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超声波清洗技术与进展 总被引:24,自引:1,他引:24
本文综述了我国超声波清洗技术发展状况,介绍了超声波清洗特点和机理、超声波清洗技术参数的选择、超声波设备的组成以及超声波技术的最新进展. 相似文献
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通过对超声波清洗技术的理论分析以及实际工艺操作结果分析,与以往传统的清洗方式做一比较,说明了在清除微细污染物方面,超声波清洗技术在等离子体显示器件障壁基板清洗方面的优越性。 相似文献
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电子枪除尘设备的新工艺是结合国内外现有的除尘功能而开发研制的第一台集各种除尘能力于五体的设备,供同行在设计中参考与交流。 相似文献
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通过对汽车零件、光学零件、电子零件替代技术的剖析,说明了超声波清洗方法在替代清洗技术中的重要性和可行性。 相似文献
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金属表面的激光清洗技术及应用 总被引:2,自引:0,他引:2
激光清洗是近年来发展迅速的一种新型清洗技术.在一些特定领域,激光清洗与传统清洗工艺相比具有更好的清洗质量和更高的清洗效率.本文阐述并分析了激光清洗金属表面的物理过程,介绍了激光清洗技术在清洁小孔、去除膜层、清除放射性污染层和文物保护等方面的应用. 相似文献
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本文简要介绍了艾默生EV1000在贵研铂业金属清洁机中的应用情况及变频器的参数设定等。 相似文献
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当今,工业清洗设备作为机械设备制造行业中的一分子,与国家的经济发展息息相关,并在我国清洗行业中占有举足轻重的地位。制造业的生产、加工过程已经须臾离不开清洗,因此,我国要成为制造业大国、强国,必须大力发展工业清洗设备,振兴我国的机械设备制造业,振兴“中国制造”品牌。 相似文献
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硅研磨片超声波清洗技术的研究 总被引:1,自引:0,他引:1
介绍了硅研磨片清洗的重要性,分析了影响硅研磨片质量的主要因素,即金属杂质和各种污染物.重点分析了硅研磨片表面沾污的原因,并且通过大量的实验分析得到了活性剂和碱性清洗液、去离子水的最佳体积比是0.20:1.00:10.0,清洗的最佳时间为3 min~5 min和最佳温度范围为40℃~50℃. 相似文献
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氟利昂等ODS(指CFC-113,1,1,1,-三氯乙烷,四氯化碳)物质正在被逐步淘汰,替代的主要有水基型、半水基型和溶剂型等三种非ODS清洗技术。由于受清洗剂的性能限制以及LCD高清洗要求,在清洗设备上,要求使用浸入式超声波来加强清洗时的物理、化学作用。对于LCD器件,为了防止超声波对LCD器件的结构产生破坏作用,应用超声波时,超声波的主要性能指标—功率和频率的选择显得非常重要。本文重点就LCD器件的非ODS液晶清洗与超声波频率的关系进行了讨论,并对清洗工艺中需要注意的其他因素进行了简单说明。 相似文献