线条属性对文本感知清晰度的影响模型研究

对数字硬拷贝成像ISO13660标准的线条客观属性量与其形成文本的感知清晰度的相关性进行了研究。实验针对6.5 磅和10.5磅简单笔划的黑体汉字、Times New Roman西文字符,以及等价宽度的线条组成的等宽度明暗条纹,进行了清晰度感知质量的主观测评和相应单线条客观质量属性的测量,并建立了两者间的相关模型。结果表明,线条的对比度、粗糙度、相对模糊度及线宽与文字的感知清晰度具有线性相关性,且感知清晰度与线条的对比度正相关,与粗糙度和相对模糊度负相关;对少笔划或多笔划但间距较大的情况,感知清晰度与线宽正相关,反之,负相关。此外,各线属性量对感知清晰度的影响权重相互间至少有1倍的差距。     

照明光瞳非对称性对光刻成像质量的影响

研究了照明光瞳非对称性对光刻成像质量的影响。通过PROLITH软件计算了环形与四极照明条件下,光瞳非对称性对图形位置偏移量、曝光图形内水平线条与垂直线条的宽度差、曝光图形上密集线条与孤立线条之间线宽偏差的影响。研究结果表明,光瞳非对称性主要影响曝光图形的位置偏移量,光瞳非对称性引起的图形位置偏移量与光瞳非对称性的大小成线性关系。根据套刻精度的误差分配原则,计算得到光瞳非对称性的容限为5%。     

激光光刻中的超分辨现象研究

激光光刻是加工微光学及二元光学掩模的主要手段。光刻的最细线宽对所加工的二元微器件性能起决定作用。本文导出了会聚的高斯光束用于激光光刻时在光刻胶内的光场近似上此可判断出能光刻线条的分辨力。若入射高斯光束受到振中相位调制时,胶层内的光强分布将发生变化,从而影响曝光线条的线宽和质量。计算看出：当入射光中心环受到遮拦时,可以得到超光刻物镜极限分辨的线条宽度（０．６μｍ）,但此时对曝光能量控制要求很高。在激     

利用多层膜生长技术制备纳米印章模板

在纳米印章技术中，为克服电子束刻蚀制备50nm以下线条的技术难点，利用等离子增强化学 气相沉积技术制备了a-Si/SiN_x多层膜，再利用选择性湿法腐蚀或干法腐蚀在横 截面上制备出浮雕型一维纳米级模板. 多层膜子层之间界面清晰陡峭，可以在纳米量级对子 层厚度进行控制，得到了侧壁在纳米尺度上平滑的模板. 通过控制多层膜子层的生长时间， 制备出线条宽度和槽状宽度均为20nm的等间距模板，品质优于电子束刻蚀技术制备的模板. 关键词： 纳米印章模板 多层膜生长技术     

基于LabVIEW的大型轴类零件圆柱度在位测量系统

本文根据波兰凯尔采科技大学提出的V型块法设计了一种大型轴类零件圆柱度的在位测量装置。将在位测量装置所采集到的信号通过数据采集卡在Labview软件平台上进行数据分析和处理,得出被测轴类零件最小二乘圆柱度的值,验证了V型块法在位测量大型轴类零件圆柱度的可行性。     

如何在激光平面干涉仪上精确测量光学面的平行度

<正> 科研工作中常用到各种平行度很高的光学件,例如研究激光频率用的法卜里——珀洛标准具必须具有二十分之一波长的平行度。因此,如何在加工过程中方便准确地测量光学件的微小楔角乃是光学工艺经常需要解决的一个问题。目前,在光学加工中激光平面干涉仪用得比较普遍,通常用等厚干涉法,即通过测量工件自身两个表面产生的等厚干涉条纹的宽度而求出光学零件平行度的方法。下表给出了λ=0.6328微米时在玻璃平板(n=1.5)和空气平板(n=1)中的楔角θ与条纹宽度B的对应数值。     

