MoO3和CuCl在γ-Al2O3表面分散速度和分散机理的研究

It has been shown that many oxides and salts can disperse spontaneously onto supports with large surface area~[1]. A typical example studied widely is the dispersion of MoO_3 on γ-Al_2O_3. However, the research work about the dispersion mechanism and kinetics is quite few.Knozinger etc.~[2] suggested that the dispersion of MoO_3 onto the surface of γ-Al_2O_3 may occur through a "gas phase transport" mechanism mainly by assuming an intermediate MoO_2(OH)_2(g), and the presence of water is necessary. Their conclusion was based on a fact that after heating a mixture of MoO_3 and γ-Al_2O_3 in the presence of H_2O vapour at 450 ℃, the characteristic peak at 950 cm~(-1) of monolayer dispersed MoO_3 in Laser Raman Spectrum (in situ) appears, but after heating the mixture in dry oxygen, it can not be observed...     

金属氧化物在γ-Al2O3上单层分散的表面对称模型

提出了一个分散在γ－Ａｌ２Ｏ３表面的金属氧化物单层结构的表面对称模型，该模型认为金属氧化物单层结构到下规则：（１）金属氧化物的氧负离子将尽量保持与所在表面层的氧负离子相同的排列方式；（２）金属离子将根据所在表面层金属离子排布的对称性取与之相适应的排布方式；（３）金属子和氧负离子都对分散层的结构有影响。     

有机酸在γ-Al2O3表面自发单层分散及苯甲酸-γ-Al2O3表面结构的研究

有机酸如苯甲酸,水杨酸,邻-或对-苯二甲酸,酒石酸均可在γ-Al~2O~3表面自发单层分散,分散的临界温度取决于有机酸分子中极性基团的数目和极性的强弱。XRD,Raman,FT-IR,UV-vis和TG对苯甲酸-γ-Al~2O~3体系的表征结果表明,苯甲酸在室温下即可在γ-Al~2O~3表面自发单层分散;分散后,苯甲酸分子间的氢键缔合结构垮塌;苯甲酸的羧基与γ-Al~2O~3表面羟基发生相互作用并缩水形成类似羧酸盐的结构;分子中的苯环与载体表面没有直接的相互作用。XRD相定量测得的分散阈值为1.1mmol苯甲酸/100m^2γ-Al~2O~3,与按苯环垂直表面计算所得的最大分散容量1.2mmol/100m^2相近。     

二苯并噻吩在MoO3/γ-Al2O3催化剂上的自发单层分散

二苯并噻吩(DBT)在80 ℃下，保持24 h即可在催化剂表面发生自发单层分散，通过XRD分析测定其分散阈值为0.23 gDBT/g MoO3/γ-Al2O3，大于经计算得出的0.15 g/g的平躺吸附密置单层分散容量，在排除实验误差后，推测DBT在MoO3/γ-Al2O3表面存在通过硫原子的端连吸附，FT-IR分析结果与上述推测相一致，分析认为DBT可能通过硫原子吸附在MoO3/γ-Al2O3表面的酸中心上。     

MoO3/γ-Al2O3和MoO3/SiO2体系的表面酸性研究

通过样品在溶液中对正丁胺的吸附等温线和吸附指示剂法,测定了一系列MoO_3/γ-Al_2O_3和MoO_3/SiO_2样品的表面酸性。两种方法所得结果相符。表明MoO_3/γ-Al_2O_3和MoO_3/SiO_2都具有数量可观的、较强的表面酸位;酸量取决于MoO_3的表面浓度,酸量的极大值与由XPS和XRD所测得的MoO_3在载体上单层分散的阈值相对应;酸位数与表面 MoO_3分子数之比高达0.5—1。与纯MoO_3的表面酸性相比较,可以说明作品的表面酸性正是酸性氧化物在载体表面单层分散的结果。     

MoO3在γ—Al2O3表面分散过程的动力学研究

采用原位X-光衍射仪对MoO_3在γ—Al_2O_3表面上的分散过程进行动力学研究。测定了不同温度下的MoO_3分散量随时间的变化。认为分散过程对于表面有效位置是一级反应,并得到了不同温度下的速率常数和分散过程的活化能。     

