稀土-铱-锑合金热电材料的结构与量子化学计算研究

应用离散变分Ｘａ量子化学计算方法,研究了ＩｒＳｂ３,Ｉｒ４ＮｄＧｅ３Ｓｂ４和Ｉｒ４ＳｍＧｅ３Ｓｂ９三个ｓｋｕｔｔｅｒｕｄｉｔｅｓ的组成、结构、化学键和热电性能之间的关系。对Ｉｒ４ＮｄＧｅ３Ｓｂ９和Ｉｒ４Ｓｍｅ３Ｓｂ９,用多个模型研究了稀土元素振动的结构。计算结果表明,稀土原子靠近Ｇｅ原子的模型比靠近Ｓｂ原子的模型更为稳定,热导率也较低。Ｉｒ４ＮｄＧｅ３Ｓｂ９的共价键比Ｉｒ４ＳｍＧｅ３Ｓｂ９弱,Ｉｒ     

高功率808nm InGaAsP—GaAs分别限制结构的半导体激光器

介绍了研究分别限制结构ＩｎＧａＡｓＰ－ＧａＡｓ半导体激光器所得到的最新成果。利用引进的俄国技术，基于量子阱结构的ＩｎＧａＡｓＰ－ＧａＡｓ激光器，可用短时间液相外延技术制造。在ＧａＡｓ衬底上制成的ＩｎＧａＡｓＰ－ＧａＡｓ分别限制结构的激光器，主要参数如下：发射波入λ＝８０８ｎｍ，阈值电流密度Ｊ＝３００Ａ／ｃｍ＾２，对于条宽ω＝１００μｍ的激光器，连续功率为１－２Ｗ。     

酶表面上的分形反应

本文报道了酶反应中的分形几何效应，用模拟方法研究了催化中的表面标度关系，假设“聚集态酶”有ＤＬＡ形态。每个酶分子作为逾集团中的一个分形体，则酶表面的活性点几率分布的ＤＡＳ（ａ，Ｍ）∝ｅｘｐ（－Ａ／ｌｎＭ）（ａ－ａ０（Ｍ），分雏为Ｄｘ＝Ｉｎ（ｂ－θ）（ｂ－θ＋１）／２＋２θ）／Ｉｎｂ。这里Ｍ是定域质量，ａ０（Ｍ）＝ＢＩｎＭ，Ａ，Ｂ是常数，ｂ是回转半径，θ是酶集团表面“空位”数，模拟知“中毒”时间Ｔｐ     

光电子能谱研究O2和Rb在InSb（111）表面上共吸附

本文利用光电子能谱（ＸＰＳ和ＵＰＳ）技术研究了室温下Ｏ２和Ｒｂ在ＩｎＳｂ（１１１）表面上共吸附，分析了碱金属Ｒｂ在ＩｎＳｂ（１１１）表面上吸附的键合状态以及对衬底的催化氧化作用。结果表明，Ｒｂ与ＩｎＳｂ表面上的Ｓｂ发生化学反应，Ｒｂ在ＩｎＳｂ表面上吸附提高了衬底表面的氧化速率，衬底表面上的Ｉｎ和Ｓｂ被氧化，分别生成锑和铟的氧化物。在Ｏ２吸附的过程中，还观察到两种Ｒｂ的氧化物，即过氧化铷（Ｒｂ２Ｏ２     

荧光XAFS研究Si可稀浓度杂质的区域结构

荧光ＸＡＦＳ研究Ｓｉ晶体中等电子，缺电子和富电子杂质原子的区域环境结构。结果表明杂质原子的电子构型决定了杂质原子对Ｓｉ区域晶格形变的影响。相对于共价键长ＲＳｉ－Ｓｉ（０．２４０ｎｍ）来说，富电子杂质Ａｓ导致Ｓｉ晶格在Ｓｉ（１１１）方向的ＲＡｓ－Ｓｉ键长产生０．００４ｎｍ的反应增长，等电子杂质Ｇｅ的Ｒ－Ｇｒｅ－Ｓｉ和缺电子杂质Ｇａ和ＲＧａ－Ｓｉ键长收缩０．００２ｎｍ。     

808nmInGaAsP／InGaP／GaAs激光器列阵

研制出３０个单元的ＩｎＧＡａＳｐ／ＩｎＧａＰ／ＧａＡｓ分别限制双异质结单量子阱激光器列阵,器件外微分量子效率达７８％,发向波长８０８ｎｍ,准连续输出的光功率达２７Ｗ。     

GaInSb/GaSb量子阱结构的低温光致发光谱

ＧａＩｎＳｂ三元合金半导体可用于制作工作于１．５５～５．５μｍ波段范围的光电子器件．在光通讯方面,需要２．５５μｍ波长的激光器和接收器,ＧａＩｎＳｂ半导体合金无疑是一种可选的材料．此外,这种材料也可用于制作高速电子器件,与ＧａＡｓ基异质结构相比,Ｇａ...     

