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在半导体物理知识的教学过程中,PN结的伏安特性I=Is(eqV/kT-1)的推导是一个难点。在不少教材中只给出这一公式,并根据这一公式画出特性曲线。在大多数的参考书中这一公式的推导过程繁琐冗长,学生不易理解。本文给出一个比较完整、简洁的推导。 相似文献
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PN结正向伏安特性曲线随温度的变化 总被引:4,自引:0,他引:4
介绍了在不同温度下,PN结正向伏安特性曲线的自动测量方法。讨论了PN结伏安特性与温度的关系.由于正向结电压小于内建电势差,温度升高或正向结电压增加,正向结电流将增大,温度升高反向结电流也相应增加.当温度趋向OK时。正向结电压趋向内建电势差。 相似文献
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为培养学生的思维能力,开发了不同温度下PN结伏安特性自动测试系统的设计与实验.实验以PN结为测试对象,通过测试热敏电阻的温度特性,在自动检测系统中并以其为热探头设计了满足特定要求的温度传感器. 相似文献
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分别在n型半绝缘Si、弱n (n )以及强n (n+ )型Si片 (1 0 0 )面上用射频磁控反应溅射法和直流磁控反应溅射法制备了p型ZnO薄膜以及ZnO同质p n结。其中在生长p型ZnO时 ,反应室中通以过量的氧。对上述p型和n型ZnO薄膜进行了X射线衍射测量 ,在 34.1°附近得到了 0 .3°左右半峰全宽的ZnO(0 0 2 )衍射峰。ZnO薄膜的原子力显微镜图像上可见六角型的自组装结构。阴极射线荧光的测量显示了位于 390nm的紫外特征峰。用I V特性仪测量了上述ZnOp n结原型器件的I V电学输运曲线 ,其正向显示了约为 1 .1V的阈值 ,与日美科研人员用直流溅射和扩散法制备的ZnOp n结相似 ,但反向特性明显优于他们的 相似文献
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本文给出了10K到150K低温下硅高频小功率晶体管是民不充增益的实验结果,发现随着温度的降低lnβ-1/T曲线的斜率在减小,并且在43K左右β值急剧增大。 相似文献
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利用LP-MOCVD分别生长Zn和S掺杂的In0.5(Ga1-xAlx)0 5P外延层,研究生长温度、掺杂源流量、V/Ⅲ比、Al组分以及衬底晶向偏离等生长条件对外延层掺杂浓度的影响.实验结果表明:降低生长温度和Al含量、增加DEZn流量、选择由(100)向(111)A偏6~15的衬底都有利于增加IRGaAlP合金中Zn的掺杂浓度;提高生长温度和增加SIH4流量、减小Al含量和V/Ⅲ比,都有助于增加Si掺杂浓度,而衬底晶向对Si掺杂浓度无影响. 相似文献