宽线条(0.5mm以上)分划零件的新工艺

最近我们在生产实践中遇到了一些线型较宽的分划零件,线宽一般都在0.5毫米以上,有亮线条暗背景的,也有暗线条亮背景的,如图所示。     

用圆槽式光胶板加工高精度平面零件

科学技术的迅速发展对光学零件的精度提出了越来越高的要求,单从平面光学零件来讲,不但要求有秒级的平行度,而且要有高精度的平面度及表面光洁度。目前,对这种高精度的平面零件,多采用光胶垫板加工,虽能达到平行度及平面度的要求。但对于表面光洁度要求高(B=Ⅰ～Ⅲ)的零件却存在较大的困难,我们采用圆槽式和圆环式光胶板加工,基本上解决了这一困难,且在平行差的测量上,也比一般光胶板方便。现将平行介质模板和圆光栅板采用圆槽式和圆环式光胶板的加工工艺介绍如下。     

红外透明导电金属网栅薄膜

介绍了一种既高效透过红外光 ,同时又能有效屏蔽电磁干扰的金属网栅薄膜的基本原理和制备工艺。分析了网栅参数对其光学及电磁性能的影响。介绍了利用光刻和镀膜技术 ,在红外基片上制作线条宽度小于 10 μm ,周期约 35 0 μm的金属网栅。     

同一分划板上两种宽度线条的刻制

<正> 在同一分划板上制造两种不同宽度的线条,用制板照相及刻制金属膜层的方法是较容易得到的,但用刻蜡酸蚀方法却有一定的困难。近几年来,我厂在加工一些分划板时,常碰到此种情况,我们根据图纸的要求分别采用了以下两种刻制方法。第一种方法:模板矩形线宽法     

单晶锗双面抛光工艺

<正> 单晶锗光学零件在激光和红外技术中的广泛应用,促进了晶体加工技术的发展。如何提高锗光学零件的平行度和表面光洁度已成为亟待解决的技术问题,因为平行度和光洁度的好坏直接影响着光学膜层的牢固度以及产品的使用性能,其中平行度的优劣对二氧化碳激光器输出功率的影响很大。过去对平行度要求在20″以内的高精度锗平镜的加工,确保质量的加工方法是采用光胶,而晶体零件的光胶,环境条件要求严格,工艺复杂,表面光洁度也难以保证。为此,我     

亚微米线条的微纳光纤笔直写技术研究

提出了一种利用微纳光纤笔(MNFP)直接写入亚微米线条的技术,利用微纳光纤笔在光刻胶表面接触式扫描,从而曝光产生亚微米线条。热熔拉伸和湿法刻蚀两步工艺相结合的新方法被用来制做微纳光纤笔。实验研究表明,直写分辨率可以达到稳定的200nm线宽。这一分辨率已经突破了曝光波长(442nm)的衍射极限。结果也显示了,通过改变光强,微纳光纤笔可以直写曝光出亚微米范围内宽度可变的线条。     

读者信箱

一、用球面铣磨机加工球面零件有时出现非球面,为什么?在球面铣磨机上加工球面零件,有时会出现这种情况,即机床调整好开始加工的球面是合格的,但连续加工一段时间后其擦贴度变成边缘和中间接触,也就是说工件面形的腰部凹下去,为什么?引起原因如下:     

长圆柱形光学零件的端面加工

<正> 如果把圆形平面零件的厚度逐渐增大,当其厚度与直径之比值大于1时其“厚”度应称为“长”度了,这样的零件称长圆柱形光学零件。这种光学零件随着激光技术的问世和迅速发展其应用范围日益扩大。如在激光比长仪、激光     

