射频等离子体增强化学气相沉积SiNx薄膜的研究

采用射频等离子体增强化学气相沉积技术,以N2和SiH4作为反应气体,在P型硅基片上进行SiNx薄膜的沉积.使用椭偏仪对薄膜厚度和光学常量进行了测量, 用傅里叶变换红外光谱仪对SiNx薄膜的化学键合结构进行了分析.研究了基片温度、射频功率以及N2和SiH4的气体流量比率等实验工艺参量对薄膜沉积速率和光学常量的影响.结果表明,射频等离子体增强化学气相沉积技术沉积的SiNx薄膜是低含氢量的SiNx薄膜,折射率在1.65~2.15之间,消光系数k在0.2~0.007之间,当SiNx薄膜为富氮时k≤0.01,最高沉积速率高达6.0 nm/min,N2和SiH4气体流量比率等于10是富硅和富氮SiNx薄膜的分界点.     

射频等离子体辅助化学气相沉积方法生长碳纳米洋葱

用射频等离子体辅助化学气相沉积方法生长碳纳米洋葱.电子显微镜观察表明,产物中无碳纳米管等伴随生成,因而制得了较高产率、较高纯度的纳米洋葱.尤其是Co-SiO₂催化剂生长的碳纳米洋葱,实心、光滑,且内无催化剂颗粒,其外层由未闭合的、呈波浪状的石墨片构成,显示出与众不同的微观结构和性能.提出了该方法中碳纳米洋葱的生长机理为碳笼由里向外嵌套形成球形粒子.对波浪状、非闭合结构的形成过程进行了讨论. 关键词： 射频等离子体 化学气相沉积 碳纳米洋葱     

射频等离子沉积聚硅氧烷薄膜的XPS研究

用CVD方法在一台射频放电等离子体聚合实验装置内成功地制备了沉积聚酯薄膜基底有机聚硅氧烷薄膜。该薄膜在有原子氧模拟实验装置内具有抗原子氧剥蚀的良好性能,对航天器等材料表面起到防护作用,有机聚硅氧烷薄膜与等离子体沉积时氧的泄露量有关,且沉积密度经AFM检测有较大的差异,并用XPS较详细考察了不同工艺制备的聚硅氧烷官能团构成和表面状态,以期得到优良的防剥蚀膜。     

管式等离子体化学气相沉积质量转换动力过程的研究

本文对管式装置中等离子体化学气相沉积过程提出了一种数学描述方式,具体讨论了沉积过程中活性粒子产生频率、沉积速率和沉积效率等与电子密度、气体流速、气体压强等的相互关系,并对部分结果进行了理论解释。 关键词：     

基于傅立叶变换的射频场分布测量方法

提出了一种基于傅立叶变换的射频场分布测量方法，该方法可以方便地测量出射频场的分布，其测量结果与样品的均匀度无关并且可以分别观测某个像素点处的层内射频场非均匀性或某个小区域内的射频场非均匀性.     

热丝和射频等离子体化学气相沉积法制备定向碳纳米管薄膜

采用热丝和射频等离子体复合化学气相沉积设备(PE-HF-CVD),以CH4、H2和N2为反应气体.在较低衬底温度下(500℃),用简单的催化剂制备方法--旋涂法在硅片上涂覆Ni(NO3)2溶液,经热处理及H2还原后的Ni颗粒为催化剂,在硅衬底上制备出了垂直于硅片且定向生长的碳纳米管薄膜.扫描电子显微镜(SEM)和透射电子显微镜(TEM)结果显示,1 mol/l的硝酸镍溶液旋涂硅片所得催化剂制得的碳纳米管管径为30～50 nm,长度超过4μm,定向性好.并用拉曼光谱(Raman)对不同摩尔浓度Ni(NO3)2溶液条件下制备的碳纳米管薄膜样品进行了表征.     

重离子注入生物和药物分子的质量沉积研究技术

介绍了我国在重离子束生物学这门新兴交叉学科领域已经取得的一系列领先成果 ,首次提出了重离子束生物效应系能量沉积、质量沉积、电荷交换和动量传递四者综合作用的结果 .过去的研究已初步证实了重离子注入生物和药物小分子所引起的质量沉积过程 ,并在此基础上开展了重离子注入生物和药物分子改性的研究 .将来可先应用稳定性和放射性重离子束注入生物和药物分子 ,然后用X射线衍射、电子显微镜放射自显影和图像处理等技术对重离子注入质量沉积开展进一步的研究. Heavy ion beam biology is a jumped up scientific subdivision. China acquired a series of prior achievements and for the first time brought forward the idea that heavy ion biological effects are the integrated results of the four effects, i. e. energy deposition, mass deposition, charge exchange and momentum transfer. Researchers have validated the mass deposition process in small biomolecules and pharmic molecules induced by heavy ion implantation, and researches on modification of...     

