1-氯甲基杂氮硅三环酮化合物的X-射线光电子能谱(XPS)研究

杂氮硅三环类化合物由于其高的生物活性和对分子内存在五配位硅四配位氮间跨环结构的提出而引起人们广泛关注,其 N→Si 配位键的存在与否却至今引起争论。为此,作者曾用 X-射线光电子能谱(XPS)技术分别以直接对比的方式和从硅上带有不同取代基对 N→Si 配位键的影响两个侧面证实这类分子内 N→Si 配位键的存在,同时也做了 EHMO(扩展的 Hückel 分子轨道)计算处理,计算很好地说明作者的 XPS 实验结果。本文报道用 XPS 技术从另一个侧面:杂氮硅三     

聚甲基苯基硅氮硅氧烷-鈀络合物结构的X-射线光电子能谱(XPS)研究

<正> 近年来,高分子金属催化剂由于其特殊的高分子效应引起人们广泛关注,目前在国外市场上已有高分子金属催化剂商品供应,它较低分子有机金属催化剂活性更高,选择性更好,并已广泛用于加氢,硅氢加成,转化,醛化,分解,齐聚,聚合和不对称合成等很多反应中,然而对其结构的研究至今报道甚少。     

聚苯并咪唑金属复合物的X-射线光电子能谱(XPS)研究

本文报道以聚苯并咪唑(PBI)与某些过渡金属卤化物所形成的金属复合物的XPS研究,由反映在金属复合物N_(1s)和C_(1s)振起(Shake-up)伴峰的消失,反映在PBI中N_(1s)双峰变为复合物中的具有高结合能的单峰以及与其复合金属离子结合能的降低,这就从施受两个侧面确证金属复合物的形成。XPS结果也说明在金属复合物的制备中,不同溶剂条件所制得的复合物在硅氢加成中活性丧失归结於溶剂导致的金属离子的还原。     

氮杂硅三环类化合物的质谱研究

本文对二十四个氮杂硅三环类化合物进行了质谱研究.测定了它们的低分辨质谱,收集了大部分化合物的高分辨质谱数据并进行了亚稳跃迁测定。结果表明,分子离子的稳定性、基峰的生成方式以及碎片离子的多少主要取决于取代基R的性质.分子的电子轰击质谱裂解存在三种基本方式:(1)断裂Si～R键,生成高度稳定的(M-R)~ 离子,碎片离子较少;(2)开环,失去碎片C_2H_3O;(3)开环,失去碎片CH_2O或CH_3O.用电荷自由基定域理论解释这类化合物的质谱裂解机理,并对影响分子离子稳定性的有关因素及影响基峰形成的原因进行了讨论.     

杂氮硅三环类化合物的紫外光电子能谱及化学键的理论研究

报道了10种杂氮硅三环类化合物的紫外光电子能谱(UPS).采用RHF/3-21G^*对各化合物进行了构型优化.根据各化合物UPS的谱带特征结合RHF/6-31G^*的计算结果对谱图进行了合理的解析和指认.利用6-31G^*基组进行的电子密度拓扑分析表明,各化合物的N和Si原子间均存在键鞍点,从理论上证实了N和Si原子间存在成键作用.各化合物的UPS和SCFMO计算和电子密度拓扑分析都表明,在该类体系中σ_N→Si配键是比杂氮硼三环类化合物中σ_N→B配键弱得多的成键作用;文中同时讨论了不同取代基对Si和N间成键作用的影响.     

杂氮硅三环类化合物15N NMR研究

本文对杂氮硅三环类化合物作了15N核磁共振研究,并用CNDO/II方法对部分化合物进行了量子化学计算。导出了15N化学位移随硅上取代基R的Taft极性取代常数σ和氮原子净电荷密度线性变化的规律。从实验和理论两方面进一步证实了杂氮硅三环类化合物分子中存在着Si←N配位键。     

1—甲基杂氮硅三环的晶体结构和杂氮硅三环类化合物中硅氮间键的本质的量子化学研究

精确测定了1—甲基杂氮硅三环的X光晶体结构,并用量子化学SCC—DV—X_a法对杂氮硅三环类化合物RSi(OCH_2CH_2)_3N(R=CH_3,F,Cl,Br,I)中硅氮成键本质进行了研究。计算结果证明硅氮间形成的配键中除σ键外还存在微弱的π键,硅原子的3d轨道在成键中起一定的作用。 晶体学参数:C_7H_(15)NO_3Si,M_r=189.3,单斜晶系,空间群P2_1/n,a=7.606(1),b=12.150(1),c=9.779(1),β=91.64(1)°,V=903.4,Z=4,D_c=1.392gcm~(-3),F(000)=408,μ(MoK_a)=2.208cm~(-1)。1510个可观察衍射参与最小二乘修正,最终偏离因子R=0.044。     

聚丙烯膜光氧化过程中表层光氧化产物的X-射线光电子能谱(XPS)的研究

本文用X-射线光电子能谱(XPS)研究了聚丙烯膜表层的光氧化产物,得出几种主要氧化产物的相对含量随氧化时间变化的规律并将其与缸外光谱所测结果及文献报道的相比较,证明膜表层光氧化和膜整体光氧化规律有所不同。根据实验结果提出了反应机理。     

