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根据薄膜沉积过程等离子体对光学薄膜膜蒸气分子或原子的作用,建立低压等离子体离子镀设备,并对常规光学薄膜、如硫化物、氧化物薄膜以及多层膜器件进行了系统的研究,对所制备薄膜样品的透射光谱、吸收、散射以及膜层的聚集密度等进行了全面的测试分析。实验研究表明,低压等离子体离子镀可大大提高常规光学薄膜的光机性能。 相似文献
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光学薄膜的光热偏转信号分析 总被引:3,自引:1,他引:2
本文给出了透明基体上的单层薄膜在激光辐照下的温度分布和光热形变偏转信号的理论表达式。通过数值计算,分析了偏转信号与薄膜参数、基体参数以及调制频率之间的关系,用反射式光热偏转装置对光学薄膜的光热偏转信号进行了实验研究。结果表明,理论计算和实验结果是一致的。 相似文献
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研究了基波相位畸变对二次谐波相位分布的影响。针对具有不同像差、而光强分布为高斯型光束,以KDP晶体I类匹配为例,数值计算得到其二次谐波光束的光强分布和相位分布,分析了基波的像差、离散效率以及衍射效应的影响效果。研究表明不同的像差对于谐波的影响是不同的,主要取决于由其引起的全口径上相位失配的情况;离散效应主要带来的是倾斜像差,其高阶像差的影响随着离散效应的加剧而增大;而衍射效应的影响在一般情况下都是可忽略的。最后给出了在离散效应和衍射效应的影响可以忽略的情况下,基波相位畸变对二次谐波影响的近似估算式。 相似文献
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光学薄膜的温度场设计 总被引:9,自引:1,他引:8
提出了光学薄膜温度场的概念,研究分析了薄膜光学性质和热,物性质对其温度场的影响,给出了相变光盘薄膜和高功率激光反射膜的具体设计,还给出了相变膜的写入,擦除功率和激光反射膜的破坏阈值。 相似文献
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提出一种全面分析光学薄膜损伤特性的方法,根据热传导理论与电子增殖理论建立激光辐照下多层介质膜的损伤理论模型。以HfO2/SiO2多层高反膜为例,计算红外纳秒脉冲激光作用下膜系内部的温度场、应力场以及自由电子数密度分布,对其热学特性与电子增殖特性进行综合评估后,得到不同输入条件下膜系的损伤阈值。结果表明,薄膜材料的损伤特性会受到驻波场的影响,在1064 nm波长的激光辐照下HfO2/SiO2 多层介质薄膜的热致应力损伤效应先于热熔融效应先于场效应发生,且薄膜中SiO2层发生热损伤,而薄膜并未发生场损伤,此外薄膜的损伤阈值随着激光脉宽的增大而增大。 相似文献
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详细给出了软X光多层膜位相型矩形光栅的实验,分析测试结果以及在北京国家同步辐射实验室测得的光学衍射特性,并进行了分析。 相似文献
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光纤中基于交叉相位调制的超短光脉冲串的产生 总被引:4,自引:1,他引:3
提出一种在单模光纤正常色散区由连续波产生超短光脉冲串的新方法,即让连续波和一个波长位于光纤正常色散区的调制脉冲串在光纤中同时传输,交叉相位调制效应和群速度色散效应的相互作用能使连续波演化成一串超短光脉冲,其脉冲宽度比调制脉冲串中的脉宽要小得多,本文还通过计算机模拟,对这一方法进行了全面的考察和分析。结果表明,该方法不仅实用,而且可取得较好的效果。 相似文献
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回顾并论述了光学相位共轭及四波混频技术的发展过程,介绍了四波混频相位共轭的原理、相关的介质材料、应用前景及技术发展趋势。 相似文献
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CCD紫外敏感Lumogen薄膜制备与光谱表征 总被引:2,自引:0,他引:2
传统的CCD和CMOS成像传感器对紫外区域响应比较弱,这是因为多晶硅栅对紫外光有强的吸收能力,从而阻碍了紫外光进入CCD沟道。为了提高探测器对紫外辐射的敏感性,可行的一种办法是在器件上镀一层可以将紫外光转化为可见光的变频膜。采用真空蒸发法制备了有机Lumogen薄膜,并用发光官能团分析、椭圆偏振技术研究了Lumogen薄膜的发光原理与光学常数。分析与实验结果表明:Lumogen可连续光致发光原因是其分子具有四类双键结构;椭圆偏振法测得该Lumogen薄膜折射率在1.3左右,说明该膜具有增透效果。同时,通过测量Lumogen薄膜的透射光谱、吸收光谱、光致发光发射谱和激发谱,表征了Lumogen薄膜的光谱性质,发现Lumogen薄膜在可见波段(>470 nm)有较好的透过性,用紫外光激发会产生较强的黄绿光(中心波长位于523 nm),且激发光谱宽(240~490 nm)。结论表明Lumogen薄膜的发射光谱能够与CCD等传统硅基成像器件的响应光谱匹配,是一种符合实际要求的紫外敏感薄膜。 相似文献
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