液幕式吸收塔中传质模型研究

对液幕式吸收塔脱硫性能进行了实验研究,研究了烟气流量、循环浆液量、浆液浓度,喷嘴阵列形式等参数对脱硫性能的影响,合理选择装置结构和运行参数时,脱硫效率可达90%以上;提出了液幕式吸收塔中当量传质面积的计算方法,建立了液幕式吸收塔的传质模型,得到了液幕式吸收塔的传质系数关于气相和液相雷诺数及喷嘴阵列的经验关系式。     

多孔圆肋传热传质分析

多孔肋片传热传质过程在自然界中广泛存在,本文对水在多孔圆肋中流动产生的传热传质现象进行了研究,建立了相应的物理数学模型,通过数值计算获得肋片内水的温度和流量分布,以及水沿肋长方向蒸发率的变化。讨论了外界空气温度对多孔肋片中水的流量和蒸发率的影响,并对孔隙率、长径比等因素对肋片传热传质效率的作用进行了分析．     

轴流风机转子通道内尖区三维流场

1引言高性能叶轮机研制的困难在于对其内部尤其是转子内以三维旋涡流动、湍流和非定常流为特征的复杂流动缺乏深入的了解和预估。利用热丝热膜、压力探针测量转子通道内流场需要有复杂的旋转位移机构和信号传输系统，文献[1]、文献[2]等利用旋转探针技术获得了反映压气机转子内三维流动的很宝贵的实验数据。激光多普勒测速技术（LDV）以测量的非接触式和动态的本质，能在不干扰流场的情况下，在固定参考系测量旋转部件中的流动。自从LDV成功地用于测量压气机转子内的流动以来[3]，这项技术近年来有了长足的进步[4]。文献[5]用一台一维、…     

在Skyrme模型中关于解析质量计算的研究

本文用Reduce语言^[1]研究了Skyrme模型^[2、3、4]中孤立子质量的计算方法。上机计算结果表明,矩阵方法和具体展开方法比一般算符表达式更为优越。     

贴壁风对脱硫反应器内液滴粘壁的影响

反应器内液滴粘壁对半干法烟气脱硫效率和运行稳定性具有重要影响.本文采用数值方法研究了不同贴壁风风速和风口高度对反应器内液滴粘壁现象的影响规律.结果表明,贴壁风对减轻液滴粘壁具有一定作用.贴壁风风速越高,液滴贴壁数量越少.贴壁风衰减较快,其风口高度存在最佳值,贴壁风风口与液滴喷射口的高度距离是按照液滴直线运动粘壁时液滴高度行程的1.2倍.     

多级轴流压气机内的流动机理研究

本文对某多级轴流压气机的两级内部流场进行了CFD数值模拟,通过计算结果和通流计算值对比,分析了多级轴流压气机的级间匹配特性,说明该两级压气机的总体匹配特性是合理的.但是,在两端壁附近也存在一些差异.通过对其内部流场的剖析发现,第11级静叶的吸力面两端和第12级动叶吸力面根部均存在一定程度的分离,文中解释了存在分离原因以及分离对压气机匹配特性的不利影响.     

科里奥利质量流量计灵敏度的理论分析

文章作者出于简化推导目的，特为U形管结构的科里奥利质量流量计算提出了一个等质量的П形管模型，并运用科里奥利力的原理对该模型所产生的陀螺运动（振动中摆动）进行图解，结合悬臂梁的弹性形变理论最终得到了关键参数和灵敏度的定量计算公式，其结果获得了国内外同类产品的实例测试验证。     

AN APPROXIMATION OF THE KINETIC ENERGY OF A SUPERFLUID FILM ON A RIEMANN SURFACE

The flow of a superfluid film adsorbed on a porous medium can be modeled by a meromorphic differential on a Riemann surface of high genus. In this paper, we define the mixed Hodge metric of meromorphic differentials on a Riemann surface and justify using this metric to approximate the kinetic energy of a superfluid film flowing on a porous surface.     

射频溅射沉积硅薄膜实验

本文描述采用射频溅射法在GH39不锈钢基体上沉积硅薄膜的实验。对直接溅射沉积硅薄膜的工艺进行了实验研究,并对硅膜进行了SIMS分析。用称重法测出无定形硅膜的最大厚度可达400—500nm,为HL-1装置等离子体边界层物理实验制作了所需的无定形硅膜收集探针。