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相似文献
 共查询到17条相似文献,搜索用时 75 毫秒
1.
唐振方  叶勤  吴奎  彭舒 《物理实验》2006,26(2):11-14
采用椭偏测厚仪测量薄膜的折射率,用来修正紫外可见吸收光谱仪极值法测量膜厚的数据.通过制备掺铝氧化锌(ZAO)薄膜及SEM断口观察进行实验验证,证实该修正方法有助于提高膜厚测量精度.联用这2种常规仪器,可以方便地获得0~20μm宽范围的透明光电子薄膜的厚度,数据采集与处理简单快捷,可满足大部分薄膜工艺研究和生产的需要.  相似文献   

2.
椭偏测厚仪测量结果的计算机数据处理   总被引:2,自引:0,他引:2  
本详尽介绍了椭偏术测量单层透明薄膜折射率和厚度的方法,采用一种数字迭代计算方法,由测量得到的起偏角A和检偏角P直接算出所测薄膜的折射率和厚度。经过数值试验及与标准值比对,由此编制的计算程序具有准确,快速,方便的特点。  相似文献   

3.
孙兆奇 《物理实验》1992,12(3):142-143
薄膜科学与技术是当前高科技中的一个领域,在目前各高等院校开设的近代物理实验课程中均有用反射型椭偏仪测量薄膜厚度及折射率的内容。然而,本实验内容的安排却存在一个问题,只能确定膜厚在第一周期以内的值而不能由实验数据本身确定膜厚的周  相似文献   

4.
多功能椭偏测厚仪   总被引:15,自引:0,他引:15  
研究成功一台变入射角反射式消光法多功能智能椭偏测厚仪。实验表明 :仪器的测厚准确度为± 0 1nm ;椭偏参数Ψ和Δ的测量重复性精度分别为± 0 1°和± 0 3° ,适用于纳米级薄膜厚度和折射率的测量  相似文献   

5.
分析了高校椭偏测厚实验中存在的问题,成功研制出具有教学特点的多功能智能椭偏测厚仪和编制了一套该实验的CAI课,实验表明:椭偏测厚实验的计算机辅助教学效果良好。  相似文献   

6.
椭偏仪测量粗糙面薄膜的厚度和折射率的研究   总被引:4,自引:0,他引:4  
本文阐述了漫反射系数和粗糙面薄膜的厚度,寻出了漫反射椭偏测量术的方程,实用中测量了湿敏元件的湿敏薄膜厚度。  相似文献   

7.
沙洪均 《物理实验》1991,11(5):222-223,221
WJZ型多功能激光椭圆偏振仪是在JJY型分光计上附加激光椭偏装置而组成。兼有分光计和椭偏仪的功能,可用于测量不同基底上介质薄膜的厚度和折射率;除作为高校中级物理实验外,亦可用于材料表面光学参数的分析研究。但是,与原椭偏装置相配用的椭偏仪数据表,只能适用于K_q基底上生长的氧化锆薄膜标准试样,这就实际上限制了椭偏仪的使用范围;另一方面,即使对上述标准试样测量,所获数据往往与数据表提供的数值偏离甚大,直接影响实验效果。经过多次实际试验,本文分析了三相椭偏方程解的特性,讨论了不同条件下椭偏法测厚及折射率的计算机解算。  相似文献   

8.
基于梯度的线性反演方法计算效率高,基于随机扰动的模拟退火方法寻找最优解能力强针对薄膜椭偏测量的多极值问题,综合两者的优点,提出一种求解薄膜椭偏测量问题的混合反演算法.模型每次扰动采用线性寻优方法搜寻局部最优解,叠代过程中采用均匀设计的模拟退火方法随机搜寻模型,使该算法有跳出局部最优解的能力,可以在较少的叠代次数内搜寻到全局最优解,从而提高求解薄膜椭偏测量非线性反演方法的计算效率.对反演过程控制参数进行讨论,该算法具有自适应的特点.计算表明,该算法可有效求解薄膜椭偏测量的多极值问题.  相似文献   

9.
结合激光外差干涉法和透射式椭偏测量原理,研究了一种快速、高精度测量纳米厚度薄膜光学参数的方法。计算并分析了复灵敏度因子随薄膜参数和入射角度的变化规律、椭偏参数的选择及容许测量误差。两个声光调制器产生20kHz的拍频,采用简单的直接比相方法即可获得优于0.1°的相位分辨率,而且测量系统中没有使用任何波片和运动部件,抗干扰能力强且测量过程完全自动化,适用于工业现场在线连续测量。实验数据和理论分析表明,此方法可以达到亚纳米级测量精度。  相似文献   

10.
椭偏透射法测量氢化非晶硅薄膜厚度和光学参数   总被引:1,自引:0,他引:1       下载免费PDF全文
针对多角度椭偏测量透明基片上薄膜厚度和光学参数时基片背面非相干反射光的影响问题,报道了利用椭偏透射谱测量等离子增强化学气相沉积法(PECVD)制备的a-Si:H薄膜厚度和光学参数的方法,分析了基片温度Ts和辉光放电前气体温度Tg的影响.研究表明,用椭偏透射法测量的a-Si:H薄膜厚度值与扫描电镜(SEM)测得的值相当,推导得到的光学参数与其他研究者得到的结果一致.该方法可用于生长在透明基片上的其他非晶或多晶薄膜. 关键词: 椭偏测量 透射法 光学参数 氢化非晶硅薄膜  相似文献   