1．55μm InGaAsP／InP应变量子阱激光器的LP－MOCVD生长

本文首次报导了生长温度为５５０℃，以三甲基镓（ＴＭＧａ）和三甲基铟（ＴＭＩｎ）为Ⅲ族源，用低压金属有机物气相沉积（ＬＦＭＯＣＶＤ〕技术，高质量１．６２ｕｍ和１．３ｕｍＩｎＧａＡｓＰ及Ｉｎ０．５７Ｇａ０．４３Ａｓ０．９８Ｐ０．０４／Ｉｎ０．７３Ｇａ０．２７Ａｓ０．６Ｐ０．４量子阶结构的生长，并给出了１．５５ｕｍＧａＡｓＰ／ＩｎＰ分别限制应变量子阱结构激光器的生长条件，激光器于室温下脉冲激射，其阈值电流密度为２．４ｋＡ／ｃｍ２。     

垂直电子耦合InGaAs量子吉的光学特性

报导了ＩｎＧａＡｓ／ＧａＡｓ和ＩｎＧａＡｓ／ＡｌＧａＡｓ垂直耦合量子结在注入式激光器的制备工艺及其光致荧光谱，量热吸收谱和电致荧光谱的特性，该激光器的连续波波发光功率在室温下可达１Ｗ。     

1．55μmInGaAsP及其相应量子阱结构的LP－MOCVD生长

本文研究了用低压金属有机化合物汽相外延（ＬＰ－ＭＯＣＶＤ）技术在（１００）ＩｎＰ衬底上生长ＩｎＧａＡｓｐ体材料及ＩｎＧａＡＰ／ＩｎＰ量子阱结构材料的生长条件。三甲基镓（ＴＭ６３）、三甲基铟（ＴＭｈ）和纯的砷烷（Ａ８Ｈ３）、磷烷（ＰＨ３）分别用作Ⅲ族和Ⅴ族源，在非故意掺杂情况下，ＩｎＧａＡｓＰ材料的载流子浓度为３．６×１０１５ｃｍ－３；在液氦温度和室温下，与ＩｎＰ晶格匹配的ＩｎＧａＡｓＰ光致发光半峰宽分别为１９．２ｍｅＶ和６３ｍｅＶ；对外延层的组分及厚度均匀性分别进行了转靶Ｘ光衍射仪，低温光致发光和扫描电子显微镜分析，对不同阱宽的量子阱结构材料测出了由于量子尺寸效应导致光致发光波长随阱宽增加而红移现象。     

四元合金Ga_xIn_（1－x）As_（1－y）Sb_y的禁带宽度与组分关系的计

四元合金Ｇａ＿ｘＩｎ＿（１－ｘ）Ａｓ＿（１－ｙ）Ｓｂ＿ｙ的禁带宽度与组分关系的计算与讨论田园，张宝林，金亿鑫，周天明，李树纬，宁永强，蒋红，元光（中国科学院长春物理研究所，长春１３００２１）ＧａｌｎＡｓＳｂ是直接带隙、窄禁带的半导体材料，其波长范围为...     

自组织InAs／GaAs量子垂直排列生长研究

利用自组织生长ＩｎＡｓ／ＧａＡｓ量子点的垂直相关排列机制，生长了上下两层用６．５ｎｍＧａＡｓ间隔的ＩｎＡｓ结构、下层以ＩｎＡｓ已经成岛，由于应力传递效应，上层ＩｎＡｓ由二维生长向三维成岛生长的转变提前发生，临界厚度从１．７ＭＬ变成１．５ＭＬ，透射业微镜截面象显示形成上下两层高度差别很大的ＩｎＡｓ量子点，但是由于两层量子点之间存在器存在强烈的电子耦合，光致发光谱中只有与含大量子点的ＩｎＡｓ层相对应的     

退火及铟含量对InGaAs量子点光学特性的影响

研究了退火条件和 Ｉｎ 组份对分子束外延生长的 Ｉｎ Ｇａ Ａｓ 量子点（分别以 Ｇａ Ａｓ或 Ａｌ Ｇａ Ａｓ 为基体）光学特性的影响。表明：量子点中 Ｉｎ 含量的增加将导致载流子的定域能增加和基态与激发态之间的能量间隔增大。采用垂直耦合的量子点及宽能带的 Ａｌ Ｇａ Ａｓ 基体可增强材料的热稳定性。以 Ａｌ Ｇａ Ａｓ 为基体的 Ｉｎ Ｇａ Ａｓ 量子点,高温后退火工艺 （ Ｔ＝ ８３０℃）可改善低温生长的 Ａｌ Ｇａ Ａｓ 层的质量,从而改善量子点激光器材料的质量。     

