铁表面组装磷酸三乙酯缓蚀功能分子膜的研究

研究一种新型的自组装成膜物质—磷酸三乙酯(TEP).实验发现,TEP自组装膜能有效抑制铁在0.5mol.L-1硫酸溶液中的腐蚀.电化学测试显示,组装时间对成膜效果产生影响.在最初较短的组装时间内,TEP自组装膜的缓蚀效率随组装时间延长而快速增加,之后增加速率减慢直至恒定.     

树形大分子的自组装

非共价的分子间作用力或超分子相互作用，可用于树枝直接自组装，或将树枝环绕在以某一中心核作模板的分子周围，最终形成树形大分子。另外，树形大分子自组装，可得到高度有序的液晶聚集体和单层膜，也可增加其它有机物的溶解性。综述了树形大分子的自组装研究进展、研究结果及其应用前景。     

正、叔十二烷基硫醇在铜表面上自组装膜测试

研究了正、叔十二烷基硫醇在铜表面上的自组装及混合自组装成膜情况,并利用交流阻抗和极化曲线电化学方法测试了正、叔十二烷基硫醇在铜表面上自组装膜及混合自组装膜对铜的耐腐蚀性,考察了正十二烷基硫醇自组装膜质量与正十二烷基硫醇溶液的浓度及组装时间的关系。研究结果显示,混合自组装膜的质量及其对铜的耐腐蚀性比仅组装正或叔十二烷基硫醇均有很大的提高。     

功能性超薄有序分子沉积膜的制备及其结构研究

1991年G.Decher等首次探讨了阴阳离子与聚电解质交替沉积制备有机超薄膜的方法。我们在完善成膜技术和发展成膜基质的基础上,详细研究了其成膜过程与膜的结构,并定义这种新的自组装超薄有序膜为分子沉积膜——MD膜。MD膜是利用阴阳离子的静电吸附反应特性,通过相反离子体系的交替分子沉积制备的层状有序自组装多层超薄膜。需要指出的是,分子沉积既是有机超薄膜的制备技术,本身又是一种自组装超薄有序膜。MD膜制备工艺简单,热稳定性和长期稳定性好,不受基体形状与面积限制。     

硫辛酸在金电极上自组装成膜动力学研究

自组装单层膜 (ＳＡＭ)应用广泛[1～ 3] 。但对于硫辛酸 (ＴＡ)自组装成膜动力学过程的研究尚未见报道。本研究利用石英晶体微天平 (ＱＣＭ)对ＴＡ自组装成膜过程进行在线监测 ,研究成膜动力学特征 ,并探讨浓度、温度对成膜过程的影响 ,以及在不同ｐＨ值下 ,ＳＡＭ的稳定性 ,推算了不同温度下的速率常数及成膜的活化能。1　实验部分1 1　基本原理通过监测成膜过程中石英晶体微天平 (ＱＣＭ)的振荡频率的变化 ,据Ｓａｕｅｒｂｒｅｙ方程 ,可推知在石英谐振器 (ＱＣＭ)的金电极表面 ,ＴＡ的吸附质量Γ(Γ =Δｍ Ａ ,ｇ ｃｍ2 )与ＱＣＭ的频率…     

自组装超薄膜: 从纳米层状构筑到功能组装

总结了一种新型的超薄膜自组装技术－交替沉积组装技术的发展现状,着重对成膜推动力、生物分子的层状组装、无机／有机杂化结构、有机小分子化合物的层状组装、超薄膜化学修饰电极、层间化学反应及非平衡基底上的层状构筑等几个方面的问题进行了讨论。     

LBL自组装技术及自组装生物功能膜结构

主要介绍近几年发展的用于生物大分子自组装功能膜的三种逐层（LBL）自组装技术与制备方法,酰胺化反应自组装技术、生物分子的特异识别自组装技术、分子沉积自组装技术;同时总结了自组装功能膜的结构、特性的表征方法,主要有AFM、TEM、循环伏安法、石英晶体微天平（QCM）技术、UV/VIS、XPS方法等。     

一种纳米薄膜——自组装膜

结合新课标高中化学中的化学键知识,介绍了一种纳米薄膜——自组装膜的基本结构、组装原理以及3类重要的自组装膜,着重介绍了成膜物种之间的作用力,旨在丰富高中生的纳米化学知识,深化他们对化学键的认识,可供一线教师选为学生阅读材料。     