多狭缝法测量激光尾场电子束发射度的模拟研究

发射度是描述束流品质的重要物理量,根据发射度和传输矩阵可以准确计算束流包络和发散角的变化。在考察传统加速器束流发射度测量方法的基础上,提出采用多狭缝法对激光尾场产生的电子束发射度进行测量。采用宽度为20 m的多狭缝板对发射度为0.05 mmmrad的激光尾场加速电子发射度进行测量,数值模拟结果表明采用多狭缝法测量的相对误差可以控制在5%以内。并给出了不同狭缝参数对测量精度的影响,模拟结果表明狭缝宽度对发射度测量精度影响最大。狭缝宽度越窄,测量精度越高,反之,则越低。     

部分相干光束照射的透镜轴棱锥获得均匀焦线

从部分相干光的交叉谱密度函数传输公式出发,推导了高斯谢尔模型(GSM)光束被球差透镜衍射后轴上光强分布的解析公式,并进行了数值模拟和物理分析。结果表明,具有一定束腰宽度和空间相干度的GSM光束经过负球差透镜聚焦后,可以获得轴上光强的均匀分布。通过改变GSM光束的束腰宽度和空间相干度来实现轴上光强均匀分布的方法很简单,转换效率高。     

蒙特卡罗方法在径迹显微技术中的应用

径迹显微技术(PTA)是研究硼的晶界偏聚的行之有效的方法.本文运用蒙特卡罗方法建立了径迹固体探测器上蚀坑带宽度与晶界区域硼富集带实际宽度之间的对应关系.模拟计算结果表明,蚀坑带宽度受实际富集带宽度和晶界平面与磨面夹角2个因素影响.蚀坑带宽度随晶界硼富集带宽度的增加与晶界面与探测器平面夹角的减小而增加,利用本文程序计算结果,可根据蚀坑带宽度和晶界平面与磨面夹角更准确的获得实际富集带宽度.     

用AIM-65微型机控制光学零件表面疵病检查仪

<正> 引言光学零件表面疵病检查仪是用来定量检测光学零件表面疵病的仪器(以下简称疵病检查仪)。它的工作原理是将He-Ne激光器发出的光束经扩束和聚焦,使光束焦点落在被测透镜表面上,聚焦光点由透镜中心向边缘作螺旋扫描。当光点遇到划痕或斑点时产生脉冲信号,累计脉冲的宽度就可实现对表面疵病的自动检测。从已收集到的资料,我们知道国外的同类仪器和国内正在研制的仪器其电气控制部分均是     

脉冲X射线剂量率测量不确定度分析

"强光一号"短脉冲高能X射线剂量率测量,主要包括脉冲射线总剂量与脉冲射线时间宽度的测量,前者采用热释光剂量计测量,后者采用PIN半导体探测器记录。根据不确定度传递数学模型,分析了影响X射线剂量和脉冲宽度测量结果的因素。针对"强光一号"短脉冲高能X射线测量,定量地给出了各种因素引入的测量不确定度,总剂量测量是影响剂量率测量准确性的决定性因素,其相对标准不确定度为25.1%,脉冲宽度测量不确定度为3.7%,剂量率测量扩展不确定度为50.8%,置信概率95%。     

频率间隔可调的平坦多载波光源结构设计

为了克服密集波分复用系统中多个光源难以同步且成本高等缺点,提出了一种平坦度好、子载波数多、频谱宽度大且频率间隔可调的多载波光源生成结构.系统结构由马赫增德尔调制器、电吸收调制器和相位调制器级联组成,在单一正弦信号驱动下,输出多个低平坦度、频率间隔可调的子载波.在驱动信号频率为9和12.5GHz,系统生成的子载波数量为31个的条件下,平坦度可达到0.09dB.当驱动信号频率在3GHz~16GHz范围变化时,输出的子载波数量基本不变,且在子载波数量为31个的条件下,平坦度均小于0.15dB.当驱动信号频率为16GHz,平坦度小于0.15dB时,系统输出的多载波光源频谱宽度可达480GHz.此外,分析了MZM的上、下臂偏置电压差、EAM的啁啾因子、调制指数对生成多载波光源的平坦度、子载波数以及频谱宽度的影响.