WO3在γ-Al2O3表面的分散状态和最大分散量

应用X光衍射法(XRD)测定了WO2/γ-Al2O3体系的物相组成和平均晶粒度,以及该体系的孔容和比表面:应用XRD相定量外推法和光电子能谱(XPS)峰强度比(Iw4f/IA12s)法定量测定了WO3在γ-Al2O3表面的最大分散量,测值分别为0.21和0.20gWO3/100m[2]γ-Al2O3,与按照WO3在γ-Al2O3表面作密置单层排布模型的计算值0.189WO3/100m[2],即4.9x10[18]W原子/m[2])相近,对WO3/γ-Al2O3体系与MoO3/γ-Al2O3体系比较和讨论。     

用EXAFS研究NiO在γ-Al2O3表面上的分散

本文使用EXAFS方法研究NiO在γ-Al_2O_3的表面上的分散情况。文章讨论了Ni含量为7%、13%、18%、26%、35%的NiO/γ-Al_2O_3体系的径向结构函数图以及Ni含量为13%、26%的NiO/α-Al_2O_3样品的径向结构函数图,认为NiO能在γ-Al_2O_3表面上成单层分散。分散后的Ni-O距离接近NiO晶体的Ni-O距离,表明Ni离子和γ-Al_2O_3表面上的氧有很强的相互作用。     

CuO/γ-Al2O3单分散催化剂的XAFS研究

采用XAFS方法研究浸渍法制备并于低温焙烧的CuO/γ-Al2O3催化剂的局域结构.对于CuO负载量小于单层分散阈值的CuO/γ-Al2O3(0.4 mmol/100 m2),结果表明,CuO物种是以层状分散的孤立原子簇存在于γ-Al2O3载体表面,其第一近邻Cu－O配位环境的结构与晶态CuO的相似,键长和配位数分别为0.195 nm和4.对于CuO负载量等于单层分散阈值的CuO/γ-Al2O3(0.8 mmol/100 m2),已有少量的CuO纳米颗粒生成.对于CuO负载量大于单层分散阈值的CuO/γ-Al2O3(1.2 mmol/100 m2),其结构与多晶CuO的相近.基于CuO在γ-Al2O3载体上的三种不同分散状态的结构特点,我们提出了CuO/γ-Al2O3催化剂的结构模型.     

CuO/γ-Al2O3单分散催化剂的XAFS研究

采用XAFS方法研究浸渍法制备并于低温焙烧的CuO/γ-Al2O3催化剂的局域结构.对于CuO负载量小于单层分散阈值的CuO/γ-Al2O3(0.4mmol/100m2),结果表明,CuO物种是以层状分散的孤立原子簇存在于γ-Al2O3载体表面,其第一近邻Cu-O配位环境的结构与晶态CuO的相似,键长和配位数分别为0.195nm和4.对于CuO负载量等于单层分散阈值的CuO/γ-Al2O3(0.8mmol/100m2),已有少量的CuO纳米颗粒生成.对于CuO负载量大于单层分散阈值的CuO/γ-Al2O3(1.2mmol/100m2),其结构与多晶CuO的相近.基于CuO在γ-Al2O3载体上的三种不同分散状态的结构特点,我们提出了CuO/γ-Al2O3催化剂的结构模型.     

CrO3在γ-Al2O3和SiO2载体表面的分散状态

用X光衍射(XRD)方法研究了CrO_3/SiO_2和CrO_3/γ-Al_2O_3体系。用相定量外推法测定活性组份在载体表面的最大分散量。在干燥气氛中将CrO_3与载体混合, 并在低于CrO_3熔点的温度下烘烤制备样品, 实验得到CrO_3在SiO_2或者γ-Al_2O_3表面的最大分散量都随温度的升高而增大。CrO_3在SiO_2表面的最大分散量由101 ℃的0.27gCrO_3/g SiO_2到170 ℃的0.38g CrO_3/g SiO_2; CrO_3在γ-Al_2O_3表面的最大分散量由120 ℃的0.22g CrO_3/g γ-Al_2O_3到171 ℃的0.42g CrO_3/g γ-Al_2O_3。CrO_3在SiO_2或γ-Al_2O_3表面的最大分散量超过密置单层量, 可由易聚合形成同多酸根来解释。     