生物大分子自组装膜及其应用研究进展

本文主要介绍了酶，蛋白质、DNA等生物大分子自组装膜的研究进展，并对生物大分子膜在生物传感器，分子器件，高效催化材料，医用生物材料等方面的应用前景进行了展望。     

Schiff碱在金电极上的自组装膜

本文利用自组装技术 ,首次将带有巯基的Schiff碱自组装到Au电极的表面 ;并利用扫描电子的显微电镜 (SEM )直接证实了Schiff碱的成膜 ,用循环伏安和交流阻抗技术对其膜的致密性等进行了分析 ,证实由Schiff碱形成的膜虽较疏松 ,但对异相电子转移起到了一定的抑制作用 ,本工作为利用自组装膜的方法研究Schiff碱提供了必要的实验理论参考     

多孔质铝阳极氧化膜表面与界面研究

铝质材料阳极氧化作为铝质材料最重要的表面改性技术已有几十年历程，并在现代工业中获得了广泛应用［1，’］．前人对铝阳极氧化股的结构、组成及生成机理等进行了大量的研究工作［3－6］，研究结果表明铝阳极氧化膜具有多孔型和壁垒型二种，其中多孔型铝阳极氧化膜是由非晶态     

溶剂热法在金属基片上制备薄膜材料的研究进展

利用溶剂热法在反应性基片(金属基片)上制备无机微米(纳米)晶薄膜是最近发展起来的一种制备薄膜的新方法。该方法操作简单,可以通过调整溶剂、表面活性剂、温度等反应条件来控制薄膜的形状。作者通过实验用溶剂热法在铜基片上制备了Cu2Se薄膜。     

计算机硬盘基片CMP中表面膜特性的分析研究

目前,普遍采用化学机械抛光(Chemical-mechanical polishing,CMP)技术对计算机硬盘基片(盘片)表面进行原子级平整。CMP加工中,盘片表面膜及其特性对CMP过程及CMP性能具有关键作用。本文分别采用俄歇能谱(AES)、X射线光电子能谱(XPS)、扫描电镜(SEM)、纳米硬度计、电化学极化法等分析手段对盘片表面物理、化学及机械特性进行了研究,发现盘片CMP后表面发生了氧化,氧化膜在盘片的表层,厚度在纳米量级,氧化产物为Ni(OH)₂;氧化膜为较软的、疏松的、粗糙的多孔结构;氧化膜的存在加快了盘片表面的腐蚀磨损。结合盘片CMP试验结果,推测盘片的CMP机理为盘片表面氧化生成机械强度较低的Ni(OH)₂氧化膜及随后氧化膜的机械和化学去除,二者的不断循环实现表面的全局平面化。     

聚酰亚胺LB膜真空热解制备β-SiC膜的STM观察

扫描隧道显微镜 ( STM)是一种基于量子隧道效应对样品进行高分辨无损测试的表面测试技术 [1] ,它可以在原子水平上反映表面分子或原子的排列分布情况 ,在物理、化学、生物和微电子界受到高度的重视 .STM技术以及其后发展起来的原子力显微镜 ( AFM)特别适合 LB膜的研究 ,能直观地反映出 LB膜中分子排列的微观结构以及表面缺陷 [2 ,3] .我们曾通过真空热解沉积在单晶硅片上的聚酰亚胺L B膜制得了准单晶β- Si C超薄膜 [4～ 6 ] .本文利用 STM技术对聚酰亚胺 LB膜以及由它真空热解而成的 Si C膜的表面形态结构进行了初步观察和分析 .…     

高光学质量氮化碳薄膜的制备和表征

氮化碳(graphitic carbon nitride,g-CN)作为一种非金属半导体材料已被广泛应用于多种能源相关领域研究中。目前由于制备高质量g-CN薄膜的困难,大大限制了其在实际器件上的应用。本文中,我们报道了一种可制备高光学质量gCN薄膜的方法:即由三聚氰胺先通过热聚合制备本体g-CN粉末,再由本体g-CN粉末经过气相沉积在ITO导电玻璃或钠钙玻璃基底上制备g-CN薄膜。扫描电子显微镜和原子力显微镜的测量结果表明在ITO玻璃基底上形成的g-CN薄膜形貌结构均一且致密,厚度约为300nm。扫描电镜能量色散能谱和X射线光电子能谱测量结果表明在ITO玻璃基底上制备的g-CN薄膜的化学组成与本体g-CN粉末的化学组成基本一致。同时,我们发现制备的g-CN薄膜和本体g-CN粉末一样在光照射下可以有效降解亚甲基蓝染料。此外,我们还测量了制备的g-CN薄膜的稳态吸收光谱、稳态荧光光谱、荧光寿命和价带谱,并运用吸收光谱和价带谱数据确定了其能带结构。     