11.
玻璃基片上SiO_2膜层厚度的测量方法   总被引:1,自引:0,他引:1  
钠钙玻璃基片在液晶显示器件(LCD) 等制造业中得到了广泛的应用。为防止基片中的碱金属离子扩散到器件的工作介质中,进而影响其化学稳定性和使用寿命,一般要在基片表面镀上一定厚度的SiO2 膜层,以便起到阻挡层的作用。基于P 蚀刻剂对SiO2 膜层和基片有显著不同的蚀刻速度,提出了一种测量玻璃基片上的SiO2 膜层厚度的方法,即:利用表面轮廓仪,在测量三个不同的蚀刻数据后,计算出SiO2 膜层的厚度。以用射频溅射法制备的SiO2 膜层为样品进行了测量,具体的实验数据证实了该方法的可靠性和有效性  相似文献   

12.
CCD在光学镀膜宽带膜厚监控系统中的应用研究   总被引:5,自引:2,他引:5  
讨论了 CCD的主要特性及对宽带膜厚监控系统的影响 ,介绍了典型的 CCD数据采集系统。建立了一套基于 CCD的宽带膜厚监控系统 ,并对该系统进行了光谱标定及光谱补偿 ,给出了提高信噪比及减小非线性影响的处理方法。  相似文献   

13.
The Blodgett-Langmuir technique is used to deposit multilayer films of barium stearate on EDF glass. The thickness of the film varies in steps of 10 monolayers, and the thickness of each monolayer is about 25 Å. When viewed in white light at near normal incidence vivid interference colours are seen in reflection, with good contrast between adjacent steps. The reliability of the step gauge is tested for dielectric films of MgF2.  相似文献   

14.
采用提拉法在硅基底上制备了多孔溶胶凝胶SiO2膜,用椭偏法测量薄膜的厚度与折射率,考察了提拉速度和胶体浓度对膜层厚度与折射率的影响。对厚度与提拉速度的关系进行线性与幂函数拟合,并比较分析两种拟合的关系及其对工艺流程的作用。比较了不同浓度胶体所得到的同一厚度薄膜的折射率变化规律。结果表明:对于同一胶体浓度下薄膜厚度与提拉速度的正相关关系,线性拟合相比幂函数拟合可以更好地解释实验结果的规律性。同时,折射率在一定范围内也会随着提拉速度的增加而减小。镀同一厚度膜时,浓度大的胶体膜层折射率大。通过对提拉速度和胶体浓度的控制可以得到理想的薄膜厚度与折射率。  相似文献   

15.
采用提拉法在硅基底上制备了多孔溶胶凝胶SiO2膜,用椭偏法测量薄膜的厚度与折射率,考察了提拉速度和胶体浓度对膜层厚度与折射率的影响。对厚度与提拉速度的关系进行线性与幂函数拟合,并比较分析两种拟合的关系及其对工艺流程的作用。比较了不同浓度胶体所得到的同一厚度薄膜的折射率变化规律。结果表明:对于同一胶体浓度下薄膜厚度与提拉速度的正相关关系,线性拟合相比幂函数拟合可以更好地解释实验结果的规律性。同时,折射率在一定范围内也会随着提拉速度的增加而减小。镀同一厚度膜时,浓度大的胶体膜层折射率大。通过对提拉速度和胶体浓度的控制可以得到理想的薄膜厚度与折射率。  相似文献   

16.
基片下磁场磁控对溅射辉光及薄膜梯度的影响   总被引:1,自引:0,他引:1       下载免费PDF全文
赵新民  狄国庆 《物理学报》2004,53(1):306-310
溅射时在基片下方放置磁铁,让来自基片下方的磁场发挥磁控作用,以此来研究基片下磁场磁控溅射的方法.发现辉光形貌以及沉积的薄膜厚度分布均发生明显变化的同时,辉光的外形也随着外加磁铁直径的变化而变化.运用磁荷理论对空间磁场分布进行模拟,解释了辉光形貌变化的机理;运用沉积粒子在外加梯度磁场中运动理论解释了膜厚分布. 关键词: 磁控溅射 辉光 磁场模拟 膜厚梯度  相似文献   

17.
Abelès' equations (in terms of 1; 2 and optical film thickness x) for all the eight optical functions (Rs; Rp; Ts; Tp; Fs; Fp; Xs and Xp) have been expressed in the form of equations representing standard geometrical three-dimensional figures. Xs and Xp are represented by plane surfaces whilst the remainder are skew cones. Translated into the n; k notation; Xs and Xp generate hyperboloids whilst the remainder produce paraboloids whose cross-sections are parts of figures of eight.  相似文献   

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