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高精度高效率的预对准系统是现代集成电路(IC)生产中实现晶圆自动传输的重要部件。介绍了预对准台的大致设计结构,分析了目前常见的找心算法以及存在的问题,进而提出新的找圆心算法。之后针对带切边晶圆片的切边方向定位算法进行了分析归纳,总结出完整的切边定位算法。 相似文献
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晶片传输系统中切边探测和预对准技术 总被引:4,自引:0,他引:4
杨兴平 《电子工业专用设备》2003,32(1):43-47
介绍投影光刻机设备的晶片传输系统中切边探测和晶片预对准技术。 相似文献
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分析了硅片预对准设备的工作原理、流程及计算方法,并在实验数据的基础上详细讨论了各种方法的优缺点。 相似文献
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介绍了双面光刻对准原理及技术新发展,表明了不变焦对准的技术优势.针对玻璃基片设计了十字加方框的对准图样,经重新调焦,利用基片透明属性透过基片标记观测掩模标记实现对准,不再采用静态存储的掩模数字图像作为精对准基准,规避了可能由物镜侧移带来的对准误差.最后提供了几种常用的对准标记图样,并为了加工操作的便利引入了辅助搜索线. 相似文献
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军用激光系统对准误差推导 总被引:2,自引:0,他引:2
推导了激光指示器和激光测距机等包含激光的通用光电系统的对准误差公式.从使用方法和军事应用的角度,推导出了不同的结果,在大多数实际情况下,具有较高的准确性和可靠性。 相似文献
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双面对准曝光中关键技术研究 总被引:2,自引:0,他引:2
王志越 《电子工业专用设备》2000,29(3):13-18,29
对双面曝光技术中的对准方式、曝光光源系统、对准工作台等关键技术进行了研究 ,并通过多年工作实践经验 ,对对准工作台的精度分析作了论述。 相似文献
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几种双面对准原理的分析与比较 总被引:3,自引:0,他引:3
高仰月 《电子工业专用设备》2000,29(4):35-38
根据国内外双面对准曝光机中双面对准曝光技术及工艺的发展 ,系统地对目前国内外典型的几种双面对准原理进行了比较与分析。 相似文献
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本文介绍毫米波基片的高精度制作技术,重点涉及精确传输线的高精度制作方法。该方法突破了传统掩膜版光刻制作精细线路的瓶颈,得到了合格的产品。 相似文献
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在复杂系统中各个独立子功能模块常常需要精确系统时间同步来完成系统功能,描述了目前不同领域中存在的几种高精度时间对准系统,分析其中优缺点,并提出了一种基于复杂可编程逻辑器件(CPLD)的高精度时间对准系统,用低廉的成本,实现了较高精度的时间对准。 相似文献
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介绍一种显像管内磁偏转线圈在屏上形成的矩形光栅与矩形屏对准的新方法。该方法主要特点是利用管内磁偏转线圈产生的磁场进行水平扫描作为基本标准。根据此标准在磁偏转线圈组件上作出标志,然后利用模具将该标志与电子枪中三个电子束排列方向进行对准。制成电子枪偏转组件为一体的装置。在封口前利用管颈二侧的屏的平分线的标志线使该装置与屏对准。该方法简单可行。 相似文献
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基于一般的紧支撑尺度函数,本文设计了一咎单参数且具有良好逼近性能的新的自适应FIR预滤波器,分析和模拟结果与表明这种预波滤算法具有较高的逼近精度和较快的逼近速度。 相似文献
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本文提出了一种新型波导-基片集成波导转换器的设计方案。矩形波导中的电场通过该对极鳍线转换器后在基片集成波导中传输。该转换器的优点是:结构形式简单,长度短,带宽较宽。利用HFSS 仿真对过渡段结构进行了优化, 30G到40G 的频率范围内,插入损耗小于0.13dB,回波损耗优于20dB。背靠背插入损耗小于0.22dB,回波损耗优于20dB,相对带宽大于25%。 相似文献
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设计了用于半导体先进封装光刻设备中的高精度机器视觉对准测量系统,明确了机器视觉对准测量系统工作原理、设计指标及系统设计中需要考虑的关键技术点,同时给出了机器视觉对准测量系统关键零部件的设计,并给出了对准测量系统最终在整机上测得的性能数据。测试结果表明,所设计的机器视觉对准测量系统完全可以满足集成电路先进封装工艺需求。 相似文献
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提出了一种紧缩结构的新型毫米波基片集成波导(SIW)滤波器,在结构紧缩的同时性能得到了显著改善.在设计的一组SIW毫米波滤波器中,长度从传统滤波器的23.1mm压缩到新型滤波器的12mm.测试结果显示新型滤波器阻带衰减大于54dB,相对于性能相近的传统SIW滤波器改善12dB以上.具有超过50dB衰减的阻带宽度超过9GHz.上边带过渡特性更陡,同时仍保持了传统SIW滤波器所具有的陡峭下边带特性和低损耗特性. 相似文献