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亚表面缺陷是造成固体激光器光学器件损伤阈值过低的重要原因,而表面划痕是缺陷中重要的一种。使用时域有限差分方法(FDTD)模拟了熔石英表面圆柱形、三角形划痕对激光电磁场的调制作用,绘出了2维电磁场强度分布图,计算出划痕尺寸不同时电磁场的最大强度。数值计算结果表明,尺寸为二倍波长的划痕可以获得最大的电磁场强度,此时容易导致自聚焦;亚波长级和足够大尺寸的划痕作用基本可以忽略。一定尺寸的划痕,深度越大,最大场强也越大,但当划痕过深时最大场强反而会降低。 相似文献
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采用时域有限差分方法(FDTD)进行元件表面微结构电磁场分布的数值模拟;同时实验分析了化学湿法刻蚀对光学元件表面面形及粗糙度、激光损伤阈值等的影响。 相似文献
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光学元件的损伤问题已成为高功率固体激光装置研制的核心问题,而紫外的损伤尤为严重。光学元件的激光损伤与能吸收能量的多种缺陷有关,例如:表面污染、表面擦伤和材料本体的缺陷(气泡或所含杂质)等。研究工作拟从光学元件的亚表面损伤人手,探测不同的光学制造工艺造成的特征亚表面缺陷,研究这些缺陷对激光损伤研制的影响。建立亚表面缺陷化学后处理装置,减少或消除亚表面缺陷所引起激光损伤的程度,为光学元件制造工艺选型提供必要的依据。 相似文献
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激光辐照光学材料时,经后表面反射的部分光束与入射光束干涉,在材料内部形成驻波场.若材料表面存在缺陷,缺陷会对入射光进行调制,导致材料内驻波场分布不再均匀,局部区域光强增大.为分析光学材料的场损伤特性,建立了一个划痕缺陷影响下的光学材料损伤分析模型.从电子增值理论出发,分析了划痕数量及其所在位置对材料驻波场和损伤特性的影响,并针对熔融石英材料进行了具体计算.结果表明,在入射光场不变的前提下,随着划痕数量增加,对光场的调制作用增强,材料内部驻波场的最大场强增大,熔融石英损伤阈值降低.相对亚表面和后表面划痕缺陷而言,材料上表面的缺陷对光场具有最大的调制作用,因此更容易导致材料损伤. 相似文献
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针对光学元件的亚表面缺陷,结合基于激光共焦层析的亚表层检测方法,建立聚焦光束在亚表面损伤介质中的传输模型,并采用有限元分析方法,仿真研究K9玻璃光学元件亚表层缺陷对聚焦光束的散射调制特性,特别对颗粒状和微裂纹两类特殊缺陷的光学调制特性进行研究和分析,探索了波长、缺陷大小、缺陷折射率及缺陷方向对聚焦光束散射特性的影响规律,通过分析包含亚表面损伤缺陷信息的光场分布图和强度变化曲线,获得了亚表面损伤缺陷的信息,并对其进行评价。 相似文献
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微/纳米尺度亚表面缺陷会降低光学元件等透明样品的物理特性,严重影响光学及半导体领域加工制造技术的发展。为了快速、无损检测透明样品亚表面缺陷,本文针对光学元件亚表面内微米量级缺陷的检测需求,提出了一种基于过焦扫描光学显微镜(TSOM)的检测方法。利用可见光光源显微镜和精密位移台,沿光轴对亚表面缺陷进行扫描,得到亚表面缺陷的一系列光学图像。将采集到的图像按照空间位置进行堆叠,生成TSOM图像。通过获得所测特征的最大灰度值来获得亚表面缺陷的定位信息。提出方法对2000μm深亚表面缺陷的定位相对标准差达到0.12%。该研究为透明样品亚表面缺陷检测及其深度定位提供了一种新方法。 相似文献
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光学元件被污染和亚表面存在的缺陷将使它的性质受损。即使是微小尺寸的缺陷(小于φ1μm)也会引起激光损伤。国外研究表明,光学元件在其制造过程中形成的亚表面缺陷是导致紫外损伤的主要根源之一。光学元件的损伤问题已成为高功率固体激光装置研制的核心问题,而紫外的损伤尤为严重。 相似文献
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基于非均匀膜理论提出一种存在微缺陷的介质基底的折射率分层模型,将基底依次分为表面层、亚表面层和体材料层,其中表面层和亚面层分别等效为折射率服从统计分布的非均匀膜,将它们分别再次细分为N1和N2个子层,每一子层均视为均匀介质 膜.应用光学薄膜特征矩阵法对其进行理论分析,并对单层介质膜的光学性能进行数值计算. 研究结果表明:基底的表面和亚表面微缺陷改变了薄膜和基底的等效折射率,导致了准Brew ster角和组合反射率与理想情形的偏离.同时这些微缺陷也改变了光在薄膜和基底中的传播 特性,因此反射相移和相位差均偏离理想情形.在研究基底的微缺陷对多层介质膜光学性能 影响的分析和计算时,该模型同样适用.
关键词:
微缺陷
介质薄膜
非均匀膜
光学性能 相似文献
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