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HL-2A和HL-1M装置采用了激光吹气注入高Z杂质来缓减大破裂中的等离子体电流衰竭,并给出了初步实验结果。在HL-2A装置上建立了利用MHD扰动的参量预报放电破裂先兆的报警系统,研制了MHD实时检测与处理系统,实现了放电破裂先兆的预报、快速触发激光吹气、形成阻性高辐射等离子体、消耗热能和磁能,缓减大破裂。实验证明,这是一种使得大型聚变实验装置在放电破裂之前显著减少等离子体中热能和磁能,而且能安全终止放电的简单、快速和有效的途径。 相似文献
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采用立体探针与二次离子质谱计(SIMS)分析相结合,对HL-1装置刮削层空间的杂质沉积特性和分布规律进行了实验研究。测量了在石墨活动孔栏条件下,立体针表面杂质沉积特性和分布规律进行了实验研究。测量了在石墨活动孔栏条件下,立体探针表面杂质沉积的径向分布,纵向分布,极向分布和H^+剖面分布。并讨论了实验结果。 相似文献
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描述了HL-1M 装置欧姆加热状态下的密度极限,该密度极限是放电破裂前的最高密度值。通过比较氘、氢放电,硅化前后的放电,超声分子束注入、冰弹丸注入和脉冲送气放电,发现HL-1M装置的壁条件、加料方式以及氢同位素对HL-1M 装置的密度极限影响很大。产生密度极限破裂的原因主要是等离子体约束变差,总体辐射损失与欧姆加热功率平衡被破坏 相似文献
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文中叙述了HL-1M托卡马克硼化真空紫外光谱区杂质辐射的观测结果。分析得出:硼化有效地控制等离子体中的杂质,其中,氧杂质减少约65%,碳杂质减少约60%,金属杂质减少约85%。 相似文献
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本文利用HT-6M托卡马克上现有的实验数据,对氧杂质进行了输运模拟,给出了HT-6M托卡马克在欧姆加热下氧杂质的输运特性,空间分布和辐射能量。 相似文献
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中国环流器新一号装置总体联调 总被引:2,自引:1,他引:1
谈满秋 《核聚变与等离子体物理》1997,17(2):1-8
本文介绍中国环流器新一号装置工程总体联合调试的内容和主要结果。该装置总体联调是非常成功的,获得了重复性很好,环电流平顶宽的稳定平稳的放电波形,这对物理实验的开展非常有利。 相似文献
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郑永真 《核聚变与等离子体物理》2003,23(4):235-238
用简化的再循环模型和破裂模型,研究了边缘发生的电离与电荷交换的能量损失与密度极限破裂的关系,得到HL 1M装置的临界破裂密度nc≤1.6×1020m-3。 相似文献
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本文叙述用掠入射谱仪在HL-1装置上所做的真空紫外光谱测量。根据杂质谱线的相对强度变化,说明可动石墨孔栏和蒸钛技术对控制等离子体杂质有一定效果。通过分析谱线、软X射线和m=2模式信号扰动之间的关系,指出杂质对等离子体不稳定性的影响。 相似文献
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使用十六道探测器阵列在HL1M装置上对中性束加热等离子体中注入氢丸和铝杂质的辐射损失功率进行了测量。通过对测量数据的分析,获得了以下主要实验结果:(1)中性束加热等离子体辐射损失功率密度分布在等离子体小半径(35)a范围内较平坦,辐射功率密度为0.1W·cm-3左右;(2)在中性束加热期间,用激光吹气注入铝杂质,辐射损失功率密度增加了1倍,但它的分布不明显峰化;(3)注入的氢丸使等离子体辐射损失功率密度增加了2倍多,且辐射损失功率密度分布显著峰化。 相似文献
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HL-1M装置中超热电子的X射线辐射测量 总被引:3,自引:1,他引:2
用新研制的五通道碘化汞(HgI2)半导体探测器阵列分别观测了在欧姆发热、弹丸注入及离子回旋共振加热(ICRH)条件下,HL-1M等离子体中的超热电子引起的能量在10~150keV范围内的X射线辐射强度的时空变化,及超热电子辐射的X射线能谱。结果显示,在ICRH期间,等离子体边缘的X辐射增强,超热电子的温度大约为30keV,ICRH的能量沉积在等离子体边缘。 相似文献
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HL-lM装置在NBI期间注入H弹丸和AI杂质的辐射损失特性 总被引:1,自引:1,他引:0
使用十六道探测器阵列在HL-1M装置上对中性束加热等离子体中注入氢丸和铝杂质的辐射损失功率进行了测量。通过对测量数据的分析,获得了以下主要实验结果,(1)中性束加热等离子体辐射损失功串密度分布在等离子体小半径(3/5)a范围内较平坦,辐射功率密度为0.1W·cm 相似文献
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秦运文 《核聚变与等离子体物理》2001,21(3):165-172
强调了托卡马克等离子体的约束时间是等离子体粒子损失或热能损失的特征时间,评述了有关物理概念和实验现象分析了方面的问题,并应用于HL-1M装置等离子体。 相似文献
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叙述了在HL-1M托卡马克LHCD实验中观测到的杂质VUV辐射特性。用谱线的都卜勒展宽测量了离子温度。在一定的电子密度下,LHCD改善了等离子体的约束性能,对离子有显著的加热效果。 相似文献
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GDC(He SiH4)是为HL-1M装置研制的一种常规壁处理技术。在He辉光等离子体条件下,通过气相中的电子碰撞离解、电离、离子-分子反应和在壁面上的He^ 诱导脱H2过程,在清洁的真空壁表面沉积一层无定形、半透明、致密的氢化硅(α-Si:H)薄膜。氢化硅具有良好的H(D)捕获、H2(D2)释放,能显著地降低再循环系数,有效地控制杂质水平,大大拓宽了HL-1M装置的运行范围,为HL-1M装置的LHCD、ICRH、ECRH、NBI、PI和MBI实验提供了良好的真空壁条件。 相似文献
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研究了HL-1M装置上锁模不稳定性和密度极限破裂。锁模不稳定性通常出现在低密度的实验中,在软X射线和Mirnov磁扰动上都观察到了频率相同的先兆振荡,其时间尺度为10ms。边3比温度的然下降是产生模不稳定性的重要标志。锁械出现几毫秒后时常发生大破裂。提出了抑制锁械的稳定性的建议。 相似文献