Multiple Effective Two-photon Correlated-emission Optical Bistability with Injected Squeezed Vacuum

ＭｕｌｔｉｐｌｅＥｆｅｃｔｉｖｅＴｗｏ┐ｐｈｏｔｏｎＣｏｒｅｌａｔｅｄ┐ｅｍｉｓｉｏｎＯｐｔｉｃａｌＢｉｓｔａｂｉｌｉｔｙｗｉｔｈＩｎｊｅｃｔｅｄＳｑｕｅｚｅｄＶａｃｕｕｍＨＵＡＮＧＨｏｎｇｂｉｎａ），ｂ）ＸＩＮＧＬｉｎｇｌｉｎｇｃ）ＳＯＮＧＪｉｌ...     

快速光电探测器脉冲响应的电光取样测量

建立了半导体激光器电光取样系统。选择１．３μｍ，ＩｎＧａＡｓ增益开关半导体激光器作为取样光源，利用微带ＧａＡｓ衬底的纵向电光效应作为电光取样器，测量了ＩｎＧａＡｓ／ＩｎＰ雪崩二极管的脉冲响应特性。分析表明，本系统具有０．３５ｍＶ／√Ｈｚ的电压灵敏度和９ｐｓ的时间分辨率。     

聚糖联乙炔类脂轭合物与大肠杆菌的识别作用研究

聚糖联乙炔类脂轭合物与大肠杆菌的识别作用研究＊范翊ａ）李亚军ａ）ＷａｎｇＧＰｂ）张立功ａ）蒋大鹏ａ）于雅琴ｃ）黎明兰ｃ）ａ）（中国科学院长春物理研究所，长春１３００２１）ｂ）（ＤｅｐａｒｔｍｅｎｔｏｆＣｈｅｍｉｓｔｒｙ，ＷａｙｎｅＳｔａｔｅＵｎｉｖｅ...     

Amplified Spontaneous Emision of K_2 Yellow Band Excimer and Its Gain Measurement by e-beam-pumping

ＡｍｐｌｉｆｉｅｄＳｐｏｎｔａｎｅｏｕｓＥｍｉｓｉｏｎｏｆＫ２ＹｅｌｏｗＢａｎｄＥｘｃｉｍｅｒａｎｄＩｔｓＧａｉｎＭｅａｓｕｒｅｍｅｎｔｂｙｅ┐ｂｅａｍ┐ｐｕｍｐｉｎｇＸＩＮＧＤａ１）ＷＡＮＧＱｉ２）ＴＡＮＳｈｉｃｉ１）（１）Ｉｎｓｔｉｔｕｔｅｏｆ...     

In_xGa_（1－x）As缓冲层上In_yGa_（1－y）As／（Al）Ga

本文中，发现在Ｉｎ＿ｘＧａ＿(１－ｘ)Ａｓ缓冲层上非故意掺杂的ＩｎｙＧａ＿(１－ｙ)Ａｓ／（Ａｌ）ＧａＡｓ超晶格样品中存在着两个互相反向的自建电场区，一个位于样品表面，另一个位于Ｉｎ＿ｘＧａ＿(１－ｘ)Ａｓ缓冲层和超晶格界面．据此，合理地解释了样品的光伏测试结果，并对此类样品的ＭＯＣＶＤ生长工艺给予指导．     

自发有序Ga_（0．5）In_（0．5）P合金的拉曼光谱研究

自发有序Ｇａ＿（０．５）Ｉｎ＿（０．５）Ｐ合金的拉曼光谱研究李国华，刘振先，韩和相，汪兆平，董建荣（中国科学院半导体研究所，半导体扭晶格国家重点实验室北京１０００８３）（中国科学院半导体研究所，半导体材料科学实验室北京１０００８３））ＲａｍａｎＳｃａ...     

Si｛111｝的吸附表面结构

利用低能电子衍射研究了金属和非金属吸附在Ｓｉ｛１１１｝表面的表面结构。结果显示出：对Ａｌ、Ｇａ、Ｂｉ和Ａｕ原子，形成α－Ｓｉ｛１１１｝３×３Ｒ３０°－Ｍ或β－Ｓｉ｛１１１｝３×３Ｒ３０°－Ｍ结构的共价吸附。对Ｌｉ、Ｎａ和Ａｇ原子，形成正离子吸附，全部经高温解吸后，便诱导出Ｓｉ｛１１１｝１×３重构。对Ｔｅ原子，形成负离子吸附，经高温解吸后，便诱导出Ｓｉ｛１１１｝类（１×１）结构。