强度调制光电流谱研究纳晶CdSe薄膜电极的界面电荷转移过程

用强度调制光电流谱（ＩＭＰＳ）研究纳晶ＣｄＳｅ薄膜电极在多硫化钠溶液中的界 面电荷转移性能．从不同外加电压和不同溶液浓度下的光电流谱响应所得到的参数归 一化稳态光电流和表面态寿命,分析了界面电荷的直接转移和间接转移过程以及电荷 复合过程,并与多晶ＣｄＳｅ薄膜电极的结果进行了比较．     

强度调制光电流谱研究TiO2悬浮体系光催化机理

用强度调制光电流谱在光电化学电池中研究TiO2粒子悬浮液体系中的光催化反应机理,将强度按正弦变化的调制光照射TiO2粒子悬浮液,产生随频率变化的光电流响应,收集在Pt电极上,得到了光电流响应复数平面图,其上半圆和下半圆分别代表光生空穴和光生电子的阴极还原和阳极氧化反应过程.根据阴极和阳极光电流的幅度及上下半圆的特征频率分析讨论了光催化反应的机理及外加电压和H2O2添加物的影响.     

强度调制光电流谱/光电压谱及其应用

本文介绍了强度调制光电流谱/光电压谱(IMPS/IMVS)的基本原理和测试方法,综述了IMPS/IMVS在各个领域中的研究进展,特别是在染料敏化太阳电池和半导体电极中电子传输动力学的应用,评述了研究过程中的问题和存在的争议,并对IMPS/IMVS的未来应用进行了展望。     

利用强度调制光电流谱研究TiO2薄膜中染料不均匀分布现象

利用强度调制光电流谱(IMPS)研究了不同微结构的TiO2薄膜在不同的浸泡时间条件下的染料分布情况, 分析了染料分布对染料敏化太阳电池光伏性能的影响. 研究结果表明, TiO2薄膜中确实存在染料的不均匀分布现象, 染料不均匀分布对太阳电池的光伏性能有显著的影响.     

光电流法研究TiO2薄膜表面吸附氧对光催化活性的影响

采用溶胶-凝胶法制备了锐钛矿型和金红石型TiO2薄膜, 利用光电流和XPS技术研究了薄膜表面吸附氧对不同晶型TiO2光催化活性的影响. 并通过降解纯的环己烷溶液的实验来评估不同晶型TiO2的光催化活性. 结果表明, 在相同条件下, 锐钛矿型TiO2比金红石型具有明显的光催化活性. 这是由于锐钛矿型TiO2比金红石型TiO2具有较强的吸附氧的能力, 同时其光生电子与空穴的复合率相对较小所致.     

TiO2多孔薄膜电极的制备、微结构及光电化学性能研究

近年来,半导体纳晶多孔薄膜作为一类重要的纳米结构材料,其光电化学性质及功能特性的研究受到人们广泛关注。由于量子尺寸效应及介电限域效应,它们的光物理、光电化学性质以及电荷传输机理明显异于多晶及单晶体材料。通过简便快捷的涂敷、浸涂或溅射等方法,半导体纳晶多孔薄膜可以在导电衬底上形成。这些薄膜具有高度多孔性、大比表面,易于用有机功能分子或半导体超微粒进行表面修饰^[1-2],在太阳能转换^[2]、光电子器件或电子变色器件^[3]及光催化治理环境污染^[4]等方面具有潜在的应用前景。因此,在光电化学、半导体物理及材料科学领域里研究十分活跃。本文采用涂敷及浸涂提拉方法制备了四种具有不同多孔率及比表面的TiO₂薄膜电极,并对其晶型、表面形貌微结构及光电化学性能进行了研究。     

Analysis on dye-sensitized solar cells based on Fe-doped TiO2 by intensity-modulated photocurrent spectroscopy and Mott-Schottky

The pure TiO2 and Fe salts [Fe（C2O4）3,5H2O]-doped TiO2 electrodes were prepared by the hydrothermal method. The pure TiO2 or Fe-doped TiO2 slurry was coated onto the fluorine-doped tin oxide glass substrate by the Doctor Blade method and then sintered at 450 ℃. The Mott-Schottks, plot indicates that the fiat band potential of TiO2 was shifted positively after Fe-doped TiO2. The positive shift of the fiat band potential improves the driving force of injected electrons from the LUMO of the dye to the conduction band of TiO2. This study shows that photovoltaic efficiency increased by 22.9% from 6.07% to 7.46% compared to pure TiO2, and the fill factors increased from 0.53 to 0.63.