Pd沉积在聚乙烯醇缩甲醛衬底上分形结构研究

用透射电子显微镜（ＴＥＭ）研究了衬底和沉积速率对气相沉积在聚乙烯醇缩甲醛衬底上的Ｐｄ膜显微结构的影响，当衬底温度由高到低改变时，Ｐｄ膜结构由紧密岛向分形渐变，在２３３－２５３Ｋ时Ｐｄ膜具有分形结构，用Ｓａｎｄｂｏｘ方法测量了其分维数，在相同温度的衬底上，沉积速率不同时，基分形的图样不同，研究表明，上述分形结构是稳定的，利用有边缘扩散的ＤＬＡ模型了这些实验结果。     

介孔SiO_2薄膜增敏SERS基底在消逝波激励下的特性表征

采用溶胶-凝胶分子模板法在50 nm厚金膜表面制备约40 nm厚介孔二氧化硅(MPS)薄膜,然后在MPS薄膜表面静电自组装金纳米粒子(GNP)单层膜,形成的多层膜结构用作表面增强拉曼散射(SERS)基底.利用扫描电镜观测到MPS薄膜具有表面开口多孔结构,有助于小分子向薄膜内快速扩散.基于时域有限差分(FDTD)方法对电场分布的仿真结果指出,在表面等离子体共振(SPR)条件下分布于金膜与GNP之间的消逝场显著增强.由于空间重叠,该增强场能够高效激发MPS内富集的小分子拉曼信号,产生的拉曼信号还可免受金属作用的干扰.利用Kretschmann结构和尼罗蓝(NB)拉曼活性分子测试了Au/MPS/GNP基底在785 nm激发波长下的SERS效果,并与Au/GNP基底进行了比较.结果表明,在SPR条件下,Au/MPS/GNP基底能够导致较强的定向和背向拉曼信号,而且在586 cm-1处的背向拉曼信号强度是Au/GNP基底的40倍,这归功于MPS薄膜.进一步测试表明背向拉曼信号强度与NB浓度成正相关.这意味着Au/MPS/GNP基底具有良好的半定量检测本领.     

原子力显微镜研究APS化单晶硅衬底及单层MD膜表面

原子力显微镜研究ＡＰＳ化单晶硅衬底及单层ＭＤ膜表面张希，高芒来，王力彦，沈家骢（吉林大学化学系，长春，１３００２３）关键词原子力显微镜，ＡＰＳ修饰表面，分子沉积膜以静电相互作用为成膜推动力的各种功能体系分子沉积（ＭＤ）超薄膜已有报道［１￣４］．对ＭＤ...     

介孔SiO2薄膜增敏SERS基底在消逝波激励下的特性表征

采用溶胶-凝胶分子模板法在50 nm 厚金膜表面制备约40 nm 厚介孔二氧化硅(MPS)薄膜, 然后在MPS薄膜表面静电自组装金纳米粒子(GNP)单层膜, 形成的多层膜结构用作表面增强拉曼散射(SERS)基底.利用扫描电镜观测到MPS薄膜具有表面开口多孔结构, 有助于小分子向薄膜内快速扩散. 基于时域有限差分(FDTD)方法对电场分布的仿真结果指出, 在表面等离子体共振(SPR)条件下分布于金膜与GNP之间的消逝场显著增强. 由于空间重叠, 该增强场能够高效激发MPS内富集的小分子拉曼信号, 产生的拉曼信号还可免受金属作用的干扰. 利用Kretschmann 结构和尼罗蓝(NB)拉曼活性分子测试了Au/MPS/GNP基底在785 nm激发波长下的SERS效果, 并与Au/GNP基底进行了比较. 结果表明, 在SPR条件下, Au/MPS/GNP基底能够导致较强的定向和背向拉曼信号, 而且在586 cm^-1处的背向拉曼信号强度是Au/GNP基底的40 倍, 这归功于MPS薄膜. 进一步测试表明背向拉曼信号强度与NB浓度成正相关. 这意味着Au/MPS/GNP基底具有良好的半定量检测本领.     

Electrical and Optical Properties of MgO Thin Film Prepared by Sol-Gel Technique

MgO thin films with either (111) or (200) preferential orientation have been prepared on (100) Si substrates by sol-gel method after a heat-treatment at 800°C. The obtained (111) preferentially oriented MgO film has a dielectric constant of 7.0 with a loss factor of 5% and a dielectric strength higher than 8 × 10⁵ V/cm. The optical refractive index, which depends on the film thickness, is 1.71 when the film thickness is 260 nm. The surface structure of the Si substrate is believed to affect the preferential orientation of the sol-gel derived MgO film. Specifically, the microstructures at the interface indicate an interdiffusion of Mg, O, and Si between the film and the substrate.