MoO3/γ-Al2O3, MoO3/TiO2和MoO3/SiO2的还原性质及表面状态研究

本文以XPS为检测手段研究了浸渍法制备的MoO_3/γ-Al_2O_3、MoO_3/TiO_2和MoO_3/SiO_2三个系列样品的还原性质。用XPS测定还原后与还原前强度比的比值, 实验结果表明阈值后的样品还原后强度比急剧增大, 说明晶相MoO_3从内孔向颗粒外表面大幅度迁移。而单层MoO_3的性质却各不相同, TiO_2上的单层MoO_3还原后部分凝聚, SiO_2上单层则部分迁移, 而γ-Al_2O_3上的单层MoO_3既不迁移也不凝聚, 亦即单层MoO_3的稳定性是Mo(Al)>Mo(Ti)>Mo(Si)。这也是MoO_3与这三个载体表面作用力强弱的顺序。用计算机对Mo3d谱峰解叠, 结果表明, 几乎所有样品还原后都只含有四价和五价钼。Mo(Al)和Mo(Si)体系还原后Mo~Ⅳ的百分数随负载量的增大而增大。我们认为反映了两种载体表面区域的不均匀性。Mo(Ti)体系还原后Mo~Ⅳ百分数在阈值附近出现转折点, 阈值前各点还原性质相同, 说明在应用还原为探测手段时, TiO_2表面表现为均匀的。以Mo~(Ⅳ)百分数衡量时, 三个体系的还原性为Mo(Al)相似文献   

X光衍射法测定MoO3在r-A12O3表面的单层分散量

晶相MoO_3与载体γ-Al_2O_3充分混合后,在低于MoO_3熔点的适当温度下焙烧(例如400℃焙烧24小时),当MoO_3含量低于某一数值时,MoO_3晶相的X光衍射峰完全消失;MoO_3含量高于该数值时,晶相峰并不消失,但强度减弱。用X光衍射可测定焙烧后MoO_3的残余晶相量,进而可得到MoO_3在γ-Al_2O_3表面的最大分散量为0.12克/100米~2。这与按密置单层排布的模型计算所得到的理论量0.117克/100米~2非常一致。本文方法也适用于其它化合物在载体表面最大分散量的测定。     

MoO3/TiO2-Al2O3催化剂表面结构的LRS研究

负载型Mo和Co-Mo催化剂由于工业上的广泛应用,多年来一直是催化工作者的重要研究课题.工业上应用的Mo和Co-Mo催化剂多以活性Al_2O_3和SiO_2-Al_2O_3为载体,近年来也有用TiO_2,ZrO_2和活性碳作为催化剂载体的研究报导.有关催化剂活性组分与载体之间相互作用对催化剂表面相结构和催化性能的影响方面研究已引起人们的重视。我们多年来在金属-载体相互作用研究基础上,以石油加氢精制催化剂为应用背景,开     

MoO3在Ga2O3上的分散研究

采用ＸＲＤ,ＬＲＳ,ＦＴ－ＩＲ,ＵＶ－ＤＲＳ和ＴＰＲ研究了ＭｏＯ３在体载体Ｇａ２Ｏ３上的分散情况。结果表明：ＭｏＯ３的分散状态受Ｇａ２Ｏ３表面结构的影响,ＭｏＯ３在Ｇａ２Ｏ３上的分散容量约为８．４μｍｏｌ／ｍ＾２;低于该分散容量时,Ｍｏ＾６＋主要以高分散态存在于Ｇａ２Ｏ３表面,而高于该分散容量时,除在分散态的Ｍｏ－Ｏ物种外,还有残余的ＭｏＯ３晶相出现。ＴＰＲ结果表明：ＭｏＯ３低于分散容量时,体系中     

MoO3负载在新型TiO2/γ-Al2O3载体上的表面状态与性质

MoO_3担载在TiO_2或γ-Al_2O_3载体上是一类重要的工业催比剂, 其表面状态和表面性质国内外已有过许多报导, 本文报导~[1-5], MoO_3负载在我们所研制的新型TiO_2/γ-Al_2O_3载体(指以γ-Al_2O_3为骨架, 表面上铺以TiO_2物种的载体)上的表面状态与性质。     

MoO3在低比表面载体α-Al2O3上的分散容量测定

固体化合物如无机氧化物、盐类及有机物等在高比表面载体上呈现自发分散，这是一种相当普遍的现象，在催化剂和吸附剂及材料科学研究方面已有许多研究报导［'－'］．然而，相应固体化合物在情性小比表面载体上的分散还没有人研究过．小比表面载体的结构比高比表面载体稳定，结构较易确定·本文通过表面灵敏的X射线光电子能借（XPS）和X射线衍射方法（XRD）首次测定了Moo。在小比表面。－AI。O。上的分散容量，发现它与在高比表面载体7－AI。Oa上单位面积的分散容量不同，说明a－AI。O。与7－AI。O。的表面结构不同，为研究小比表面…