耗,而具有快速降温能力的炉体,很好地克服了传统炉体自然降温方面的不利。在新近研制的300 mm立式氧化设备中,实现了30℃/min的升温速率和15℃/min的降温速率,大大缩短了晶圆的工艺时间,保证了晶圆的成膜质量。     

适用于Φ200mm硅片工艺的立式扩散/氧化炉设计

简要介绍适用于200mm硅片工艺的立式扩散?氧化炉的几个关键部分的设计要点和控制方法,重点对炉温和颗粒控制方面进行较详细的论述。     

密封舱温湿度测控系统的设计与实现

针对地面生命保障系统密封舱试验系统内温湿度环境控制的需要,研究与设计了一种采用Agilent VEE虚拟仪器技术和PLC技术相结合的温湿度测控系统。该系统通过PLC软件实时地进行温湿度值的设定和修改并完成温湿度的控制任务,同时将PLC采集到的温湿度信号通过串口完成与PC机的通信,通过Agilent VEE软件实现温湿度信号的存储、显示和打印,完成温湿度的测量。实验结果表明,该系统具有良好的实用性和可靠性。     

基于S7—300PLC的大型电弧炉控制系统

针对电弧炉的非线性、大滞后、强耦合、时变及随机干扰较强的特点,应用自适应控制理论,采用可编程逻辑控制器(PLC)为核心控制部件,实现电弧炉电极升降的自动准确控制,有效减少电极短路、断弧和振荡现象.在此给出控制方案、系统主要硬件及软件流程图.该系统已可靠运行于某炼钢厂,并实现了降低电炉电耗,提高产品质量的目的.     

基于Siemens PLC的烧结炉温度控制系统设计

烧结炉是硬质合金加工生产过程中重要的生产设备,也是一个时变、非线性和较大滞后的系统.本文针对某硬质合金厂的技术改造,设计了一套烧结炉的温度控制系统,本系统以Siemens PLC为基础,采用Fuzzy和PID混合控制的方式实现.运行实践表明,温度误差在允许的范围内,系统运行稳定.     

炉管制程工艺中的片数效应及其优化方案

随着半导体技术的发展,越来越多的立式炉管在200mm及300mm集成电路晶圆制造中被应用到。同时炉管制程中的片数效应随着集成电路芯片的集成度越来越高而被凸显出来。文章将以LPCVD氮化硅在0.16μm、64M堆叠式内存制造过程中的片数效应为例,阐述炉管制程工艺中的片数效应以及通过调整制程参数（温度、沉积时间）的方式予以解决的实例。文中通过调整炉管上中下的温度来补偿气体的分布不均匀,调整沉积时间来补偿不同片数的沉积速率的差异,两者结合并辅以基于片数的分片程式来解氮化硅电介质沉积的片数效应。同时以此为基础总结出炉管片数效应的解决方案。     

真空自耗电弧炉控制系统设计及实现

采用集散控制方法设计了真空自耗电弧炉的控制系统;使用Simens工业网络通信技术及S7—300可编程控制器、直流调速器,并结合现场变送器实现了真空自耗电弧炉整个生产过程的自动化控制;完成了钛及钛合金铸锭熔炼过程的工艺管理、现场监控、报警显示等功能。     

PLC在炉温控制系统中的应用

加热是冶炼过程中必不可少的重要环节,加热好坏直接影响着钢材的质量和生产成本,所以有一个良好的炉温控制系统至关重要。文中设计了一种基于PLC的炉温控制系统,该系统通过控制空燃比来达到对炉内煤气的充分燃烧,控制温度、减少污染、控制成本。