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全息介质的处理技术和工艺研究是全息测试技术的关键环节,美国LANL实验室在进行Holog次临界试验时曾因散射光使记录介质严重过曝而未能获取相关信息。通过对BB-520型全息记录介质的曝光、显影、定影、水洗等工艺过程的处理液配方、处理环境、处理温度、处理时间等的研究,提出全息记录介质的处理方法。曝光量和显影时间、显影温度是相互关联的3个量,在一定范围内曝光量饱和不足时,可以通过调节显影时间和显影温度两个参数来补偿。 相似文献
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低陡度光刻胶光栅槽形研究 总被引:3,自引:0,他引:3
为控制全息光刻胶光栅槽形,从研究显影时间、显影液温度等对光刻胶特性曲线的影响出发,采用计算机模拟和实验方法,制作出底部占宽比30%左右,陡度65°左右的低陡度光刻胶光栅掩模.研究发现:启动曝光量随显影时间的延长而减小,光刻胶特性曲线线性部分的斜率随着显影时间的增加而增加;显影液温度高的光刻胶启动曝光量大,其特性曲线线性部分的斜率也较大.这决定了制作低陡度光刻胶光栅掩模需要使用非1∶1的干涉曝光,以及必须采用较低温度的显影液进行显影处理.最终选用1∶7的干涉曝光和15℃的显影液. 相似文献
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光热折变体光栅是在光敏玻璃材料中利用光热折变效应记录的折射率型体全息光栅,具有波长和角度选择性好、衍射效率高、热稳定性好和抗损伤阈值高等特点,在激光器技术领域中具有独特的优势。在自行制备的光敏玻璃材料中,用325nm波长的紫外光曝光记录透射型体全息光栅,基于变波长读出的原理设计实验,对热显影后的光热折变体光栅在532nm波长的激光照射下的衍射读出特性以及其在恒定光功率密度的激光照射下的稳定性进行了实验研究。研究结果表明,热显影后的光热折变体光栅在激光辐照下具有光致饱和效应。根据实验结果定量计算出了光热折变体光栅的选择角和描述光致饱和效应的特征时间常数。 相似文献
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《光学学报》2010,(1)
两束记录光非对称入射必然造成光刻胶中潜像光栅"沟槽"的倾斜,进而影响显影后光栅沟槽的形状。特别是在凹面全息光栅的制作中,两束记录光一般都是非对称入射。为了能够从理论上分析并指导非对称全息光栅的制作,建立了非对称曝光、显影理论模型,重点分析了两束记录光从光栅表面一侧照射的情况。运用此模型模拟了光栅沟槽的形成过程,计算了全息光栅制作中非对称曝光、显影的实时监测曲线。理论计算显示,非对称曝光下,曝光实时监测曲线和显影实时监测曲线变化趋势与对称曝光时相同,只是衍射效率值不同,这与实验结果吻合;数值模拟光栅沟槽的演化发现,非线性效应特别显著时得到的沟槽为倾斜矩形,非线性效应比较显著时得到的沟槽为非对称梯形,非线性效应受到抑制时得到的沟槽为非对称性不明显的正弦形,这与实验结果一致。该模型能够有效地指导全息光栅掩模的制作,有助于为离子束刻蚀工艺提供所需的合格掩模。 相似文献
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从傅立叶变换全息的基本理论出发,分析了傅立叶变换全息图的产生条件。用小型全息设备制作傅立叶变换全息图,对实验中光路调整、显影、再现等问题进行比较分析,优化拍摄,最终得到较满意的实验效果。 相似文献
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叙述了全息光学元件在全息激光防护镜、全息夜视镜、全息平视显视仪、全息头盔显示器、尚处于研制阶段的全息瞄准具及制导导弹系统的全息校正片和全息变焦透镜上的应用,说明了全息术在军事上有着广泛的用途(如军事目标模拟识别、军事训练、声波全息和全息雷达等),最后提出在制作全息片中存在的问题。 相似文献
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为了在光栅制作中对光栅掩模占宽比及槽深加以控制,结合光刻胶在显影过程中的非线性特性,建立了光栅掩模槽形演化的数学模型,由此分析和模拟曝光量、条纹对比度对光栅槽形的影响。结果表明:在显影条件确定时,光栅掩模占宽比随光刻胶曝光量的增大而减小,条纹对比度减小,则不仅使光栅占宽比减小,同时也是使光栅槽深减小的主要原因,这样做的前提是预先通过实验和计算确定出一个曝光量上限Ec。该方法能够反映光栅掩模形状的演化规律,为全息光栅参数预测和工艺控制提供依据。 相似文献
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