样品表面污染对X射线光电子能谱定量分析的影响

用X射线光电子能谱(XPS)研究了表面碳污染物对样品的元素相对定量误差的影响。结果表明,样品表面含有碳污染物能引起光电子动能较低的元素的相对定量分析结果偏低,而且样品中两种元素的光电子动能差越大,相对误差越大。在用元素灵敏因子法进行XPS定量分析时,样品表面污染是不可忽略的误差来源。     

X射线光电子能谱研究低温氧等离子体对棉纤维表面改性

本文叙述了用X射线光电子能谱(XPS)表征棉纤维的表面特性,比较了不同方法处理的棉纤维的表面改性。还讨论了等离子体对棉纤维的润湿性和脱脂作用机理。实验表明:刻蚀、氧化、分裂和接枝含氧基团是低温氧等离子体对棉纤维表面的主要作用。     

X射线光电子能谱在材料研究中的应用

X射线光电子能谱(XPS)在材料科学与工程的许多领域中有着广泛的用途.本文将讨论XPS在材料研究的三个方面的应用,即材料表面改性、固体-固体界面体系及材料与环境的相互作用.我们将引用一些具体的例子来说明XPS的应用价值及其研究方法.所讨论的例子将涉及聚合物和氧化物材料的表面改性、化学及物理气相淀积、粘接界面断裂机制、腐蚀及摩擦等领域.     

用X—射线光电子能谱对钇的配位化合物价态的研究

二价的配合物3p能级分裂间距大于三价Y的化合物,二价Y的4s多重分裂也是鉴别Y的价态指纹。     

MAPLE膜的制备及其X射线光电子能谱研究

MAPLE（matrix—assisted pulsed laser evaporation）技术是近年来发展起来的一门有机薄膜制备技术,与传统的有机薄膜制备技术相比,具有优越的技术特点．在非线性光学材料、发光器件、电磁材料和各种传感器方面都有着广泛的应用前景．利用MAPLE技术成功制备了聚酰亚胺薄膜,并利用X射线光电子能谱对其表面进行了分析．光电子能谱结果显示,在低激光能量密度时,单光子效应明显,化学键断裂,发生分解,不利于薄膜的制备．而在高激光能量密度时,单光子效应降低,多光子效应和光热效应增强,聚酰亚胺的结构得到保护,分解明显减弱．     

表面硅烷化铜箔的电化学腐蚀与防护研究

用γ-氨丙基三甲氧基硅烷(γ-APS)溶液对铜箔表面硅烷化处理,采用动电位极化和电化学交流阻抗研究不同pH的γ-氨丙基三甲氧基硅烷溶液自组装铜箔电极在0.1 mol.L^-1NaCl溶液的腐蚀防护效果,采用扫描电子显微镜观察γ-氨丙基三甲氧基硅烷自组装膜的表面形貌.结果表明,γ-氨丙基三甲氧基硅烷自组装铜箔有较好的腐蚀防护效果,其中pH=7的γ-氨丙基三甲氧基硅烷溶液自组装膜的抗腐蚀效果最佳.     

含氧酸盐热反应法制备Y-Ba-Cu-O系超导膜的X射线光电子能谱(XPS)研究

用X射线光电子能谱(XPS)法研究了在基体ZrO上以含氧酸盐热反应法制得的YBaCuO超导膜的表面状态、组成及各成分元素的结合能,特别是Ar~+刻蚀前后膜表面组成和状态的变化,并与另一条件下制得的Y_2BaCuO_5非超导膜作了比较。探讨了Ar~-刻蚀前后,超导膜表面状态和组成变化的原因。确定了YBa_2Cu0超导膜中各成分元素的结合能:Y=156.3eV;Ba=778.5eV;Cu=933.5eV和Os=528·3eV,529.4eV。结果还表明:超导膜表面容易受H_2O和CO的侵蚀,生成BaCO。     