酞花菁(H_2Pc)及其金属络合物的X-射线光电子能谱(XPS)研究

酞花菁(H_2Pc)及其金属络合物广泛用于染料工业,是重要的有机半导体和光导体之一,其分子结构与叶绿素、血红素相近,因而引起国内外学者极大兴趣,并做过大量实验和理论研究。过去 H_2Pc 分子的内质     

N_2O在Ni表面上吸附态的X-射线光电子能谱(XPS)研究

前言近十几年来,简单气体分子在金属表面吸附态的基础理论研究,由于 XPS 的问世而进入一个崭新的发展阶段.XPS 能在分子及原子水平上直接探测表面吸附态元素的组成及元素价态、分子及原子的化学结构和电荷分布.本文将报告 N_2O 气体分子与“原子级清洁”Ni 表面间的相互作用.在此之前 Brundle 已用 XPS 对这一相互作用体系进行了研究.他提出 Ni 在80K吸附 N_2O 气体分子后,在表面仅有 N_2O 分子吸附态.若加温至290K 后,N_2O 分子脱附,     

杂氮硅三环类化合物结构的固体NMR实验研究

采用固体NMR实验方法研究了取代的三个杂氮硅三环羧酸化合物的结构,针对实验结果讨论了环上取代对化合物构型和配键的影响,以及硅和氮化学位移对环上取代的反映。     

用X-射线光电子能谱(XPS)研究聚-r-巯丙基硅氧烷-铂络合物的结构

<正> 近年来,对高分子金属催化剂的研究十分活跃,以期开发活性高,选择性强,稳定性好,易于分离回收并兼具均相和非均相两类催化剂优点的高分子金属络合物催化剂,然而对其结构的研究报道甚少。 本文用X-射线光电子能谱(XPS)研究了聚-r-巯|丙基硅氧烷-铂络合物催化剂(简称Pt-催化剂),证实了这种催化剂是络合物,确定了聚-r-巯丙基硅氧烷(简称载体)与H_2PtCl_6间的络合位置,从而提出了这一络合物催化剂的可能结构。通过对失活Pt-催化剂的研究,探明了其失活机理,且与低分子H_2PtCl_6催化剂的失活原因相同。     

杂氮硅三环化合物(Ⅰ)和(Ⅱ)晶体结构的研究

杂氮硅三环化合物Ⅰ和的分子结构用直接法解,经全矩阵最小二乘修正,得到它们的晶体学参数。并对它们的结构进行了比较和讨论。     

碳纤维负载Wacker催化剂的X-射线光电子能谱研究

研制了一种在常温下对一氧化碳氧化具有高活性多相的 Wacker催化剂。活性组份负载于经活化处理的聚丙烯腈基(PAN)的碳纤维上。PAN碳纤维经活化处理后表面上形成一些含氧官能团(-COOH,C=O,—OH),并使其比表面积增大到～1000m~2/go上述催化剂在常温下(20—40℃)对浓度为数千ppm的一氧化碳的氧化显示出良好的催化活性。     

杂氮铝三环类化合物的合成

具有 N→M 配位键的杂氮三环(Atrane)类化合物近年来正日益引起人们的浓厚兴趣。作者曾经报道了杂氮硅(硼、钛)三环的合成及其分子结构和化学     

杂氮三环类化合物的分子量测定

2,8,9-三氧杂-5-氮杂-1-M三环[3,3,3,0~(1,5)]十一碳烷,(?)(M=Si,B,Al,Ti),简称杂氮M三环。由于这类化合物具有特殊的分子结构及生物活性而受到人们的重视。作者报道过一系列杂氮三环类化合物的合成及结构测定,本文报道在非水介质中用酸碱滴定法     

N-苯乙基甘氨酸和β苯乙胺衍生物的X射线光电子能谱(XPS)研究

本文研究了十六种N-苯乙基甘氨酸和β苯乙胺衍生物的X射线光电子能谱(XPS).着重探讨了这些分子中不同N原子环境对其N_(?)结合能的影响,同时,用Pauling离子特性规则计算了这些分子中N原子上的电荷密度,实验N_(?)和Pauling计算原子电荷很好符合,从而对用磷酰基保护N-苯乙基甘氨酸上的氨基,作分子内的傅氏反应,合成三尖杉酯碱的母核——苯并氮杂环庚酮避免脱羰,保护基易脱去等反应机理提供实验与半经验的理论根据。     

X-射线光电子能谱(ESCA)研究聚氯乙烯固体表面的紫外光分解反应

本文用X-射线光电子能谱(ESCA)方法探讨了聚氯乙烯(PVC)在不同环境下紫外光辐照所引起表面组成的变化。从所得结果推断:常温下PVC在大气环境中的光分解主要是光氧化反应,而在惰性气氛中主要是碳-氯键断裂释出氯化氢。由此可见,PVC的光分解反应,实际上与样品所处气氛是密切相关的。