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本文简要介绍激光蒸发淀积高Tc超导薄膜技术的基本原理.主要工艺特点,各种激光器在制备高Tc超导薄膜中的应用及所取得的重要成果. 相似文献
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利用脉冲激光淀积法在Pt/Ti/SiO2/Si衬底上制备了28mol%La掺杂钛酸铅薄膜.采用不同的淀积氧气压,并分析了其对薄膜微观结构和介电性能的影响.结果表明,在2Pa左右的气压下淀积的薄膜具有好的结晶度和介电系数.在频率为10kHz时28mol%La掺杂钛酸铅薄膜的介电系数达852,并且保持了较低的损耗.同时制备了其他La掺杂浓度的PbTiO3薄膜,发现它们也有类似的特点.对此作了定性解释.
关键词:
脉冲激光淀积
PLT薄膜
气压
介电增强 相似文献
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激光淀积YBa2Cu3O7外延超导薄膜 总被引:2,自引:2,他引:2
利用准分子脉冲激光成功地在(100)SrTiO_3与(100)Y-ZrO_2衬底上淀积了 YBa_2Cu_3O_7超导薄膜,T_c(R=0)>90K,J_c(T<82K)>1×10~6A/cm~2.研究了衬底温度对外延YBa_2Cu_3O_7薄膜超导性能及结构的影响. 相似文献
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利用我们设计的一套光学变换传输系统实现了激光束在超导靶上一定范围内扫描消融来淀积高Tc超导薄膜。实验表明用这种激光扫描消融方法可使大尺寸超导薄膜的厚度均匀性得到较大的改善。我们采用激光扫描半径为9mm在12mm×33mm的Y-ZrO2基片上淀积出零电阻温度Tc≥90K,临界电流密度Jc(零磁场,77K)≥1×106A/cm2,薄膜c轴择优取向,厚度均匀性较好的YBa
关键词: 相似文献
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应用一光学变换传输系统,使得激光束通过该系统后可绕一定的半径旋转,旋转的激光束消融淀积大面积YBa2Cu3O7超导薄膜。以其片中心处的超导薄膜厚度的90%为均匀区域界限,激光旋转半径为0,3mm和9mm时,淀积的超导薄膜厚度均匀区域面积分别为0.14cm^2、0.82cm^2、6.79cm^2。 相似文献
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ZnS和MgF2薄膜的离子辅助淀积 总被引:2,自引:0,他引:2
用Ar离子辅助制备了ZnS和MgF_2薄膜,依据滤光片吸潮波长漂移的测量,MgF_2膜的聚集密度大约从未轰击时的0.8上升到轰击后的0.9~0.95,实验发现,高能离子轰击(>1keV),膜层的吸收散射损耗增加,而低能离子轰击(<700eV)可以保持优良的光学性质,并显著地增加膜层的牢固度,这对于温度敏感的基底制备耐久薄膜是一个重要的应用. 相似文献
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新型物理喷束淀积技术制备富勒烯薄膜 总被引:2,自引:1,他引:1
建立了一套新型物理喷束淀积装置,并且成功地进行了薄膜制备工作,所制备的薄膜包括C60,C70,PVK,PVK/C60等薄膜,并测量了物理喷束淀积技术制备得的C60薄膜,PVK/C60混合膜的吸收光谱,荧光光谱,时间分辨率荧光光谱,与C60等薄膜的高真空蒸发膜的相应光谱进行了比较,结果表明,物理喷束淀积可以制备具有很好质量的高抗光损伤薄膜,薄膜的荧光衰减特性与蒸发膜有很大差别。采用该法制备的PVK/ 相似文献
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金刚石簿膜淀积过程中微波等离子体特性 总被引:1,自引:0,他引:1
高克林 《核聚变与等离子体物理》1992,12(2):124-128
一、引言 在金刚石薄膜的制备过程中,人们往往监测成膜过程中的宏观参量,使其工艺的重复性,优选性受到了很大限制。而随着对膜质量和结构的要求越来越高,人们开始开展对低压下合成金刚石机理的研究,但至今未见系统地研究宏观参量与等离子体参量方面的工作报道。 相似文献
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众所周知,激光束能量密度高、光斑面积小、单色性好、方向性强和容易控制的特点导致它在材料加工(打孔与焊接)、生物、化学、医学和通信方面的广泛应用.最近发现采用脉冲激光淀积技术制备超导、介质和半导体薄膜时具有纯度高、成分准确、厚度均匀、重复性好和操作方便等许多优点,因而它已经成为最有发展前途的制膜新工艺.本文利用激光的线性吸收模型和溅射粒子角分布函数导出了固体靶刻蚀速率和薄膜淀积速率的解析计算公式.实验表明,计算值与实验值之间的相对误差都不超过10%. 相似文献
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吴嘉丽 《工程物理研究院科技年报》2003,(1):296-297
低压化学气相淀积(LPCVD)设备主要为微电子机械系统(MEMS)在硅基片上淀积Si3N4、Poly-Si(多晶硅)、SiO2薄膜。承担形成微传感器和微执行器的抗蚀层、结构层和牺牲层的加工任务。是MEMS技术中的主要生产工序之一,也可以用于集成电路钝化膜制备。 相似文献