砷化镓半导体表面自然氧化层的X射线光电子能谱分析

用X射线光电子能谱(XPS)，测量了Ga3d和As3d光电子峰的结合能值，指认了砷化镓(GaAs)晶片表面的氧化物组成，计算了表面氧化层的厚度，定量分析了表面的化学组成；比较了几种不同的砷化镓晶片表面的差异。结果表明：砷化镓表面的自然氧化层主要由Ga2O3、As2O5、As2O3和单质As组成，表面镓砷比明显偏离理想的化学计量比，而且，氧化层的厚度随镓砷比的增大而增加；溶液处理后，砷化镓表面得到了改善。讨论了可能的机理。     

木材表面改性的XPS分析

利用微波等离子体对木材表面进行处理，并诱导引发接枝甲基丙烯酸甲酯；达到表面改性的效果以提高木质材料的性能，利用X射线光电子能谱(XPS)对木材表面改性前后的表面化学结构进行分析；结果表明：木材经微波等离子体处理，表面氧与碳的原子浓度比(no／nc)增加，产生大量的含氧官能团或过氧化物，从而引发木材与甲基丙烯甲酯单体产生接枝共聚反应。     

一些钼络合物的X光电子能谱

本文研究了一些钼络合物的X光电子能谱,测定了钼3d电子的结合能(E_b),并讨论了钼的氧化态和桥连原子对此的影响。     

Surface and Interface Chemistry in Colloidal Quantum Dots for Solar Applications Studied by X‐Ray Photoelectron Spectroscopy

Control of the surface and interface chemistry of colloidal quantum dots (CQDs) is critical to achieving a product with good air stability and high performing optoelectronic devices. Through various surface passivation treatments, vast improvements have been made in fields such as CQD photovoltaics; however devices have not currently reached commercial standards. We show how X‐ray photoelectron spectroscopy (XPS) can provide a better understanding of exactly how surface treatments act on CQD surfaces, and the effect of surface composition on air stability and device performance.. We illustrate this with PbS‐based CQDs, using XPS to measure oxidation processes, and to quantify the composition of the topmost surface layer after different surface treatments. We also demonstrate the use of synchrotron radiation‐excited depth‐profiling XPS, a powerful technique for determining the surface composition, chemistry and structure of CQDs. This review describes our recent progress in characterization of CQD surfaces using SR‐excited depth profiling XPS and other photoemission techniques.     

双梳型共聚物在莠去津颗粒表面吸附的X射线光电子能谱分析

采用X射线光电子能谱(XPS)研究了双梳型共聚物吸附于莠去津颗粒样品表面的电子状态,计算了吸附厚度.结果表明:吸附后,莠去津颗粒界面的N 1s和Cl 2p谱峰强度明显减弱,Cl 2s几乎消失,而C 1s和O1s谱峰强度则明显增强,这主要是双梳型共聚物中C和O的贡献,且吸附后能在莠去津颗粒界面形成良好的吸附保护膜,其厚度...     

玻璃表面特性的XPS研究

本文用XPS表征了玻璃表面铜、铅和锡离子的价态,并测定在浮法玻璃底表面锡离子价态的深度分布。对沾锡现象与锡离子价态之间的关系进行了讨论。     

苯并噻唑衍生物的气相HeI紫外光电子能谱(UPS)及量子化学研究

对苯并噻唑系列衍生物的气相HeI紫外光电子能谱(UPS)进行了研究．首次报道 了五种化合物的紫外光电子能谱，利用Gaussian94从头算的量子化学计算方法对其 进行了计算，并结合计算结果对各个分子体系的谱图进行了指认．研究结果表明： 分子的电离能受取代基性质的影响，取代基的给电子能力越大，体系的共轭效应越 强，电离能就越低．对苯并噻唑衍生物而言，6-位取代基对电离能的影响大于2-位 取代基的影响．     

飞行时间二次离子质谱结合X-射线光电子能谱分析化学清洗后残留的表面有机物

用飞行时间二次离子质谱(TOF-SIMS)结合X射线光电子能谱,分析了用化学方法清洗后银片上残留的未知有机物.TOF-SIMS与XIPS提供的互补的表面信息显示,中分子量以上的有机物主要是几种链长22～27碳原子、碳链饱和度很高的多酮类化合物,可能还有一些多酯类化合物.这些有机物中的C=O基团易于采取氧原子指向金属基体表面的取向,通过带部分负电荷的氧原子与金属基体镜像力的作用而增强粘附.