XRFA聚脂薄膜-滤纸试样制备方法的改进

介绍了用于X射线荧光光谱分析（XRFA）的聚脂薄膜-滤纸试样制备改进方法及其效果实验。改进方法制备的试样具有基体效应小、样品用量少、元素分布均匀、试样反复使用不变形和便于保存等优点，特别适用于轻元素测量的试样制备。     

薄膜物理与制备技术

薄膜物理和制备是ICF物理实验制靶中的一项重要环节，随着ICF实验的深入，薄膜靶和薄膜靶零件作为一种重要的靶型，其需求呈现多样化、复杂化和精密化。探索各种薄膜靶的结构与性能、新的制备技术成为靶制备科学的重要研究内容。     

电解有机溶液法制备CNx薄膜

在６０℃和常压下，电解甲醇和脲的混合溶液在硅基片上沉积ＣＮｘ薄膜．傅里叶红外和Ｒａｍａｎ测试表明，所得薄膜是非晶态的，碳和氮主要是以Ｃ—Ｎ，Ｃ—Ｃ，ＣＣ和ＣＮ的形式成键，有少量的碳和氮以ＣＮ的形式成键．Ｘ射线光电子能谱测试表明，氮是以ＳＰ２和ＳＰ３杂化形式与碳化学成键来成膜的．测试结果表明通过液相沉积法所得ＣＮｘ薄膜与汽相沉积法所得ＣＮｘ薄膜的结构比较接近     

铁电薄膜的制备，表征和应用

概括介绍了铁电薄膜的发展过程，分析了不同制备方法的优缺点，指出在制备中需要考虑的主要问题，给出了铁电薄膜基本参数、 物化结构性能、物理性质等的表征方法，讨论了铁电薄膜在热释电探测、光开关、随机存取存储器等方面的应用，最后简单介绍了我国有关单位铁电薄膜的研究情况。     

ZnO薄膜的制备和发光特性的研究

用射频磁控溅射的方法在石英衬底上沉积了氧化锌薄膜，在室温下测量了样品的XRD曲线、吸收光谱以及光致发光光谱。探讨了气氛中氧气与氩气比对制备薄膜的影响，从XRD谱中可以看出，样品具有较好的结晶状态。另外，样品在紫外有较强的吸收，而其光致发光也是较强的紫外发射，这表明带间跃迁占了主导地位，以上结果说明：用溅射方法制备的ZnO薄膜结晶质量较好，富锌状态有所改善。     

钼酸根离子钝化层对氧化铁薄膜光电催化氧化水的性能影响研究

本文研究了氧化铁(α-Fe₂O₃)薄膜光阳极的合成及其光电催化分解水产氧的性能. 在合成氧化铁过程中,采用原位和非原位方式引入钼酸根离子,调控氧化铁薄膜的生长模式和表面特性. 实验发现原位引入钼酸根离子会显著影响氧化铁薄膜的形貌以及厚度. 而非原位表面修饰钼酸根离子则会保持氧化铁的纳米棒形貌,并有效提高其光电催化分解水的性能. 文章通过紫外-可见吸收光谱,透射电子显微镜(TEM),扫描电子显微镜(SEM),莫特-肖特基测试(M-S),电化学阻抗(EIS)以及光电催化性能测试等手段对材料的结构和性能进行了研究.     

MgB2超导薄膜制备方法对比研究

文章结合MgB2超导薄膜在电子器件中的应用,简介了混合物理化学气相沉积法、脉冲激光沉积法、磁控溅射法、分子束外延法和电子束蒸发法等MgB2超导薄膜制备方法和研究进展,并对主要的MgB2超导薄膜制备方法进行了比较,提出了改进意见.对MgB2超导薄膜的应用前景作了展望.     

类金刚石薄膜的性质、应用及制备

介绍了类金刚石薄膜的结构特征,并详细讨论了采用物理化学气相沉积方法制备类金刚石薄膜过程中各相关参数之间的关系以及对薄膜结构和性质的影响. 关键词：     

射频磁控溅射法制备ZnO薄膜的发光特性

利用射频磁控溅射法在硅衬底上制备出具有（002）择优取向的氧化锌薄膜，用波长为300nm的光激发，观察到在446nm处有一强的光致发光峰，它来自于氧空位浅施主能级上的电子到价带上的跃迁。并讨论了发光峰与氧压的关系以及退火对它的影响，且给出了解释。     

Hg—1223超导薄膜的制备与特性

本首次报道了用离子注入的方法成功地获得了汞系超导体Ｈｇ－１２２３在ＳｒＴｉＯ３衬底上的薄膜材料。ＬＳＳ理论估算薄膜厚度约为２５０－３５０埃。交流磁化率的测量表明其超导转变温度为１１８Ｋ。     

聚四氟乙烯薄膜的制备及其红外光谱研究

用射频磁控溅射方法分别在NaCl和Si基底上制备了聚四氟乙烯薄膜．通过红外吸收光谱的研究分析了薄膜中的成分及分子链结构． 关键词：     

用YAG激光制备类金刚石薄膜及其光学折射率研究

用高功率的Ｎｄ＾３＋：ＹＡＧ脉冲激光轰击真空室内的石墨靶，形成激光等离子体雾状物质，在硅衬底上沉积形成类金刚石薄膜，用椭圆偏振光谱法测量不同衬底温度下制备的系列样品的厚度和折射率，发现随着衬底温度的升高，薄膜的厚度减小而的折射率增大，这种可以控制折射率米化的薄膜，可能为光学增透增反膜的制备提供一种新方法。     

氮化碳薄膜的制备及研究现状

 氮化碳具有良好的物理、化学性质和广泛的应用前景。目前主要采用化学气相沉积法、离子束溅射法、激光等离子体沉积和激光烧蚀、离子镀、离子注入法等制备方法。文中对氮化碳的结构、性质、制备、性能表征以及研究现状进行了比较详细的介绍。